[发明专利]照射设备、半导体制造设备与方法和显示装置制造方法

权利要求书

1.一种使用从半导体激光器发射的光束照射照射目标的照射设备，

其中令w为用于照射所述照射目标的光束半径，Δ为所述半导体激光器 的发散角度的个体差异率，而λ为所述半导体激光器的光束波长，

夹置在所述半导体激光器与所述照射目标之间的照射光学系统的焦点 位置被散焦，使得所述照射目标夹置在所述照射光学系统和所述焦点位置之 间，所述焦点位置和所述照射目标之间的距离z为

公式1：z=π·w2λ·1-Δ2(1-Δ2)2+1.]]>

2.一种进行退火处理的半导体装置制造设备，其中照射目标用从半导 体激光器发射的光束照射，以便改性在所述照射目标中的半导体膜，

其中令w为用于照射所述照射目标的光束半径，Δ为所述半导体激光器 的发散角度的个体差异率，而λ为所述半导体激光器的光束波长，

夹置在所述半导体激光器与所述照射目标之间的照射光学系统的焦点 位置被散焦，使得所述照射目标夹置在所述照射光学系统和所述焦点位置之 间，所述焦点位置和所述照射目标之间的距离z为

公式2：z=π·w2λ·1-Δ2(1-Δ2)2+1.]]>

3.根据权利要求2所述的半导体装置制造设备，其中所述半导体激光 器具有大面积型发射器，并且光束直径定义在垂直于所述发射器的长度方向 的方向上。

4.根据权利要求2所述的半导体装置制造设备，

其中所述照射光学系统包括：

准直透镜，用于准直来自大面积型半导体激光器的光通量；

均匀化光学系统，用于在所述半导体激光器的发射器的长度方向上均匀 化光通量；

聚光透镜，用于使用通过所述均匀化光学系统获得的光通量来照射所述 照射目标；以及

缩减光学系统，用于在垂直于所述发射器的长度方向的方向上减少所述 光通量的直径。

5.根据权利要求2所述的半导体装置制造设备，还包括：

工作台，用于在垂直于所述半导体激光器的大面积方向的方向上移动所 述照射目标；以及

多个所述半导体激光器和多个所述照射光学系统；

其中所述半导体激光器彼此平行地发射光束。