专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种精确测量WEE宽度的方法-CN201210039478.6无效
  • 刘波波;王省莲;白俊春;李培咸;廉大桢;闫秋迎;王旭明;郭迟;王晓波;孟锡俊;黄兆斌;张翼 - 西安中为光电科技有限公司
  • 2012-02-21 - 2012-07-18 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种精确测量WEE宽度的方法,包括如下步骤:首先,将光刻机挡板设置在需曝光使用的光刻对位标记上;然后,按照放置要求,将光刻对位标记依次曝光放置在晶片边缘;最后,经WEE后,根据WEE分界线和晶片边缘之间的WEE分界线外显影后不存在的图形曝光的布局数据和显影后保存的完整光刻对位标记个数及是否包含不完整光刻对位标记,计算WEE宽度,光刻对位标记数量采用进一法,不足一个完整光刻对位标记的按一个计算;本发明是采用在边缘曝光图形的方法来确认WEE的宽度,用于判断WEE宽度的图形在显微镜下可以观察到,且其尺寸远小于WEE的精度,保证了测试的准确性,另外,本发明的实施不受半导体生产线的条件限制,利用现有资源就可以测定WEE宽度。
  • 一种精确测量wee宽度方法

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