[发明专利]封装载板及其制作方法有效
申请号: | 201210300938.6 | 申请日: | 2012-08-22 |
公开(公告)号: | CN103489791A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 王金胜;戴暐伦 | 申请(专利权)人: | 旭德科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/14 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装载 及其 制作方法 | ||
1.一种封装载板的制作方法,包括:
提供一支撑板,该支撑板上已配置有一金属层;
在该金属层上形成一图案化干膜层,该图案化干膜层暴露出部分该金属层;
以该图案化干膜层为一电镀掩模,电镀一表面处理层于该图案化干膜层所暴露出的部分该金属层上;
移除该图案化干膜层,以暴露出部分该金属层;以及
以该表面处理层为一蚀刻掩模,蚀刻该金属层未被该表面处理层所覆盖的部分,而形成一图案化金属层。
2.如权利要求1所述的封装载板的制作方法,其中形成该支撑板的步骤,包括:
提供两个该金属层,一该金属层通过一胶合剂局部结合于另一该金属层上;
分别于该些金属层上形成一导电层;
分别压合一粘着层及一位于该粘着层上的绝缘层于该些导电层上;以及
移除该胶合剂,而形成两个自独立且其上分别配置有该些金属层的该些支撑板,其中各该支撑板包括依序堆叠的该绝缘层、该粘着层以及该导电层,且该金属层位于该导电层上。
3.如权利要求2所述的封装载板的制作方法,其中该导电层的材质包括镍。
4.如权利要求2所述的封装载板的制作方法,其中形成该些导电层的方法包括电镀法。
5.如权利要求1所述的封装载板的制作方法,其中该表面处理层的材质包括镍或银。
6.一种封装载板,适于承载一芯片,该封装载板包括:
支撑板,具有上表面;
图案化金属层,配置于该支撑板上,且暴露出部分该上表面;以及
表面处理层,配置于该图案化金属层上,其中该芯片配置于该表面处理层上且与该表面处理层电连接。
7.如权利要求6所述的封装载板,其中该支撑板包括依序堆叠的绝缘层、粘着层以及导电层,而该图案化金属层位于该导电层上,且暴露出部分该导电层。
8.如权利要求6所述的封装载板,其中该表面处理层的材质包括镍或银。
9.如权利要求6所述的封装载板,其中该芯片通过打线接合而电连接至该表面处理层。
10.如权利要求6所述的封装载板,其中该芯片通过倒装接合而电连接至该表面处理层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造