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[发明专利]处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统-CN202110300578.9在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;内田博章;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2)，对贮存在第1贮存槽(210)的处理液(LQ)供给促进水分从加热后的处理液(LQ)中蒸发的气体处理液(LQ)是含有磷酸的液体。
处理调温方法衬底装置系统

[发明专利]一株利用海水培养的魏氏藻及其用途-CN202010223083.6有效
发明人：吴嘉仪;向恩宏;马一全 -专利权人：佛山蓝强生物科技有限公司
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C12N1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一株海水培养的魏氏藻，即魏氏藻(Vischeria sp.)LQ‑1984株系。所述的魏氏藻(Vischeria sp.)LQ‑1984株系，编号为LQ‑1984，拉丁名称为Vischeria sp.，保藏号为CCTCC M 20191120，命名为Vischeria sp.LQ‑1984。其成熟的细胞表面光滑，细胞壁无突起，直径为10‑15μm，呈球形或近球形，叶绿素为周生叶状，内含一蛋白核。所述魏氏藻(Vischeria sp.)LQ‑1984株系相比其他ω‑7脂肪酸的生产原料，其来源不受环境、地域、季节性等限制，可以满足巨大的原料缺口。所述魏氏藻(Vischeria sp.)LQ‑1984株系含有高含量ω‑7脂肪酸，其高品质藻粉可用于生产ω‑7相关的保健品、食品、化妆品等。
利用海水培养魏氏藻及其用途

[发明专利]液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法-CN201080056237.1无效
发明人：泷优介 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-12-21 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：液浸构件(6)，是以液体(LQ)充满照射于物体的曝光用光(EL)的光路(K)的方式在与前述物体之间保持液体(LQ)以形成液浸空间(LS)。液浸构件(6)，于与液体(LQ)接触的区域的至少一部分形成有非晶碳膜。
构件制造方法曝光装置元件

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111269786.3在审
发明人：高桥朋宏;武知圭 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：处理槽(2)贮存处理液(LQ)。衬底保持部(130)在处理槽(2)内保持衬底(W)，并使衬底(W)浸渍在处理槽(2)中所贮存的处理液(LQ)中。气泡供给部件(4)对浸渍在处理液(LQ)中的衬底(W)的表面供给气泡。处理液补充部件(5)向处理槽(2)中补充处理液(LQ)。控制部(111)相应于从气泡供给部件(4)供给的气泡的量阶段性地或逐步地减少，而从处理液补充部件(5)补充处理液(LQ)。
衬底处理装置方法

[发明专利]曝光装置、曝光方法及元件制造方法-CN200580015921.4有效
发明人：西井康文 -专利权人：尼康股份有限公司
申请日： 2005-06-03 - 公布日： 2007-04-25 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：最靠近投影光学系统像面的光学元件(2G)的下面(2S)侧的第1空间(K1)被液体(LQ1)所填满，光学元件(2G)的上面(2T)侧的独立于第1空间(K1)的第2空间(K2)被液体(LQ2)所填满。透过第1空间(K1)的液体LQ1及第2空间(K2)的液体(LQ2)对基板(P)上照射曝光用光而将基板(P)曝光。据此，防止次于光学元件(2G)靠近像面的光学元件(2F)受到液体(LQ2)的污染。
曝光装置方法元件制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法-CN200580031061.3有效
发明人：水谷刚之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件(70)，具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，根据衬底(P)的位置或姿势调整喷嘴构件(70曝光装置在衬底(P)上形成液体(LQ)的浸液区域，隔着浸液区域的液体(LQ)对衬底(P)进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。
曝光装置方法以及器件制造

[发明专利]并条机自调匀整匀整点测定方法-CN202110301611.X在审
发明人：顾金华 -专利权人：常州宏大智能装备产业发展研究院有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： D01H13/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种并条机自调匀整匀整点测定方法，包括在第一匀整罗拉对握持点与第二匀整罗拉对握持点之间或在第一匀整罗拉对握持点与第二匀整罗拉对握持点之间的任一区间内，设置若干个间隔布置的待定匀整点；入条检测机构监测点到各待定匀整点的长度标定为LQ1、LQ2、LQ3……LQn‑1、LQn，通过第一匀整罗拉对和/或第二匀整罗拉对对棉条进行匀整处理；电控制器记录分别以LQ1、LQ2、LQ3、……LQn‑1、LQn作为匀整死区时，出条检测机构检测到的对应
并条自调匀整测定方法

[发明专利]一种基于Montgomery的分段计算标量乘方法-CN201510772594.2在审
发明人：叶晓舟;李杨;曾学文 -专利权人：中国科学院声学研究所
申请日： 2015-11-12 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H04L9/30 文献下载
摘要：在一个实施例中，所述方法包括根据椭圆曲线标量bP，得到二分段椭圆曲线双标量kP+lQ；根据从左到右二进制表示的k和l的取值，同时计算双标量kP+lQ，并在循环过程点加和倍点运算中，仅计算双标量kP+lQ的x坐标，循环结束后恢复双标量kP+lQ的y坐标；根据边信道原子化方法在双标量kP+lQ循环过程点加和倍点运算中，进行调度并引入伪操作，使循环过程中运算模式相同。
一种基于 montgomery 分段计算标量方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN202110864672.7在审
发明人：合田和树;岩田敬次;松永恭幸;高桥朋宏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：处理槽(110)贮留处理液(LQ)并浸渍基板(W)。气泡供给管(180A)具有向处理液(LQ)中供给气体以形成气泡的多个开口(G)。测量部(353)在处理液(LQ)中测量由被供给了气泡的处理液(LQ)的状态引起的物理量。判定部(12)基于物理量判定多个开口(G)的状态。
处理方法以及装置

[发明专利]分位数神经网络-CN202210356068.8在审
发明人： V·斯里兰 -专利权人：福特全球技术公司
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： G06N3/08 文献下载
摘要：一种计算机，所述计算机包括处理器和存储器，所述存储器包括指令，所述指令可由处理器执行以：训练分位数神经网络以输入图像并输出对应于所述图像中的对象的下分位数(LQ)预测、中值分位数(MQ)预测和上分位数(UQ)预测，其中分别针对LQ预测、MQ预测和UQ预测确定LQ损失、MQ损失和UQ损失，并且其中LQ损失、MQ损失和UQ损失被组合以形成基层损失，并且输出分位数神经网络。
位数神经网络

[发明专利]液晶显示屏及其制造方法-CN200510075833.5有效
发明人：中尾健次;小川慎司;久保田直也 -专利权人：东芝松下显示技术有限公司
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本发明揭示一种OCB模式的液晶显示屏(LCD)，包括一对电极基板(1、2)；夹在一对电极基板(1、2)间并在显示区域的内侧利用由电极基板(1、2)外加的驱动电压控制液晶分子的取向状态的液晶层(LQ)；以及与液晶层(LQ)相邻配置在一对电极基板(1、2)上并且摩擦方向互相平行的一对取向膜。在显示区域内液晶层(LQ)所含的杂质离子浓度设定成比显示区域外液晶层(LQ)所含的杂质离子浓度低。
液晶显示屏及其制造方法

[发明专利]曝光装置及曝光方法以及设备制造方法-CN200680032751.5有效
发明人：木内徹;水谷刚之;根井正洋;滨谷正人;奥村正彦 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-09-08 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
曝光装置方法以及设备制造

[发明专利]电机、压缩机和空调器-CN201911060907.6有效
发明人：周博;魏会军;徐嘉;陈华杰;王珺;张金圈;梁社兵;徐培荣;贺申淦;胡文祥;柳鹏;余冰;刘靖 -专利权人：珠海格力节能环保制冷技术研究中心有限公司
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H02K3/04 文献下载
摘要：该电机的运行参数满足：0.6mH≤Ld≤3mH，1mH≤Lq≤4mH；‑0.4mH≤Lq‑Ld≤2mH；其中，Ld为电机d轴电感，Lq为电机q轴电感。
电机压缩机空调器

[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法-CN200910008214.2无效
发明人：长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-10-12 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。
曝光装置方法组件制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法-CN200580032801.5有效
发明人：长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-10-12 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。
曝光装置方法组件制造

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