[实用新型]为使光罩保持洁净的系统无效
申请号: | 200720127314.3 | 申请日: | 2007-08-10 |
公开(公告)号: | CN201134420Y | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 廖莉雯 | 申请(专利权)人: | 廖莉雯 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677;G03F1/00;G03F7/20;B65D81/18 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使光罩 保持 洁净 系统 | ||
1、 一种为使光罩保持洁净的系统,其特征在于其包含:
至少一移转容器,其具有一可选择性启闭的容置空间,该容置空间可供设置一光罩,且移转容器上设有至少一连通容置空间与外部的进气单元,移转容器上另设有至少一连通容置空间与外部的出气单元,其中进气单元与出气单元具有可防止移转容器闭合时容置空间内气体溢出的选择性气密功能;
至少一装置,其具有至少一可承载前述移转容器的容置结构,容置结构具有至少一对应移转容器进气单元的充气单元,且容置结构并具有至少一对应移转容器出气单元的排气单元;
使得移转容器与光罩相邻容置空间环境内的气体形成一种循环流动,让干净气体可不断的注入该与光罩相邻的容置空间、并且不断的排出,令该与光罩相邻的容置空间形成正压,可防止外部有害物质进入前述的容置空间内,同时带走前述容置空间内的有害物质,进一步得控制该容置空间的环境条件。
2、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的移转容器是选自供容置、移动、储存光罩的塑胶盒或金属盒。
3、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的装置是选自光罩储存柜、光罩充气柜、光罩运输设备、以及制程设备的光罩进、出单元其中之一。
4、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的装置的充气单元是选自单向阀件。
5、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的移转容器的进气单元是选自单向阀件。
6、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的移转容器的出气单元是选自单向阀件。
7、 根据权利要求1所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的移转容器上设有可储存内部光罩资讯的储存元件,而装置具有可对应读取储存元件资讯的读取元件。
8、 根据权利要求7所述的为使光罩保持洁净的系统,其特征在于所述的移转容器的储存元件与该装置的读取元件是选自无线射频识别系统。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造