[发明专利]热处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种热处理装置，尤其涉及一种用于进行硅晶圆的氧化、扩散、CVD(Che mical Vapor Deposition，化学气相沉积)等热处理工序的具有真空绝热层的热处理装置。

背景技术

以往作为此种类的热处理装置，有专利文献1中所公开的纵型热处理装置。该纵型热处理装置包括以从周围对用于收纳要加热处理的晶圆的空间进行环绕的方式竖直设置的圆筒形的反应管，以及环绕反应管且用于对反应管内进行加热的加热器。而且，在加热器的外周设有形成真空绝热层的真空绝热层形成体，利用该真空绝热层形成体的真空绝热层来降低加热器的功耗。

由此，以往的热处理装置包括具有真空绝热层的真空绝热层形成体，将真空绝热层形成体的真空绝热层内保持为真空。在真空绝热层内形成为高真空的情况下，能够谋求绝热性的提高，但有时会在构成真空绝热层形成体的壁面，尤其是外侧壁面上产生弯曲。人们也考虑加厚外侧壁面的壁厚以防止这样的外侧壁面的弯曲，但这样会增大真空绝热层形成体的制造成本。

专利文献

专利文献1：日本特开平7-283160号公报；

专利文献2：日本特开2004-214283号公报。

发明内容

本发明是考虑了这些点而做出的，目的是提供一种具有形成真空绝热层以降低加热器的功耗的真空绝热层形成体的、且能够谋求真空绝热层形成体的制造成本的降低的热处理装置。

本技术方案的热处理装置的特征在于，包括：于下端部具有凸缘且下方开口的筒状的反应管；装载晶圆而被收纳于反应管内的舟皿；环绕反应管且用于对反应管内进行加热的加热器；真空绝热层形成体，其设于加热器外周，真空绝热层形成体具有内侧壳和外侧壳，在该内侧壳和该外侧壳之间形成真空绝热层；内侧壳和外侧壳分别具有圆筒体和覆盖圆筒体上部的顶板，外侧壳由薄板构成，通过被实施塑性加工而具有波浪状截面。

本技术方案的热处理装置的特征在于，包括：于下端部具有凸缘且下方开口的筒状的反应管；装载晶圆而被收纳于反应管内的舟皿；环绕反应管且用于对反应管内进行加热的加热器；真空绝热层形成体，其设于加热器外周，真空绝热层形成体具有内侧壳和外侧壳，在该内侧壳和该外侧壳之间形成真空绝热层；内侧壳和外侧壳分别具有圆筒体和覆盖圆筒体上部的顶板，外侧壳由薄板构成，在外侧壳上设有多个沿圆周方向延伸的加强肋。

本技术方案的热处理装置的特征在于，内侧壳的下端部和外侧壳的下端部通过底板连接。

本技术方案的热处理装置的特征在于，对内侧壳的外表面和外侧壳的内表面进行研磨，从而在内侧壳的外表面和外侧壳的内表面形成反射面。

本技术方案的热处理装置的特征在于：加强肋设置于外侧壳的内表面上。

本技术方案的热处理装置的特征在于：内侧壳和外侧壳之间形成有空心。

本技术方案的热处理装置的特征在于：在内侧壳和外侧壳之间设有多个互相平行配置的反射板。

本技术方案的热处理装置的特征在于：各反射板由具有折皱的箔材构成。

本技术方案的热处理装置的特征在于：在内侧壳和外侧壳之间设有反射板和附加的绝热材料。

本技术方案的热处理装置的特征在于：内侧壳和外侧壳利用由哈斯特洛依合金、因科镍合金、SUS310构成的薄板材料形成。

根据本发明，外侧壳由薄板构成，通过实施塑性加工从而使该外侧壳具有波浪状截面或在外侧壳上设有加强肋，因此能够提高外侧壳的弯曲强度。因此即使真空绝热层形成体内部的真空度较高，外侧壳也不会发生弯曲。

附图说明

图1是表示根据本发明的热处理装置的一个实施方式的纵截面图；

图2是图1所表示的热处理装置的放大图；

图3是表示根据本发明的热处理装置的变形例的图；

图4是表示根据本发明的热处理装置的变形例的图；

图5是表示根据本发明的热处理装置的变形例的图，是与图2对应的图；

图6是表示根据本发明的热处理装置的变形例的图，是与图2对应的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。此处，图1是表示根据本发明的热处理装置的一个实施方式的概略截面图。图2是图1的放大图。