[发明专利]基板清洗装置及方法、显示装置的制造装置及其制造方法

权利要求书

1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：

输送机构，输送基板；

旋转刷，由通过与所述基板摩擦而带负电的材料形成，通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子；和

第一清洗液供给部，向所述旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液。

2.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：

输送机构，输送玻璃制的基板；

旋转刷，由通过与所述基板摩擦而带负电的尼龙形成，通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子；和

第一清洗液供给部，向所述旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液。

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述第一清洗液供给部从所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置之前起，向所述旋转刷供给所述清洗液。

4.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

除了所述第一清洗液供给部，还具备第二清洗液供给部，所述第二清洗液供给部向位于与所述旋转刷的接触位置上的所述基板供给所述清洗液；

在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置的情况下，所述第一清洗液供给部停止所述清洗液的供给，所述第二清洗液供给部供给所述清洗液。

5.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述第一清洗液供给部被设置成能够切换清洗液供给方向，在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置之前，向所述旋转刷供给所述清洗液，在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置时，切换清洗液供给方向，向位于与所述旋转刷的接触位置上的所述基板供给所述清洗液。

6.一种基板清洗方法，其特征在于，具备：

输送基板的工序；和

向旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液的工序，所述旋转刷由通过与所述基板摩擦而带负电的材料形成，并通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子。

7.一种基板清洗方法，其特征在于，具备：

输送玻璃制的基板的工序；和

向旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液的工序，所述旋转刷由通过与所述基板摩擦而带负电的尼龙形成，并通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子。

8.根据权利要求6或7所述的基板清洗方法，其特征在于，

从所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置之前起，进行向所述旋转刷的所述清洗液的供给。

9.根据权利要求6或7所述的基板清洗方法，其特征在于，

具有向位于与所述旋转刷的接触位置上的所述基板供给所述清洗液的工序，在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置时，停止向所述旋转刷的所述清洗液的供给，并且进行向所述基板的所述清洗液的供给。

10.根据权利要求6或7所述的基板清洗方法，其特征在于，

切换所述清洗液的供给方向，在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置之前，向所述旋转刷供给所述清洗液，在所述基板被输送到与所述旋转刷的接触位置时，向位于与所述旋转刷的接触位置上的所述基板供给所述清洗液。

11.一种显示装置的制造装置，具备对所输送的显示装置用基板进行清洗的基板清洗装置，其特征在于，

所述基板清洗装置是权利要求1或2所述的基板清洗装置。

12.一种显示装置的制造方法，具有对所输送的显示装置用基板进行清洗的基板清洗工序，其特征在于，

所述基板清洗工序具有向旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液的工序，所述旋转刷由通过与所述基板摩擦而带负电的材料形成，并通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子。

13.一种显示装置的制造方法，具有对所输送的显示装置用的玻璃制基板进行清洗的基板清洗工序，其特征在于，

所述基板清洗工序具有向旋转刷供给含有带负电的微小气泡的清洗液的工序，所述旋转刷由通过与所述基板摩擦而带负电的尼龙形成，并通过与所述基板接触并进行旋转来除去所述基板上附着的污染粒子。