[发明专利]一种显示装置、彩膜基板及其制作方法无效
申请号: | 201210168083.6 | 申请日: | 2012-05-25 |
公开(公告)号: | CN102707485A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 石岳 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 彩膜基板 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示装置、彩膜基板及其制作方法。
背景技术
随着科技的快速发展和社会的进步,TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)已经越来越广泛的被人们所应用,在工业生产和生活中起到至关重要的作用。通常,该TFT-LCD的主要结构是由阵列基板、彩膜基板、偏振片和背光源等部分组成。该阵列基板和彩膜基板对盒封装后滴入液晶以形成液晶盒。彩膜基板用来为显示器提供色彩,该彩膜基板的结构具体为:在玻璃基板上具有黑矩阵和彩色像素层,该彩色像素层具体为红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。彩色像素层上方设有用于平整彩色像素层的平坦层,该平坦层上设有用于支撑液晶盒的隔垫物。
现有的液晶显示器由于彩膜基板上的各结构均为实心结构而比较厚重,并且当液晶显示器处于高温、高压等特定环境下,由于液晶分子在高温和重力等综合作用下很容易发生下沉,进而使得液晶显示器的下边缘容易出现色不均匀的现象(即重力mura效应),极度影响该图像的显示效果。另外,目前彩膜基板中的彩色像素层通常只包括三原色(红、绿、蓝)像素层,使得图像的色彩显示过于单一,限定了图像的视觉效果,使得用户的观赏感不高。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是提供一种显示装置、彩膜基板及其制作方法,以克服现有的显示装置自身结构厚重、色彩单一且易出现重力mura效应等缺陷。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本发明一方面提供一种彩膜基板,包括:
基板,所述基板上设有黑矩阵和彩色像素层,所述彩色像素层上方设有隔垫物;
所述黑矩阵、彩色像素层和隔垫物中至少有一个为中空体结构。进一步地,彩色像素层至少包括红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。
进一步地,所述彩色像素层上设有平坦层。
另一方面,本发明提供一种显示装置,包括上述的彩膜基板。
再一方面,本发明还提供一种制作彩膜基板的方法,包括:
在基板上涂覆负性光刻胶采用构图工艺形成黑矩阵和彩色像素层;
在完成上述步骤的基板上涂覆负性光刻胶采用构图工艺形成隔垫物;
将所述黑矩阵、彩色像素层和隔垫物中至少一个制作成中空体结构。
进一步地,所述制作中空体结构的具体步骤包括:
在待制中空体结构的外表面涂覆正性光刻胶;
在正性光刻胶的表面上形成若干个孔隙;
使有机溶剂透过正性光刻胶上的孔隙,所述有机溶剂将待制中空体结构的负性光刻胶进行溶解,溶解后的产物通过孔隙流出。
进一步地,在形成隔垫物之前,还包括:在彩色像素层上采用构图工艺形成平坦层。
进一步地,所述彩色像素层至少包括红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下优点:本发明提供的显示装置、彩膜基板及其制作方法,采用将彩膜基板中的任意结构设置成中空体,可有效减轻彩膜基板的重量,进而减轻最终产品的重量,使得产品更加的轻薄化。同时,可有效避免显示装置出现重力mura效应,并且为在彩色像素层中添加其他色泽的颜料提供了实施基础,最大程度地提高其显示图像的品质,提高用户的体验感。
附图说明
图1为本发明实施例一彩膜基板结构示意图;
图2为本发明实施例一制作彩膜基板方法的流程图;
图3为本发明实施例二彩膜基板结构示意图;
图4为本发明实施例二制作彩膜基板方法的流程图;
图中:
1:基板;2:黑矩阵;3:红色像素层;4:绿色像素层;5:蓝色像素层;6:隔垫物;7:平坦层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例一
如图1所示,本实施例彩膜基板包括:基板1,基板1上设有黑矩阵2和彩色像素层,该彩色像素层至少包括红色像素层3、绿色像素层4和蓝色像素层5。彩色像素层上方设有隔垫物6;该彩色像素层上设有平坦层7,用于平坦该彩色像素层的表面。
该黑矩阵2、彩色像素层和隔垫物6中至少有一个为中空体。本实施例中设置隔垫物6为中空体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210168083.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。