[发明专利]利用可控脉冲激光加工纳米结构的方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种利用激光加工半导体材料的方法及装置，尤其是一种利用可控脉冲激光加工纳米结构的方法及装置。

背景技术

当今的信息光子化发展进入芯片上的光电子集成与芯片级的全光化，这是实现光量子信息处理和光量子信息计算的关键，而作出硅芯片上的用于光互联的光源与传播节点是一项瓶颈性的工作。另外，让半导体发光与照明走进千家万户势在必行，是低碳与环保的需求。目前，急需高亮度发光材料与元器件的制备和加工技术。

当前，常见的发光材料与元器件的制备和加工传统技术是分子束外延（MBE）技术和化学气相沉积（CVD）技术，但是，其成本较高且较难控制，故不易将其从实验室推广至产业化。

发明内容

本发明的目的是：提供一种利用可控脉冲激光加工纳米结构的方法及装置，它可以加工高亮度的发光材料和硅基纳米发光材料，并且成本低廉，易于产业化，以克服现有技术的不足。

本发明是这样实现的：利用可控脉冲激光加工纳米结构的方法，将脉冲激光头发出的脉冲激光通过PLE透镜射入真空腔内，使脉冲激光会聚在真空腔体内的样品表面，对样品进行加工；同时用光纤探头在线探测产生的等离子体辉光中电子光谱的变化，通过改变加工气氛控制等离子体波的震荡频率，从而实现可控脉冲激光在样品上刻蚀各种纳米结构。

在样品刻蚀纳米结构的加工完成后，将脉冲激光头发出的脉冲激光通过PLD激光透镜射入真空腔内，使脉冲激光会聚在靶材上，利用PLD技术对已刻蚀出纳米结构的样品进行PLD复合加工，可制备各种量子阱和超晶格结构；并用光纤探头同步探测，实现可控脉冲激光等离子体波在刻蚀好的样品上的沉积加工和调控气氛沉积加工。可以通过切换激光透镜实现PLE工艺与PLD工艺的复合加工。

完成脉冲激光加工后，利用双向功能光纤探头传输紫外波长的激发光照射发光样品，实现发光样品的在线光致荧光（PL）光谱检测。这样可以实现在线发光物质的表征与加工质量测定，对发光物质加工的质量监控是关键性的。

所述的脉冲激光的波长为紫外、可见与红外三个波段，脉冲激光的脉宽控制在10-100ns。所选脉冲激光的参量不同，可以加工出不同尺寸的纳米结构。

利用可控脉冲激光加工纳米结构的装置，包括真空腔体，在真空腔体的侧面设有激光窗口，在激光窗口上设有腔入射镜，在激光窗口外设有PLE激光透镜；在真空腔体内设有样品台，样品台与PLE激光透镜的光路对应，在样品台的后端连接有取样柄；在激光窗口外设有光纤探头，在真空腔体外设有光谱仪，光纤探头与光谱仪连接。

在激光窗口外设有PLD激光透镜，在真空腔体内设有靶台，靶台与PLD激光透镜的光路对应。

通过切换光路，可以实现PLE加工、PLD加工或PLE与PLD的复合加工。

光纤探头为双向光纤探头，在光纤探头上连接有LD激发光源。双向光纤探头可以发出激发光对真空腔体内的样品进行照射，进行样品的光致荧光（PL）光谱检测。

最近发展起来的脉冲激光等离子体沉积（PLD）技术是一项较好的制膜技术，我们将其利用研发出具有脉冲激光等离子体沉积（PLD）和脉冲激光等离子体刻蚀（PLE）复合加工功能的新型光子加工技术，可以制备与加工各种低维纳米结构材料，包括半导体的量子点、量子线和量子面及其量子超晶格结构材料，特别是制备与加工高亮度的发光材料和硅基纳米发光材料。

本发明的工作原理是：脉冲激光与半导体样品相互作用可以形成的表面等离子体波，该等离子体波的频率与脉冲激光的脉宽、脉冲激光的功率及其等离子体中电子的密度等相关，在激光打出的Purcell腔体中可形成驻波，由此刻蚀微纳结构，特别是用纳秒脉冲激光可制备硅量子点和量子超晶格结构；控制在不同的氛围下用脉冲激光加工，可以激活微纳结构的表面或界面发光中心，其原理是在半导体微纳结构展宽的能带带隙中形成局域态来构建发光中心，特别是激活硅量子点的发光中心，例如用氧气、氮气或空气等在硅量子点表面形成Si=O、Si-O-Si、Si-N或Si-NO键合构筑硅量子点的发光中心，可以获取不同发光波长的发光材料；光子加工的气氛可以根据发光工作物质的要求进行可控的激活操作，可用光纤探头探测其等离子体辉光在不同气氛中的变化实现精确调控；调用光纤探头的双向功能，用LD激发光照射样品，可实现样品的在线光致荧光PL光谱检测。