[发明专利]P型MOS存储单元有效

专利信息
申请号: 201110009103.0 申请日: 2011-01-17
公开(公告)号: CN102122662A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 董耀旗;胡剑;李荣林;宗登刚;徐爱斌 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/788;H01L29/423;G11C16/04
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: mos 存储 单元
【权利要求书】:

1.一种P型MOS存储单元,其特征在于包括:

在衬底中依次布置的源极有源区、栅极有源区、以及漏极有源区;

在从源极有源区至漏极有源区的方向上,在衬底上依次布置第一浮栅极、选择栅极、以及第二浮栅极;

布置在第一浮栅极上的第一控制栅极;以及

布置在第二浮栅极上的第二控制栅极。

2.根据权利要求1所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中第一浮栅极、第一控制栅极、选择栅极、第二浮栅极以及第二控制栅极布置在所述栅极有源区上方。

3.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述源极有源区与存储器的第一位线电连接。

4.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述漏极有源区与存储器的第二位线电连接。

5.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述第一控制栅极与存储器的第一字线电连接。

6.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述第二控制栅极与存储器的第二字线电连接。

7.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述源极有源区为P型掺杂的区域,所述栅极有源区为N型掺杂的区域,以及所述漏极有源区为P型掺杂的区域。

8.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述衬底为P型衬底,并且源极有源区、栅极有源区、以及漏极有源区被布置在所述P型衬底中的N阱中。

9.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述衬底为N型衬底。

10.根据权利要求1或2所述的P型MOS存储单元,其特征在于,其中所述P型MOS存储单元被用于闪存存储器。

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