[发明专利]化学气相沉积装置及其喷头

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，包括：

第一子喷头和第二子喷头；

所述第一子喷头的一侧具有第一进气口，第一子喷头的另一侧具有多个第一出气口；

所述第二子喷头的一侧具有第二进气口，第二子喷头的另一侧具有多个第二出气口；

所述第一子喷头嵌套在所述第二子喷头内壁且所述第一子喷头与所述第二子喷头能够沿第一子喷头的中心轴方向上下移动。

2.如权利要求所述的化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，所述第一子喷头为圆饼状，所述第二子喷头为圆环状。

3.如权利要求所述的化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，所述第一出气口为圆形。

4.如权利要求所述的化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，所述第二出气口为圆形。

5.一种包括权利要求1至4所述的喷头的化学气相沉积装置，其特征在于，还包括：

反应腔室；

基座，用于放置待进行化学气相沉积的晶片；

控制装置，控制喷头。

6.如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其特征在于，控制装置包括第一控制装置和第二控制装置；第一控制装置与第一子喷头连接，第二控制装置与第二子喷头连接，第一控制装置控制第一子喷头相对第二子喷头移动，第二控制装置控制第二子喷头相对第一子喷头移动。

7.如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其特征在于，其特征在于，还包括驱动装置，和基座相连，用于控制基座的移动。