“sem”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1623个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]选择模式海底电子模块-CN201980076133.8有效
发明人： A·麦考利;A·布林卡;阿明·阿布-艾斯阿德;D·金特;J·诺兰 -专利权人：海德里美国分销有限责任公司
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： E21B33/035 文献下载
摘要：在所述多个盒的第一盒中至少提供第一海底电子模块(SEM)和第二SEM。在第二盒中至少提供第三SEM和第四SEM。所述第三SEM为所述第一SEM的冗余，并且所述第四SEM为所述第二SEM的冗余。提供至少一个选择器电路以传输SEM选择信号，所述SEM选择信号独立于所述第三SEM电激活或电去激活所述第一SEM。因此，所述多个盒中的所述SEM中的每个SEM能够被单独激活或去激活，而无需切断提供给由对应的SEM控制的所述第一盒和所述第二盒中的液压阀的流体。
选择模式海底电子模块

[发明专利]检测SEM设备的测量误差的方法及对准SEM设备的方法-CN202210645955.7在审
发明人：郭鲁洪;金度年;南润炯;姜旻澈;金基贤 -专利权人：三星电子株式会社;首尔大学校产学协力团
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G01N23/2251 文献下载
摘要：提供一种通过将设计图像与SEM图像进行比较和对准来准确地检测SEM设备的测量误差的方法以及基于检测到的测量误差准确地对准SEM设备的方法。检测SEM设备的测量误差的方法包括：获取测量目标的SEM图像；对所述SEM图像以及与所述SEM图像对应的设计图像执行预处理；从所述SEM图像之中选择训练SEM图像；通过使用所述训练SEM图像以及训练设计图像执行训练，以生成所述SEM图像与所述设计图像之间的转换模型；通过使用所述转换模型将所述SEM图像转换为转换设计图像；通过将所述转换设计图像与所述设计图像进行比较和对准来提取对准坐标值；以及基于所述对准坐标值确定所述SEM设备的测量误差。
检测 sem 设备测量误差方法对准

[发明专利]CD-SEM装置的校正方法、应用CD-SEM装置的方法及CD-SEM装置-CN201410341944.5有效
发明人：卢子轩;王跃刚 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-07-17 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请公开了一种CD‑SEM装置的校正方法、应用CD‑SEM装置的方法及CD‑SEM装置。其中校正方法包括：步骤S1、获取SEM图形并采用设置在CD‑SEM装置内部的图形特征尺寸检测单元对SEM图形进行在线检测，以获取SEM图形的第一特征尺寸T1；步骤S2、将SEM图形输出，并采用设置在CD‑SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对SEM图形进行脱线检测，以获取SEM图形的第二特征尺寸T2；步骤S3、计算第一特征尺寸T1和第二特征尺寸T2之间的差值，获取偏差值；步骤S4、对比偏差值与SEM图形的特征尺寸的允许误差范围，以调整CD‑SEM装置各运行参数。上述校正方法能改善CD‑SEM装置的检测准确性。
cd sem 装置校正方法应用

[发明专利]SEM图像质量评价方法-CN202211619735.3在审
发明人：简晓敏;周全;李宜清 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种SEM图像质量评价方法，所述SEM图像质量评价方法，包括：获取第一SEM图像，对所述第一SEM图像进行傅里叶变换；根据第一SEM图像进行傅里叶变换的结果，获取第一SEM图像所对应的频谱图和相位图；根据频谱图中的亮点的幅值，获取第一评分；根据相位图重建SEM图像，以获取第二SEM图像；根据第二SEM图像的边缘信息，获取第二评分；根据第一评分和第二评分，获取第一SEM图像的质量评价分数。本发明能够实现无需去除图像噪声，就可得到准确的SEM图像质量的评价结果。
sem 图像质量评价方法

[发明专利]用于在线SEM观察的SEM样品夹具及SEM样品观察方法-CN201210138018.9有效
发明人：袁超 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2012-05-04 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于在线SEM观察的SEM样品夹具及SEM样品观察方法，通过提供一种圆盘形金属支架，所述圆盘形金属支架具有一个或者多个沟槽，SEM样品置于所述沟槽中，由此，将SEM样品包装成了完整晶圆的形状，从而便可利用通常只能观察完整晶圆的在线SEM进行观察，克服了现有技术中在线SEM不能进行SEM样品/截面观察，或者需要配备FIB功能，从而导致成本高昂的问题。
用于在线 sem 观察样品夹具方法

[发明专利]图案测量装置以及图案测量方法-CN201280034653.0有效
发明人：柴原琢磨;及川道雄;北条穣;菅原仁志;新藤博之 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2012-03-23 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G01B15/04 文献下载
摘要：图案测量装置具备：存储半导体的电路图案的掩模边缘数据以及拍摄了电路图案的图像数据的存储部；以图像数据作为输入而提取电路图案的SEM(Scanning Electron Microscope)轮廓线，基于掩模边缘数据和提取的SEM轮廓线的数据(SEM轮廓线数据)，在曝光模拟部生成预测SEM轮廓线的数据(预测SEM轮廓线数据)的SEM轮廓线提取部；以掩模边缘数据、SEM轮廓线数据、预测轮廓线数据作为输入，将SEM轮廓线数据以及预测SEM轮廓线数据分类为一维形状的轮廓线和二维形状的轮廓线的形状分类部；以SEM轮廓线数据和预测SEM轮廓线数据作为输入，对应于一维形状以及二维形状的种类，进行SEM轮廓线数据的取样的SEM轮廓线取样部。
图案测量装置以及测量方法

[发明专利]一种岩石纳米CT的孔隙标定方法-CN201510161929.7有效
发明人：唐明明;卢双舫;梁宏儒;燕贲惠;沈珊 -专利权人：中国石油大学（华东）
申请日： 2015-04-08 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G01N15/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种岩石纳米CT的孔隙标定方法，该方法包括SEM与CT扫描区域标定带制作；岩样顶面SEM扫描；CT扫描；SEM扫描结果孔隙标定；利用SEM标定出的孔隙去标定CT顶面层的孔隙阈值Th。当获取了SEM标定的CT顶面层孔隙阈值Th后，根据Th标定CT的其余孔隙空间。本发明将SEM实验数据和纳米CT方法结合起来，用SEM的结果去进一步标定纳米CT的结果，利用SEM高精度图片标定后的CT数据，孔隙空间清晰，与直接观察法得到的SEM结果一致。
一种岩石纳米 ct 孔隙标定方法

[发明专利]图像矫正方法及装置-CN202310390514.1在审
发明人：于皓;鄢昌莲;毛礼;张荣佳;甘远;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技（上海）有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种图像矫正方法及装置，该方法包括：将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐；基于设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对；基于关键点对，对SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像；基于设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量；在畸变量小于预设阈值的情况下，确定SEM图像矫正结束。由此，可以基于设计版图及SEM图像中的图像单元，确定关键点对，再基于该关键点对对SEM图像进行矫正，由于该待测样片的SEM图像中的图像单元与设计版图中的图像单元可以尽量保持一致，从而可使得SEM图像的矫正更为准确可靠，从而提高了SEM图像矫正的准确性和可靠性。
图像矫正方法装置

[发明专利]用于转换量测数据的方法-CN202211028992.X在审
发明人：郭蕴博;王竹;杨丰;赵谦;冯牧;王祯祥 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：所述方法包括：访问由第一扫描电子量测(SEM)系统获取的第一SEM数据集(例如图像、轮廓灯)和由第二SEM系统获取的第二SEM数据集，其中所述第一SEM数据集和所述第二SEM数据集与图案化衬底相关联。使用所述第一SEM数据集和所述第二SEM数据集作为训练数据，机器学习(ML)模型被训练，使得所述经训练的ML模型被配置为将由所述第二SEM系统获取的量测数据集转换为转换数据集，所述转换数据集具有与由所述第一SEM系统获取的量测数据相当的特性。此外，测量值可以基于所述经转换的SEM数据来确定。
用于转换数据方法

[发明专利]银粉-CN201280056091.X有效
发明人：宫之原启祐;松山敏和 -专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： B22F1/00 文献下载
摘要：本发明提出一种银粉，其特征在于，该银粉通过扫描电子显微镜像(SEM)的图像分析而得到的D50(称作“_SEMD50”)为2.50μm～7.50μm，通过扫描电子显微镜像(SEM)的图像分析而得到的D10(称作“_SEMD10”)、D50(称作“_SEMD50”)和D90(称作“_SEMD90”)的关系以关系式：(_SEMD90-_SEMD10)/_SEMD50≦0.50表示。
银粉

[发明专利]基于残差网络的分子筛SEM图像分类方法和系统-CN202110559942.3在审
发明人：辛佳德;杜文莉;彭鑫;韦章鹏;贺嵩 -专利权人：华东理工大学
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G06K9/62 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于残差网络的分子筛SEM图像分类方法和系统。分类方法包括如下的步骤：构建SEM图像样本库；基于经过类别标注的多个SEM图像的全部或其中一部分，构建SEM图像类别数据集；构建残差网络图像分类模型，并根据SEM图像类别数据集中的SEM图像对残差网络图像分类模型训练；以及利用训练后的残差网络图像分类训练模型对多个SEM图像和/或重新拍摄的分子筛SEM图像进行分类。本发明的一种基于残差网络的分子筛SEM图像分类方法和系统可以简单方便并且高准确性的对分子筛图像质量和形貌进行筛选分类。
基于网络分子筛 sem 图像分类方法系统

[发明专利]基于Mask RCNN实例分割的SEM图像分子筛粒径统计方法和系统-CN202110070200.4在审
发明人：杜文莉;钱锋;彭鑫;钟伟民;杨明磊 -专利权人：华东理工大学
申请日： 2021-01-19 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G06T7/194 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于Mask RCNN实例分割的SEM图像分子筛粒径统计方法和系统，提升分子筛粒径统计效率。其技术方案为：获取扫描电子显微镜图像，即SEM图像，以及相应的操作文件，构建相应的SEM图像样本库；对构建的SEM图像样本库中的原始图像进行实例分割标注，构建SEM图像实例分割数据集；构建Mask RCNN实例分割模型；利用得到的SEM图像实例分割数据集对构建的Mask RCNN实例分割模型进行训练及参数调整；利用训练后的Mask RCNN实例分割模型完成对SEM图像样本的分子筛实例分割；根据得到的SEM图像分子筛实例分割的结果计算SEM图像中分子筛粒径大小，从而实现对分子筛粒径的统计。
基于 mask rcnn 实例分割 sem 图像分子筛粒径统计方法系统

[发明专利]SEM单克隆抗体的制备方法及应用-CN201510659178.1在审
发明人：唐俊妮;赵燕英;朱安妮;汤承;陈娟;王琼 -专利权人：西南民族大学
申请日： 2015-10-12 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： C07K16/12 文献下载
摘要：本发明涉及SEM单克隆抗体的制备方法及应用，包括以下步骤：以重组SEM免疫BALB/c小鼠，再用小鼠的脾细胞直接与骨髓瘤细胞融合，采用间接酶联免疫吸附法筛选产SEM单克隆抗体的优势杂交瘤细胞株，得到SEM通过本发明所述的方法制备的SEM单克隆抗体效价高、性质稳定、特异性强、亲和力高；通过本发明所述的方法制备的SEM单克隆抗体能够应用于试剂条或试剂盒，能够快速检测出样品中SEM的含量，能够用于建立SEM的免疫学检测方法
sem 单克隆抗体制备方法应用

[发明专利]SEM/TEM样品的定位方法-CN201310156191.6有效
发明人：孙蓓瑶;王炯翀 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-04-28 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种SEM/TEM样品的定位方法，包括：第一次激光定位SEM/TEM样品；在SEM/TEM样品表面填涂油性材料；第二次激光定位SEM/TEM样品。本发明对于某些需填涂油性材料作为保护层且需定点制样的SEM/TEM样品，先在目标位置附近进行第一次激光定位，然后再在目标位置上填涂油性材料，最后再在原有的标记上用激光进行第二次激光定位，不仅可以保护SEM/TEM样品不受沾污，还可以在SEM/FIB中迅速找到所需制样的目标位置，大大提高了制备SEM/TEM样品的效率和质量。
sem tem 样品定位方法

[发明专利]关键尺寸矫正方法及其装置-CN201010164869.1无效
发明人：黄红伟 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2010-04-29 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种关键尺寸矫正装置，包括：SEM腔体、置于SEM腔体内部的SEM载物台、SEM腔体上侧的SEM镜筒；在SEM腔体的两侧分别形成X射线发生器和X射线探测器，所述X射线探测器与数据分析装置电连接。所述X射线发生器与所述X射线探测器的纵向高度均高于SEM载物台。本发明通过在现有的SEM增设X射线发生器、X射线探测器及数据分析装置，使得在待标度样品的关键尺寸标度时，可以避开待标度样品自身的影响因素，而调整其角度以实现待标度样品关键尺寸的精确测量。
关键尺寸矫正方法及其装置

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 1623 条