[发明专利]一种半导体全光偏振开关无效
| 申请号: | 201010135631.6 | 申请日: | 2010-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN101788726A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
| 发明(设计)人: | 王涛;胡志强;肖昆辉;郁春潮 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | G02F1/017 | 分类号: | G02F1/017;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 周发军 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 偏振 开关 | ||
1.一种半导体全光偏振开关,包括位于底座平台上的核心半导体 光学元件、信号光光纤准直器、起偏器和检偏器,其特征在于,所述的 核心半导体光学元件为多量子阱层半导体光学元件,所述多量子阱层半 导体光学元件包括衬底上外延生长的量子阱层和垒层,所述量子阱层和 垒层相互连续排列,相邻的单个量子阱层和垒层的厚度之和为一个布拉 格周期,所述相邻的单个量子阱层和垒层的厚度之和的布拉格周期满足 修正的布拉格条件,即满足公式(1):
其中,为菲涅尔系数,nb为多量子阱层半导体光学元件垒层 的折射率,db为垒层的厚度,θb为光进入垒层的入射角,nw为阱层的折 射率,dw为阱层厚度,θw为光进入阱层的入射角,λ0为量子阱层材料 重空穴激子波长;
所述衬底的材料为磷化铟(InP),所述垒层为磷化铟(InP),所述 阱层由铟镓砷磷(InGaAsP)四元化合物生长构成。
2.如权利要求1所述的一种半导体全光偏振开关,其特征在于,所 述信号光光纤准直器和所述起偏器依次位于信号光路上,入射的信号光 以一定夹角入射至所述的核心半导体光学元件表面;所述检偏器位于所 述多量子阱层半导体光学元件对于信号光产生的反射光路上,且检偏器 偏振方向与起偏器偏振方向平行;控制光路与多量子阱层半导体光学元 件输入面垂直。
3.如权利要求1或2所述的一种半导体全光偏振开关,其特征在于, 所述多量子阱层半导体光学元件的非入射光的一侧加有全反射膜。
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