[发明专利]一种显示装置、彩膜基板及其制作方法无效
| 申请号： | 201210168083.6 | 申请日： | 2012-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN102707485A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 石岳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显示装置 彩膜基板 及其 制作方法 | ||
1.一种彩膜基板，包括：基板，所述基板上设有黑矩阵和彩色像素层，所述彩色像素层上方设有隔垫物，其特征在于，
所述黑矩阵、彩色像素层和隔垫物中至少有一个为中空体结构。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色像素层至少包括红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色像素层上设有平坦层。
4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的彩膜基板。
5.一种制作彩膜基板的方法，其特征在于，包括：
在基板上涂覆负性光刻胶采用构图工艺形成黑矩阵和彩色像素层；
在完成上述步骤的基板上涂覆负性光刻胶采用构图工艺形成隔垫物；
将所述黑矩阵、彩色像素层和隔垫物中至少一个制作成中空体结构。
6.如权利要求5所述的制作彩膜基板的方法，其特征在于，所述制作中空体结构的具体步骤包括：
在待制中空体结构的外表面涂覆正性光刻胶；
在正性光刻胶的表面上形成若干个孔隙；
使有机溶剂透过正性光刻胶上的孔隙，所述有机溶剂将待制中空体结构的负性光刻胶进行溶解，溶解后的产物通过孔隙流出。
7.如权利要求5所述的制作彩膜基板的方法，其特征在于，在形成隔垫物之前，还包括：在彩色像素层上采用构图工艺形成平坦层。
8.如权利要求5所述的制作彩膜基板的方法，其特征在于，所述彩色像素层至少包括红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。
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