[发明专利]通用性薄膜材料图形化方法

权利要求书

1.一种通用性薄膜材料图形化方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，通过光刻或掩模电镀在基片上制备一次性平面微模具；

第二步，在整个基片范围内淀积薄膜材料，填满微模具的空隙；

第三步，通过研磨加工去除薄膜高出微模具的多余部分，并减至所需厚度；

第四步，选择性去除一次性平面微模具，得到所需微结构。

2.如权利要求1所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述在基片上制备一次性平面微模具，具体为：

a、光刻显影：如果用光刻胶作为微模具，直接光刻显影；

b、掩模电镀：如果用金属作为微模具，则在光刻前溅射电镀的种子层，并在光刻后进行掩模电镀。

3.如权利要求1或2所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述在基片上制备一次性平面微模具，可进行多次的微模具复制，用第一次制得的微结构作为第二次的微模具，将图形进一步转移到所需薄膜材料上。

4.如权利要求1所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述在整个基片范围内淀积薄膜材料，具体通过旋压、涂覆、蒸镀、溅射、物理气相淀积、化学气相淀积、或电镀实现，淀积薄膜材料是金属、氧化物、聚合物以及多层复合材料。

5.如权利要求1所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述研磨加工采用物理研磨或化学机械抛光。

6.如权利要求5所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述物理研磨，是指：用平面砂轮磨盘或者砂纸研磨，从粗到细，依次研磨平整，直到将薄膜高出微模具的部分去除，微模具的上表面全部露出，然后通过测微显微镜检测进度，用细砂磨盘或者砂纸研磨至需要的厚度。

7.如权利要求1所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：所述选择性去除一次性平面微模具，具体为：对于光刻胶微模具，用丙酮或者碱液去除；对于金属微模具，根据工艺兼容性选择刻蚀液配方；在叠层结构的制造过程中，与牺牲层工艺相结合，如果有悬空结构，在悬空结构厚度薄、悬空距离小的情况下，加入防止粘附的工艺措施。

8.如权利要求1所述的通用性薄膜材料图形化方法，其特征是：重复以上的第一步到第三步，用以制造叠层结构。