[发明专利]图形化传输层、包含该图形化传输层的OLED器件及制备方法

权利要求书

1.一种图形化传输层，其特征在于：

所述图形化传输层包括导电的高折射率区域和导电的低折射率区域，所述高折射率区域与所述低折射率区域的折射率的差值＞0.2。

2.根据权利要求1所述的图形化传输层，其特征在于：

所述高折射率区域与所述低折射率区域的折射率的差值＞0.3。

3.根据权利要求1或2所述的图形化传输层，其特征在于：

所述高折射率区域，折射率在1.8-3.0；所述低折射率区域，折射率在1.6-2.3。

4.根据权利要求3所述的图形化传输层，其特征在于：

所述折射率在1.8-3.0的区域，由单独一种折射率在1.8-3.0的高折射率材料制备，或者采用不同材料的混合物制备。

5.根据权利要求1或2所述的图形化传输层，其特征在于：

所述高折射率区域，折射率在1.6-2.3；所述低折射率区域，折射率在1.1-1.6。

6.根据权利要求5所述的图形化传输层，其特征在于：

所述高折射率区域，单独采用折射率在1.6-2.3的材料； 

或者采用折射率在1.1-1.6的材料与折射率在1.6-2.3的材料的混合物；所述折射率在1.1-1.6的材料占10-90重量份，所述折射率在1.6-2.3的材料占10-90重量份；

或者采用折射率在1.1-1.6的材料与折射率在1.8-3.0的材料的混合物；所述折射率在1.1-1.6的材料占10-90重量份，所述折射率在1.8-3.0的材料占10-90重量份；

或者采用折射率在1.6-2.3的材料与折射率在1.8-3.0的材料混合得到，所述折射率在1.6-2.3的材料占10-90重量份，所述折射率在1.8-3.0的材料占10-90重量份。

7.根据权利要求1或2所述的图形化传输层，其特征在于：

所述高折射率区域，折射率在1.8-3.0；所述低折射率区域，折射率在1.1-1.6。

8.根据权利要求7所述的图形化传输层，其特征在于：

所述折射率在1.1-1.6的低折射率区域，单独采用折射率在1.1-1.6的材料；

或者采用折射率在1.1-1.6的材料与折射率在1.6-2.3的材料的混合物；所述折射率在1.1-1.6的材料占10-90重量份，所述折射率在1.6-2.3的材料占10-90重量份；

或者采用折射率在1.1-1.6的材料与折射率在1.8-3.0的材料的混合物，所述折射率在1.1-1.6的材料占10-90重量份，所述折射率在1.8-3.0的材料占10-90重量份。

9.根据权利要求5-8任一所述的图形化传输层，其特征在于：

所述折射率为1.1-1.6的材料包含以下无机材料：MgF₂、CaF₂、SiO₂、BaF、B₂O₃、NaF、AlF₃、SiO、SiO₂、LiF、Na₃AlF₆、KF、CdF₂、DyF₃、LaF₃、WO₃中的一种或几种；

所述折射率为1.1-1.6的材料包含以下有机材料：Teflon、Pedot-pss中的一种或几种。

10.根据权利要求5-8任一所述的图形化传输层，其特征在于：

所述折射率为1.8-3.0的材料包含ZnSe、ZnS、TiO₂、Sb₂S₃、ZrO₂、BaO、BaS、BaTiO₃、Bi₂O₃、V₂O₅中的一种或几种。