[发明专利]一种半导体全光偏振开关无效

专利信息
申请号: 201010135631.6 申请日: 2010-03-30
公开(公告)号: CN101788726A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 王涛;胡志强;肖昆辉;郁春潮 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G02F1/017 分类号: G02F1/017;H01L33/00
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 周发军
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 偏振 开关
【权利要求书】:

1.一种半导体全光偏振开关,包括位于底座平台上的核心半导体 光学元件、信号光光纤准直器、起偏器和检偏器,其特征在于,所述的 核心半导体光学元件为多量子阱层半导体光学元件,所述多量子阱层半 导体光学元件包括衬底上外延生长的量子阱层和垒层,所述量子阱层和 垒层相互连续排列,相邻的单个量子阱层和垒层的厚度之和为一个布拉 格周期,所述相邻的单个量子阱层和垒层的厚度之和的布拉格周期满足 修正的布拉格条件,即满足公式(1):

nbdbcosθb+1+ρ1-ρnwdwcosθw=λ0/2---(1)]]>

其中,为菲涅尔系数,nb为多量子阱层半导体光学元件垒层 的折射率,db为垒层的厚度,θb为光进入垒层的入射角,nw为阱层的折 射率,dw为阱层厚度,θw为光进入阱层的入射角,λ0为量子阱层材料 重空穴激子波长;

所述衬底的材料为磷化铟(InP),所述垒层为磷化铟(InP),所述 阱层由铟镓砷磷(InGaAsP)四元化合物生长构成。

2.如权利要求1所述的一种半导体全光偏振开关,其特征在于,所 述信号光光纤准直器和所述起偏器依次位于信号光路上,入射的信号光 以一定夹角入射至所述的核心半导体光学元件表面;所述检偏器位于所 述多量子阱层半导体光学元件对于信号光产生的反射光路上,且检偏器 偏振方向与起偏器偏振方向平行;控制光路与多量子阱层半导体光学元 件输入面垂直。

3.如权利要求1或2所述的一种半导体全光偏振开关,其特征在于, 所述多量子阱层半导体光学元件的非入射光的一侧加有全反射膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010135631.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top