[发明专利]用于含金属膜的第4族金属前体

权利要求书

1.由以下通式表示的第4族金属前体：

其中M是第4族金属，选自下组：Ti、Zr和Hf；其中R¹选自 下组：直链或支链C_1-10烷基；R²选自下组：支链C_3-10烷基；R³选自 下组：氢和C_1-10烷基。

2.根据权利要求1所述的前体，其中R¹选自下组：甲基、乙 基和正丙基。

3.根据权利要求1所述的前体，其中R²是叔丁基。

4.根据权利要求3所述的前体，其中R³是氢。

5.根据权利要求1所述的前体，其中M是锆且R¹选自支链C_3-10烷基。

6.根据权利要求1所述的前体，其中M是钛。

7.根据权利要求6所述的前体，其中R¹选自直链C_1-10烷基。

8.由如下通式表示的钛前体：

其中R¹选自下组：甲基、乙基和正丙基。

9.权利要求1所述的前体和溶剂的溶液。

10.根据权利要求9所述的溶液，其中该溶剂选自下组：辛烷、 乙基环己烷、十二烷、甲苯、二甲苯、三甲苯、二乙基苯及其混合 物。

11.沉积含第4族金属膜的方法，包括：使用由以下通式表示 的第4族金属前体：

其中M是第4族金属，选自下组：Ti、Zr和Hf；其中R¹选自下组： 直链或支链C_1-10烷基；R²选自下组：支链C_3-10烷基；R³选自下组：氢 和C_1-10烷基。

12.根据权利要求11所述的方法，其中R¹选自下组：甲基、乙 基和正丙基。

13.根据权利要求11所述的方法，其中R²选自下组：异丙基、 叔丁基、仲丁基、异丁基和叔戊基。

14.根据权利要求11所述的方法，包括使第4族金属前体与至少 一种其他金属前体反应，其中所述至少一种其他金属前体的金属选 自第2族到第16族，其中所述至少一种其他金属前体的一个或多个配 体选自下组：β-二酮配体、β-二酮酯配体、β-酮亚胺配体、β-二亚胺 配体、烷基、羰基、烷基羰基、环戊二烯基、吡咯基、咪唑基、脒 基配体、烷氧基及其混合物，其中所述配体是以下之一：单齿配体、 二齿配体或者多齿配体。