[发明专利]一种Ni基NiO纳米片阵列薄膜电极及其制备方法

权利要求书

1.一种Ni基NiO纳米片阵列薄膜电极，由Ni基体和覆于所述Ni基体表面的NiO薄膜组成，其特征在于，所述NiO薄膜由垂直于所述Ni基体表面的原位生长的NiO纳米片阵列组成，所述NiO纳米片为厚度为20nm～25nm、边长为0.5μm～2.0μm的六边形片状结构。

2.一种制备如权利要求1所述Ni基NiO纳米片阵列薄膜电极的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将Ni基体加工成长度为10mm～40mm、宽度为10mm～30mm、厚度为0.1mm～3mm的片状，打磨抛光后置于有机溶剂中超声除油，然后用去离子水清洗干净，自然风干后得到预处理后的Ni基体；

步骤二、将步骤一中所述预处理后的Ni基体置于温度为45℃～65℃的电解液中，以预处理后的Ni基体为阳极，以Pt片为阴极，在电压为8V～12V的条件下阳极氧化10min～30min，断电后立即将Ni基体取出清洗，自然风干后，得到Ni基NiO多孔膜；所述电解液为硝酸水溶液；

步骤三、将步骤二中所述Ni基NiO多孔膜平放在位于水热反应釜中的聚四氟乙烯平台上，向水热反应釜和聚四氟乙烯平台之间的空隙中加入10mL～30mL的去离子水，将水热反应釜密封后置于烘箱内进行蒸汽热处理，断电冷却后得到Ni基NiO纳米片阵列薄膜电极。

3.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤一中所述Ni基体的质量纯度＞99.6％。

4.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤一中所述打磨抛光的具体工艺为：依次使用150#、600#、1000#的砂纸将加工成片状的Ni基体打磨光亮。

5.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤一中所述有机溶剂为无水甲醇、无水乙醇或丙酮。

6.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤二中所述硝酸水溶液中硝酸的摩尔浓度为0.28mol/L～0.35mol/L。

7.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤三中所述蒸汽热处理的温度为160℃～180℃。

8.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，步骤三中所述蒸汽热处理的时间为3h～20h。