[发明专利]具有规则形状的石墨烯单晶畴的制备方法无效
申请号: | 201110304832.9 | 申请日: | 2011-10-11 |
公开(公告)号: | CN102345168A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 王立;陈秀;刘拉程;柳树毅 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C30B29/02 | 分类号: | C30B29/02;C30B29/64;C30B1/10 |
代理公司: | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人: | 刘凌峰 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 规则 形状 石墨 烯单晶畴 制备 方法 | ||
技术领域
本发明描述了一种通过自组装与低温热处理相结合技术制备具有规则形状的石墨烯单晶畴方法。
背景技术
石墨烯自2004年在实验室出现以后,凭借其独特的电学性能,力学性能,磁学性能,超强度,超导热性,独特的宏观量子效应,生化性能等引起了全世界的研究热潮。而首先制备出石墨烯的英国曼彻斯特大学两位科学家安德烈·杰姆和克斯特亚·诺沃塞洛夫因此而获得了2010年的诺贝尔物理学奖。经过这几年对石墨烯的研究,人们发现,石墨烯进入工业化生产领域的时代已经到了。
目前制备石墨烯的方法主要有以下几种:微机械分离法,取向附生法,加热SiC法,化学气相沉积的方法(CVD),化学还原法,化学解理法。而使用这些方法都很难使石墨烯生长成有规则的形状和很小尺寸(10nm以下)的单晶畴。然而,石墨烯基纳米器件的制备工艺中,尺寸在纳米范畴并具有规则形状的单晶石墨烯是必不可少的。最重要的是采用常规方法制备不出有规则形状的石墨烯单晶畴。
发明内容
本发明提供一种具有规则形状的石墨烯单晶畴的制备方法,
提供了一种具有规则形状的石墨烯单晶畴的制备方法,所述方法包括:在金属表面上通过分子自组装技术和热处理方法使芳香族化合物能够形成有规则形状的石墨烯单晶畴。
具体的过程为采用有机分子沉积方法,将有机分子淀积到金属表面,用热处理的方法使碳源裂解从而使碳在金属表面上形成具有规则形状的石墨烯单晶畴。
其中碳源包括:芳香族化合物其族内的一种或多种的组合物,或者芳香族化合物其族内的一种或者多种与其他物质的组合物。
其中金属表面包括:金属表面包括由元素周期表中碱金属元素、碱土金属元素、类金属元素、过渡金属元素、镧系元素、锕系元素以及主族元素中的铝、镓、铟、锡、铊、铅、铋元素中的一种元素或者多种元素组成的金属表面。
其中热处理方法包括:红外线加热、电磁加热、微波加热、电阻炉、感应加热、辐射加热、电子束轰击加热、激光、等离子体、表面等离子体激元等。
其中热处理的时间及温度区间:在50C至300°C之间的温度,执行热处理0.001小时至100小时之间的时间。
其中规则形状包括:三角形,四边形,五边形,六边形,七边形,八边形,九边形,十边形,以及包含前述形状中一种或者多种形状的组合。
其中单一的规则形状的石墨烯单晶畴的长度尺寸在1nm~500nm,面积范围为1nm2~10000 nm2。
其中生长时的环境气压在10-10pa-100pa之间。
其中热处理时的环境气压在10-10pa-100pa之间。
本发明的技术效果是:该发明弥补了传统刻蚀方法无法实现尺度在10nm以下石墨烯器件微加工的不足,以及满足了制备各种石墨烯器件所需的形状和单晶度要求。
附图说明
通过参考附图进一步详细地描述上面的和其它方面的特征和优点的示例性实施例。
图1示意性示出根据有机分子沉积技术制备具有规则形状的石墨烯单晶畴的方法。
图 2示意性示出根据示例1制备的有规则形状的石墨烯单晶畴的STM(扫描隧道显微镜)图像。
图3示意性示出根据示例1制备的有规则形状的石墨烯单晶畴的高分辨率STM图像。
具体实施方案
下文中,将参考示出了示例实施例的附图来更充分的描述是实施例。
图1是采用有机分子束沉积技术将碳源(芳香族化合物)生长在金属表面上进行分子自组装2,通过热处理的方法使碳源裂解在金属表面1上形成有规则形状的石墨烯单晶畴3的示意图。
其中碳源包括:碳源包含芳香族化合物其族内的一种或多种的组合物,或者芳香族化合物其族内的一种或者多种与其他物质的组合物。
其中金属表面包括:金属表面包括由元素周期表中碱金属元素、碱土金属元素、类金属元素、过渡金属元素、镧系元素、锕系元素以及主族元素中的铝、镓、铟、锡、铊、铅、铋元素中的一种元素或者多种元素组成的金属表面。
其中热处理方法有:红外线加热、电磁加热、电子束轰击加热、微波加热、电阻炉、感应加热、辐射加热、激光、等离子体、表面等离激元等等。或者通过包含前述的加热方法中的至少一种的组合执行热处理,而没有限制。
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