[发明专利]XRD和XRF的组合装置有效
| 申请号: | 201010569788.X | 申请日: | 2010-10-22 |
| 公开(公告)号: | CN102128845A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
| 发明(设计)人: | A·卡切科;R·麦耶;W·范登霍根豪夫 | 申请(专利权)人: | 帕纳科有限公司 |
| 主分类号: | G01N23/20 | 分类号: | G01N23/20;G01N23/223;G01N23/207 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
| 地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | xrd xrf 组合 装置 | ||
1.一种X射线衍射XRD和X射线荧光XRF的组合装置,包括:
X射线源,该X射线源提供同时在连续波长范围之上的辐射,该辐射包括多条特征线;
光束调节器系统,被设置为在入射光束方向上将入射X射线束限定在衍射平面上;
样品保持器,被设置为将样品保持在入射X射线束中,该样品保持器限定样品平面;
XRF端口,被定位为用安装在该端口上的X射线检测系统测量离开样品的X射线以执行荧光分析;
XRD端口,被设置在与入射光束方向成固定的2θ角处,以便测量衍射的X射线,其中,2θ在0.1°至20°的范围内;以及
光束调节器系统,被设置为与XRD端口对准,以选择与入射光束方向成2θ角度的衍射的X射线。
2.根据权利要求1所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中X射线源适于提供在至少10keV宽度且扩展到10keV以上的波长范围之上的X射线。
3.根据权利要求1或2所述的X射线衍射和X射线荧光组合装置,其中固定的角度2θ在5°至12°范围内。
4.根据权利要求1或2所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中固定的角度2θ在0.1°至5°范围内。
5.根据前述任一权利要求所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,还包括:安装在XRD端口上的能量色散型XRD检测系统;和安装在XRF端口上的能量色散型XRF检测系统。
6.根据权利要求5所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中XRD检测系统包括测角器、至少一个晶体和至少一个检测器。
7.根据权利要求5所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中XRD检测系统包括波长色散型元件和检测器。
8.根据权利要求7所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中检测器是位置敏感检测器。
9.根据权利要求5所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,其中XRD检测系统包括可调节用来在所选能量处检测能量的能量选择检测器。
10.根据前述任一权利要求所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,包括多个XRF端口。
11.根据前述任一权利要求所述的X射线衍射和X射线荧光的组装置,包括多个XRD端口,其中XRF检测系统包括测角器、至少一个晶体和至少一个检测器。
12.根据前述任一权利要求所述的X射线衍射和X射线荧光的组合装置,包括多个XRD端口。
13.一种操作X射线衍射和X射线荧光的组合装置的方法,该组合装置包括X射线源、光束调节器系统、样品保持器、X射线荧光(XRF)端口和X射线衍射(XRD)端口,该方法包括:
将样品安装到样品保持器上;
提供来自X射线源的、同时在连续波长范围之上的辐射,该辐射包括多条特征线;
将在入射光束方向上入射到样品上的入射X射线束限定在衍射平面上;
测量XRF端口处的X射线,以便荧光分析;
选择与入射光束方向成固定的2θ角度的衍射的X射线;以及
测量作为能量函数的所选的衍射的X射线的强度。
14.根据权利要求13所述的方法,包括提供来自X射线源的、在至少10keV宽度且扩展到10keV以上的波长范围之上的X射线辐射。
15.根据权利要求13或14所述的方法,其中固定的角度2θ在5°至12°范围内和/或在0.1°至5°范围内。
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