专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于二维哈达玛变换的帧内模式预测方法及装置-CN201210575843.5有效
  • 刘振宇;朱佳;汪东升 - 清华大学;华为技术有限公司
  • 2012-12-26 - 2013-04-03 - H04N7/26
  • 本发明提供一种基于二维哈达玛变换的帧内模式预测方法及装置,方法包括:S1、预设最优编码代价Jbest;S2、选取预测块对应的候选模式Mk,计算在所述候选模式Mk下的预测结果;S3、计算所述预测结果与所述预测块对应的原始图像的残差矩阵,对所述残差矩阵进行二维变换,并对变换结果进行量化;S4、计算量化后在所述候选模式Mk下的失真程度和比特率,并计算在所述候选模式Mk下的编码代价Jk;S5、将Jk与Jbest进行比较;若Jk<Jbest,则Jbest=Jk,将Mk作为最优候选模式;若Jk≥Jbest,则Jbest与其对应的最优候选模式不变;S6、重复步骤S2~S5,直到遍历完所述预测块的候选模式,得到最终的最优编码代价及其对应的最优候选模式
  • 基于二维哈达变换模式预测方法装置
  • [发明专利]保护开关装置及方法-CN202180021335.X在审
  • M.坦豪泽 - 西门子股份公司
  • 2021-12-17 - 2022-11-01 - H01H9/54
  • 本发明涉及一种保护开关装置(SG),其具有:用于低压交流电路的导体的电网侧接头(L1,N1)和负载侧接头(L2,N2);与电网侧接头(L1,N1)连接的机械分离触点系统(MK),其用于电流中断低压电路,机械分离触点系统(MK)可手动致动,使得机械分离触点系统(MK)的触点可以手动地接通以用于电流流动并且手动地断开以用于低压电路中的中断。测量机械分离触点系统(MK)与电子中断单元(EU)之间的导体(L,N)之间的电压的大小,并且在单极中断的机械分离触点系统(MK)的情况下,在10至50伏特的电压下降的情况下,或者在双极中断的机械分离触点系统(MK)的情况下,在20至100伏特的电压下降的情况下,识别出机械分离触点系统(MK)的致动。
  • 保护开关装置方法
  • [发明专利]对被处理物进行处理的方法-CN201780020010.3有效
  • 木原嘉英;久松亨;大石智之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-03-27 - 2023-06-30 - H01L21/3065
  • 一实施方式中,晶片(W)具备被蚀刻层(EL)、有机膜(OL)、防反射膜(AL)及掩膜(MK1),一实施方式的方法MT具备如下工序:在收容有该晶片(W)的等离子体处理装置(10)的处理容器(12)内,通过在处理容器(12)内产生的等离子体并使用掩膜(MK1)对防反射膜(AL)进行蚀刻处理,该工序具备:在掩膜(MK1)的表面保形地形成保护膜(SX)的工序(ST3a)~工序(ST4);及通过使用形成有保护膜(SX)的掩膜(MK1)按原子层去除防反射膜(AL)而对防反射膜(AL)进行蚀刻的工序(ST6a)~工序(ST7)。
  • 处理进行方法

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