[发明专利]固化性组合物、固化膜及层叠体

权利要求书

1.一种固化性组合物，其包含平均一次粒径为5～100nm的金属氧化物以及含氨基光固化性化合物，所述含氨基光固化性化合物具有乙烯性不饱和双键与伯胺或仲胺反应后的官能团和未反应的乙烯性不饱和双键。

2.根据权利要求1所述的固化性组合物，其中，含氨基光固化性化合物为光固化后的铅笔硬度为H以上的丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物与伯胺或仲胺反应而形成的化合物。

3.根据权利要求1或2所述的固化性组合物，其中，含氨基光固化性化合物为丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物与伯胺或仲胺进行反应而形成的化合物，反应以伯胺或仲胺相对于所述丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物中的乙烯性不饱和双键100摩尔为0.5～50摩尔的比率进行。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的固化性组合物，其中，含氨基光固化性化合物为由下述通式(1)表示的化合物与伯胺或仲胺反应而形成的化合物，

通式(1)：

[化1]

式中，R¹～R⁴分别独立地表示氢原子或甲基，R⁵～R⁸分别独立地表示非取代或取代的直链或支链的亚烷基，R⁹表示4价的脂肪族基团或芳香族基团。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的固化性组合物，其中，伯胺或仲胺为脂肪族一元胺。

6.根据权利要求1～5中任意一项所述的固化性组合物，其中，金属氧化物含有选自由钛、锌、锆、锑、铟、锡、铝及硅组成的组中的至少一种元素。

7.根据权利要求1～6中任意一项所述的固化性组合物，其中，进一步包含溶剂，并且溶剂包括相对于全部溶剂为10～100重量％的含羟基溶剂。

8.一种固化膜，其为将权利要求1～7中任意一项所述的固化性组合物固化而形成。

9.根据权利要求8所述的固化膜，其中，表面电阻值为1×10¹²Ω/sq.以下。

10.根据权利要求8或9所述的固化膜，其中，厚度为0.1～30μm。

11.根据权利要求8～10中任意一项所述的固化膜，其中，折射率为1.5～1.8的范围。

12.一种层叠体，包括基材和权利要求8～11中任意一项所述的固化膜。

13.根据权利要求12所述的层叠体，其中，基材为塑料基材。

14.根据权利要求12或13所述的层叠体，其中，基材为透镜形状。

15.根据权利要求12～14中任意一项所述的层叠体，其中，在基材上不隔着其他层而形成固化膜，固化膜与基材的折射率差在±0.02以内。

16.根据权利要求12～14中任意一项所述的层叠体，其中，在固化膜和基材之间进一步具有一层以上的底层，固化膜和与固化膜相接的底层的折射率差在±0.02以内。

17.根据权利要求12～16中任意一项所述的层叠体，其中，包括信息记录层。

18.根据权利要求12～16中任意一项所述的层叠体，其中，所述层叠体为防反射膜。

19.一种光半导体元件密封材料，包含权利要求1～7中任意一项所述的固化性组合物。

20.一种固化膜的制造方法，包括：向基材涂布权利要求1～7中任意一项所述的固化性组合物，以及照射活性能量射线而使固化性组合物固化。