[发明专利]半导体装置及半导体装置的驱动方法

权利要求书

1.一种半导体装置，包括；

设置在衬底上的第一光传感器，该第一光传感器包括：

光电二极管；

第一晶体管；以及

包括氧化物半导体的第二晶体管，

其中，所述光电二极管的一个电极电连接于所述第二晶体管的源极和漏极中的一个，

并且，所述第二晶体管的源极和漏极中的另一个电连接于所述第一晶体管的栅极。

2.根据权利要求1所述的半导体装置，

其中，所述光电二极管和所述第一晶体管形成在同一表面上，

所述第二晶体管隔着绝缘膜形成在所述光电二极管和所述第一晶体管上，

并且，所述第二晶体管至少部分重叠于所述光电二极管。

3.根据权利要求1所述的半导体装置，还包括第三晶体管，

其中，所述第三晶体管的源极和漏极中的一个电连接于所述第一晶体管的源极和漏极中的一个，

并且，所述第三晶体管的源极和漏极中的另一个电连接于所述第一晶体管的栅极。

4.根据权利要求1所述的半导体装置，还包括第二光传感器，

其中，所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置为同时进行复位工作，同时进行累积工作，依次进行选择工作。

5.根据权利要求4所述的半导体装置，其中所述选择工作的总时间比所述累积工作的时间长。

6.根据权利要求4所述的半导体装置，还包括特定的颜色的光源，

其中，所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置为对所述特定的颜色同时进行所述复位工作，对所述特定的颜色同时进行所述累积工作，依次进行所述选择工作。

7.根据权利要求4所述的半导体装置，还包括：

至少包括第一颜色和第二颜色的多个颜色的光源；

第三光传感器；以及

第四光传感器，

其中，所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置为在使用所述第一颜色的光源时同时进行所述累积工作，

并且，所述第三光传感器和所述第四光传感器被配置为在使用所述第二颜色的光源时同时进行累积工作。

8.根据权利要求1所述的半导体装置，还包括第二光传感器，

其中，所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置为在一次成像所需的期间中在复位工作之后反复多次进行累积工作和选择工作。

9.根据权利要求8所述的半导体装置，其中所述选择工作的总时间比从所述累积工作的开始到所述累积工作的结束的时间长。

10.一种半导体装置，包括；

设置在衬底上的显示元件；

设置在所述衬底上的第一光传感器，该第一光传感器包括：

光电二极管；

第一晶体管；以及

包括氧化物半导体的第二晶体管，

其中，所述光电二极管的一个电极电连接于所述第二晶体管的源极和漏极中的一个，

并且，所述第二晶体管的源极和漏极中的另一个电连接于所述第一晶体管的栅极。

11.根据权利要求10所述的半导体装置，

其中，所述光电二极管和所述第一晶体管形成在同一表面上，

所述第二晶体管隔着绝缘膜形成在所述光电二极管和所述第一晶体管上，

并且，所述第二晶体管至少部分重叠于所述光电二极管。

12.根据权利要求10所述的半导体装置，还包括第三晶体管，

其中，所述第三晶体管的源极和漏极中的一个电连接于所述第一晶体管的源极和漏极中的一个，

并且，所述第三晶体管的源极和漏极中的另一个电连接于所述第一晶体管的栅极。

13.根据权利要求10所述的半导体装置，还包括第二光传感器，

其中，所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置为同时进行复位工作，同时进行累积工作，依次进行选择工作。

14.根据权利要求13所述的半导体装置，其中所述选择工作的总时间比所述累积工作的时间长。