[发明专利]布局图形校正方法

权利要求书

1.一种布局图形校正方法，其特征在于，包括：

提供布局图形；

对所述布局图形各边进行第一分割；

对第一分割后的分割边进行第一光学邻近校正，得到布局中间图形，所述布局中间图形模拟形成的实际图形与目标图形之间存在预定误差；

对所述布局中间图形各边进行第二分割；

对第二分割后的分割边进行第二光学邻近校正，得到布局校正图形。

2.如权利要求1所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述预定误差为所述布局图形模拟形成的实际图形与目标图形的误差的10％～20％。

3.如权利要求1所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第一光学邻近校正、第二光学邻近的参数包括：迭代次数，所述迭代次数为对分割边进行移动的次数。

4.如权利要求3所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第一光学邻近校正包括：在模拟光学环境和布局图形周边环境下，模拟布局图形形成的实际图形，根据实际图形，移动第一分割后的分割边第一预定迭代次数得到布局中间图形。

5.如权利要求4所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第二光学邻近校正包括：在模拟光学环境和布局图形周边环境下，模拟布局中间图形形成的另一实际图形，根据另一实际图形，移动第二分割后的分割边第二预定迭代次数得到布局校正图形，所述布局校正图形模拟形成的实际图形与目标图形的误差在预定范围内。

6.如权利要求4所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第一预定迭代次数为仅进行一次光学邻近校正时所需迭代次数的1/3～2/3。

7.如权利要求5所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第二预定迭代次数为仅进行一次光学邻近校正时所需迭代次数的1/3～2/3。

8.如权利要求1所述的布局图形校正方法，其特征在于，还包括，在所述布局图形周边添加次分辨率辅助图形，进行第一光学邻近校正时，考虑所述次分辨率辅助图形对布局图形周边环境的影响；进行第二光学邻近校正时，考虑所述次分辨率辅助图形对布局中间图形周边环境的影响。

9.如权利要求8所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述次分辨率辅助图形为方形和/或矩形。

10.如权利要求1所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述布局图形为通孔图形或者条状图形。

11.如权利要求1所述的布局图形校正方法，其特征在于，所述第一分割和第二分割的依据为尼奎斯特采样原理。