[发明专利]薄膜工艺设备及其制作方法

权利要求书

1.一种薄膜工艺设备，包括：

一底板，具有一第一面及一相对该第一面的一第二面，而该第一面用以承载一基板；

一反应室，为一密闭空间，具有一顶部及相对该顶部的一底部；

一供气机构，配置于该反应室内的该顶部；及

一输送机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边上，供输送该底板及该基板至该反应室中；

一加热机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边之间，与该底板该第二面相接触，用以加热该基板。

2.一种薄膜工艺设备，包括：

一底板，具有一第一面及一相对该第一面的一第二面，而该第一面用以承载一基板；

一反应室，为一密闭空间，具有一顶部及相对该顶部的一底部；

一供气机构，配置于该反应室内的该顶部；及

一输送机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边上，供输送该底板及该基板至该反应室中；

一加热机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边之间，与该底板该第二面相接触，且该加热机构被一传动机构带动于该反应室的该顶部与该底部之间移动。

3.依据权利要求1或2所述的薄膜工艺设备，其中该加热机构内部具有一储存区。

4.依据权利要求3所述的薄膜工艺设备，其中该加热机构的该储存区中储存热油。

5.依据权利要求3所述的薄膜工艺设备，其中该加热机构中配置一循环管路及一泵，通过该泵来将热源输送至循环管路中。

6.依据权利要求1或2所述的薄膜工艺设备，其中该供气机构被一传动机构带动于该顶部的两侧间移动。

7.依据权利要求1或2所述的薄膜工艺设备，其中该供气机构被一传动机构带动于该顶部与该底部之间移动。

8.依据权利要求1或2所述的薄膜工艺设备，其进一步于该反应室的该顶部上配合多个感应装置。

9.一种用以沉积一薄膜于一基板上的薄膜制作方法，包括：

提供一底板，其具有一第一面及一相对该第一面的一第二面，而该第一面用以承载一基板；

提供一反应室，为一密闭空间，具有一顶部及相对该顶部的一底部；

提供一供气机构，配置于该反应室内的该顶部，可通过该供气机构向下喷出不同的气体；

提供一输送机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边上，供输送该底板及该基板至该反应室中；

提供一加热机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边之间，与该底板该第二面相接触，用以加热该基板。

10.依据权利要求9所述的薄膜制作方法，其中该加热机构内部具有一储存区。

11.依据权利要求9所述的薄膜制作方法，其中该加热机构中配置一循环管路及一泵，通过该泵来将热源输送至循环管路中。

12.依据权利要求9所述的薄膜制作方法，其中该供气机构被一传动机构带动于该顶部的两侧间移动。

13.依据权利要求9所述的薄膜制作方法，其中该供气机构被一传动机构带动于该顶部与该底部之间移动。

14.依据权利要求9所述的薄膜制作方法，其中该加热机构被一传动机构带动于该反应室的该顶部与该底部之间移动。

15.一种薄膜工艺系统，包括：

一底板，具有一第一面及一相对该第一面的一第二面，而该第一面用以承载一基板；

一第一反应室，该第一反应室配置一加温设备；

一第二反应室，经由一阀门与该第一反应室隔离，该第二反应室具有一顶部及相对该顶部的一底部；

一第三反应室，经由另一阀门与该第二反应室隔离，用以提供一降温环境；

一输送机构，配置于该第一反应室、该第二反应室及该第三反应室内的该底部的两侧边上，用以输送该底板及该基板通过每一该反应室；

其中该薄膜工艺系统的特征在于：

一供气机构，配置于该第二反应室内的该顶部，可通过该供气机构向下喷出不同的气体；

一加热机构，配置于该第二反应室内的该底部的两侧边之间，与该底板该第二面相接触，用以加热该基板。

16.依据权利要求15所述的薄膜工艺系统，其中该加热机构内部具有一热源储存区。