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[发明专利]电子束曝光剂量的确定方法及装置-CN202310744476.5在审
发明人：曹晨乐;陈晨;韩春营 -专利权人：中科晶源微电子技术（北京）有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种电子束曝光剂量的确定方法及装置，涉及半导体技术领域，该方法包括：基于版图数据，确定图形单元；在图形单元上设置评估点；基于每个所述图形单元的曝光剂量，对所述版图数据进行仿真处理，以得到每个所述评估点处的强度值；基于每个所述图形单元上的评估点处的强度值和误差函数，确定每个所述图形单元的强度误差值；判断所述强度误差值是否满足预设条件；在所述强度误差值不满足预设条件的情况下，基于所述强度误差值，调整每个所述图形单元对应的曝光剂量，并返回执行所述基于每个所述图形单元的曝光剂量，对所述版图数据进行仿真处理，以得到每个所述评估点处的强度值的步骤，直至得到每个所述图形单元对应的目标曝光剂量。
电子束曝光剂量确定方法装置

[发明专利]传片装置及半导体检测设备-CN202310868500.6在审
发明人：米涛;韩春营 -专利权人：中科晶源微电子技术（北京）有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本申请属于搬运装置技术领域，尤其是涉及传片装置及半导体检测设备。该传片装置包括阀板管路、传动机构以及承载座；阀板管路包括阀板以及从阀板沿第一方向延伸的管路；承载座连接于阀板并在第一方向上位于阀板远离传动机构的一侧；传动机构连接于管路，且传动机构设置为能够驱动阀板管路沿第一方向运动，以调节阀板及承载座在第一方向上的位置。通过传动机构驱动阀板管路沿第一方向运动，以改变阀板在第一方向上的位置，从而让两腔室在隔断状态与连通状态之间切换。另外，用于放置硅片的承载座设置在阀板上，阀板在沿第一方向运动以切换两腔室之间状态的过程中，阀板上集成有承载座以同步搬运硅片。
装置半导体检测设备

[发明专利]电子束参数的确定方法及装置-CN202310745806.2在审
发明人：曹晨乐;陈晨;韩春营 -专利权人：中科晶源微电子技术（北京）有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本申请提供一种电子束参数的确定方法及装置，涉及半导体技术领域，该方法包括：在版图数据对应的实际掩膜版图中进行测量，以得到量测数据，量测数据包括测量点的量测尺寸；基于点扩散函数形式，构建电子束模型；基于电子束模型，对版图数据进行仿真处理，以确定测量点对应的仿真尺寸；基于所述量测尺寸、所述仿真尺寸及代价函数，确定代价值；判断所述代价值是否满足预设条件；在所述代价值不满足预设条件的情况下，基于所述代价值，调整所述电子束模型当前的参数值，并返回执行所述基于所述电子束模型，对所述版图数据进行仿真处理，以确定所述测量点对应的仿真尺寸的步骤，直至得到电子束模型的目标参数值，从而提高了电子束模型的精度。
电子束参数确定方法装置

[外观设计]半导体检测设备-CN202330359443.X有效
发明人：张禧晨;郝琪;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：半导体检测设备。2.本外观设计产品的用途：用于对硅片表面进行成像，以检测电性和物理缺陷。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.俯视图和仰视图不涉及设计要点，省略俯视图和仰视图。6.其他需要说明的情形变化状态说明：参考图为移除电柜后该设备的后视图。
半导体检测设备

[发明专利]掩膜图案的校正方法、装置及半导体设备-CN202310678185.0在审
发明人：曹晨乐;陈晨;韩春营 -专利权人：中科晶源微电子技术（北京）有限公司
申请日： 2023-06-08 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜图案的校正方法、装置及半导体设备，包括：获取掩膜的初始设计版图，初始设计版图包括多个图案；对每个图案进行处理，得到多个图形单元；在图形单元上设定评估点；获取图形单元上评估点的测量值；根据评估点的测量值和预设优化误差函数，调整图形单元位置，得到调整后的设计版图；判断调整后的设计版图是否满足预设要求；在调整后的设计版图不满足预设要求的情况下，返回执行获取图形单元上的评估点的测量值的步骤，直至得到目标设计版图。本申请通过反复移动设计版图的边实现了对掩膜图案的校正，克服了VSB系统成像时由于电子束曝光、抗蚀、蚀刻等工艺造成的掩膜图案失真，使最终曝光的掩膜版图案与理想掩膜版图案尽可能一致。
图案校正方法装置半导体设备

[发明专利]晶圆良率损失的确定方法及装置-CN202310588012.X在审
发明人：李东红;甘远;张岩;韩春营;鄢昌莲;宋红敏;包达文 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本申请提供一种晶圆良率损失的确定方法及装置，涉及半导体技术领域，该方法包括：获取晶圆对应的缺陷分布数据及电性测试良率数据；将所述缺陷分布数据进行处理，以得到第一灰度图像；将所述电性测试良率数据进行处理，以得到第二灰度图像；确定所述第一灰度图像与所述第二灰度图像间的相似度；基于所述相似度，确定所述晶圆对应的良率损失。由此，可以基于缺陷分布数据对应的第一灰度图像，与电性测试良率数据对应的第二灰度图像，确定出二者间的相似度，再基于该相似度，确定出晶圆的良率损失，由于相似度是从图像角度出发确定的，从而该相似度及确定出的良率损失更为准确、可靠，进而可以更好地进行追踪溯源，提升晶圆的良率。
晶圆良率损失确定方法装置

[发明专利]掩膜数据的处理方法及装置-CN202310456858.8在审
发明人：曹晨乐;陈晨;韩春营 -专利权人：中科晶源微电子技术（北京）有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜数据的处理方法及装置，涉及数据处理领域，该方法包括：将掩膜版图上的每个多边形进行处理，以确定每个所述多边形内部的独立弦；按照每个所述多边形内部的独立弦，将每个所述多边形进行切割，以得到多个第一子多边形；在任一第一子多边形不满足预设要求且存在斜边的情况下，基于所述任一第一子多边形中的斜边，将所述任一第一子多边形进行切割，以得到多个第二子多边形；在任一第二子多边形存在斜边且不满足预设要求的情况下，将所述任一第二子多边形进行切割，以得到多个第三子多边形；将满足预设要求的第一子多边形、第二子多边形和第三子多边形，确定为第一多边形集合，由此，可以实现对多边形中任意角度斜边的切割。
数据处理方法装置

[发明专利]晶圆图的分类方法及装置-CN202310577486.4在审
发明人：包达文;李东红;鄢昌莲;宋红敏;张岩;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G06V10/764 文献下载
摘要：本申请提供一种晶圆图的分类方法及装置，涉及计算机技术领域，该方法包括：利用第一数据集中的第一数据对初始预训练模型进行训练，以得到预训练模型；基于所述预训练模型，对第二数据集中的第二数据进行筛选，以确定伪标签数据；基于至少包含所述伪标签数据的训练集对晶圆图分类模型进行训练，以得到训练后的晶圆图分类模型；基于所述训练后的晶圆图分类模型，对所述预训练模型进行更新；基于所述第二数据集中除伪标签数据外的其余第二数据，返回执行基于所述预训练模型，对第二数据集中的第二数据进行筛选，以确定伪标签数据的步骤，直至确定所述第二数据集中的全部第二数据分类完成，由此可以基于小样本数据对晶圆图进行分类，降低了成本。
晶圆图分类方法装置

[发明专利]缺陷检测方法、装置、电子束量测设备及计算机存储介质-CN202310468168.4在审
发明人：陈杰运;韩春营;徐佳 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本申请提供一种缺陷检测方法、装置、电子束量测设备及计算机存储介质，缺陷检测方法包括：获取多通道图像；对多通道图像中的每个通道图像分别进行图像配准，以提取目标图像；对每个目标图像进行缺陷检测，获得对应的缺陷列表单元；将所有的缺陷列表单元进行拼接，获得总缺陷列表；对总缺陷列表中的缺陷进行筛选，获得目标缺陷；该缺陷检测方法能够发挥各通道检测结果的优势，避免各个通道检测结果不同时存在的复检冲突，确保各通道检测结果的一致性，从而提高了多通道缺陷检测的检测精度。
缺陷检测方法装置电子束设备计算机存储介质

[发明专利]量测点的配方文件的生成方法、装置、设备及存储介质-CN202310294316.5在审
发明人：乔静;张荣佳;鄢昌莲;甘远;韩春营;施文伟;毛礼 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G06F30/12 文献下载
摘要：本发明提供一种量测点的配方文件的生成方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：获取测量参数和所述测量参数对应的输入量；在包含所述测量参数的测量参数模板中填入所述输入量；结合量测点和填入所述输入量后的所述测量参数模板进行分析，得到所述量测点的量测配置文件；根据所述量测点的量测配置文件和设计版图，生成量测点的配方文件。本发明可根据用户对测量参数的需求，灵活且准确的选择具备该些测量参数的量测配置模板，从而高效准确的生成相应的配方文件。
量测点配方文件生成方法装置设备存储介质

[发明专利]图像矫正方法及装置-CN202310390514.1在审
发明人：于皓;鄢昌莲;毛礼;张荣佳;甘远;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技（上海）有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种图像矫正方法及装置，该方法包括：将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐；基于设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对；基于关键点对，对SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像；基于设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量；在畸变量小于预设阈值的情况下，确定SEM图像矫正结束。由此，可以基于设计版图及SEM图像中的图像单元，确定关键点对，再基于该关键点对对SEM图像进行矫正，由于该待测样片的SEM图像中的图像单元与设计版图中的图像单元可以尽量保持一致，从而可使得SEM图像的矫正更为准确可靠，从而提高了SEM图像矫正的准确性和可靠性。
图像矫正方法装置

[发明专利]高精度扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置及设备-CN202211658956.1在审
发明人：张荣佳;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G06T7/13 文献下载
摘要：本申请提供了一种高精度扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质，该方法包括：在采集到多个待检测位置的多个扫描电子显微镜图像的情况下，将多个扫描电子显微镜图像分别与设计版图对准，生成对准结果；基于对准结果提取每一个扫描电子显微镜图像的第一扫描电子显微镜图像轮廓；将每一个第一扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图进行比对，生成比对结果；基于比对结果对每一个第一扫描电子显微镜图像轮廓进行调整，生成多个第二扫描电子显微镜图像轮廓；对所有第二扫描电子显微镜图像轮廓求平均，生成第三扫描电子显微镜图像轮廓。本申请能够有效地提高扫描电子显微镜图像轮廓的精准度。
高精度扫描电子显微镜图像轮廓提取方法装置设备

[发明专利]基于探测器通道的自动对焦方法和装置、设备及存储介质-CN202111310482.7有效
发明人：杨彩虹;韩春营;俞宗强;王振 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2021-11-05 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H04N23/53 文献下载
摘要：本申请涉及一种基于探测器通道的自动对焦方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取探测器各通道采集到的样品图像，并基于各通道采集到的样品图像由探测器的各通道中确定聚焦通道；采用爬山算法由聚焦通道中搜索出最清晰图像以得到相应的聚焦结果。通过获取探测器各通道采集到的样品图像，基于各通道采集到的样品图像由探测器的各通道中确定聚焦通道，然后再以所确定的聚焦通道为准，采用爬山算法由聚焦通道中搜索出最清晰图像以得到相应的聚焦结果。实现了能够通过选择不同通道的图像进行自动聚焦的目的，有效避免了单一通道图像在某一角度的焦平面仍旧扫描不到图像特征的情况，保证了聚焦结果的准确性。
基于探测器通道自动对焦方法装置设备存储介质

[发明专利]基于电子束量测设备的自动对焦方法和装置、设备及存储介质-CN202111305934.2有效
发明人：杨彩虹;韩春营;俞宗强;王振 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2021-11-05 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： H04N23/67 文献下载
摘要：本申请涉及一种基于电子束量测设备的自动对焦方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取电子束量测设备中当前通道所采集到的多张检测图像；根据多张检测图像的清晰度评估结果自适应调整粗聚焦搜索步长，并根据调整后的粗聚焦搜索步长对电子束量测设备进行粗聚焦，确定最佳粗聚焦位置；以最佳粗聚焦位置为搜索中心，按照当前的细聚焦搜索参数采集预设张数的样品图像，并根据采集到的预设张数的样品图像的清晰度评估结果进行细聚焦搜索得到聚焦结果。其实现了采用变步长的方式进行电子束量测设备自动对焦过程中的粗聚焦，使得在进行粗聚焦时所使用的粗聚焦搜索步长更加灵活，最终有效提高了电子束量测设备的自动对焦效率。
基于电子束设备自动对焦方法装置存储介质

[发明专利]晶片的缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质-CN202211188801.6在审
发明人：俞宗强;马卫民;孙伟强;韩春营 -专利权人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本申请提供了一种晶片的缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质。该晶片的缺陷检测方法，包括：获取晶片的表面的结构特征信息；根据结构特征信息，对晶片的表面进行区域划分，并分别确定划分后的不同区域的结构标识信息；根据不同区域的结构标识信息，分别确定与不同区域匹配的缺陷检测策略；基于缺陷检测策略对晶片进行检测。根据本申请实施例，可以调和晶片上不同区域对检测灵敏度的要求。
晶片缺陷检测方法装置设备计算机可读存储介质

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