[实用新型]一种高频晶闸管无效
申请号: | 201020626427.X | 申请日: | 2010-11-26 |
公开(公告)号: | CN201877430U | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
发明(设计)人: | 夏吉夫;崔振森;潘福泉 | 申请(专利权)人: | 宜昌市晶石电力电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/04;H01L29/06 |
代理公司: | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人: | 成钢 |
地址: | 443000 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高频 晶闸管 | ||
1.一种高频晶闸管,包括晶闸管,其特征在于:单晶硅片(1)由P+P1N1P2N2型非对称结构构成,N2区(4)的图形为渐开线图形。
2.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:单晶硅片(1)采用N型(100)晶向低阻单晶硅片。
3.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:P+层(5’)由P层(5)研磨减薄扩散后构成。
4.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:P+层(5’)厚度为15μm,P层(5)厚度为60μm。
5.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:单晶硅片(1)的台面造型中,正斜角磨角角度θ1大小为:60o≦θ1≦80o,负斜角磨角角度θ2大小: 3.5°≦θ2≦4.5°。
6.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:P+层(5’)端面上设有钛镍金蒸镀层(3),厚度分别为:Ti: 0.2μm、Ni: 0.5μm、Au: 0.1μm。
7.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:渐开线图形为2~8条。
8.根据权利要求1所述的一种高频晶闸管,其特征在于:渐开线附近分布的短路点间距D=0.4mm,直径d=0.08mm。
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