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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法-CN201010602289.6无效
发明人：柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-05-23 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
维修方法曝光装置以及组件制造

[发明专利]衬底处理方法、曝光装置及器件制造方法-CN201010140711.0有效
发明人：中野胜志;奥村正彦;杉原太郎;水谷刚之;藤原朋春 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
衬底处理方法曝光装置器件制造

[发明专利]维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法-CN200780005788.3无效
发明人：柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-05-23 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
维修方法曝光装置以及组件制造

[发明专利]曝光装置及曝光方法以及设备制造方法-CN200680032751.5有效
发明人：木内徹;水谷刚之;根井正洋;滨谷正人;奥村正彦 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-09-08 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
曝光装置方法以及设备制造

[发明专利]曝光装置及元件制造方法-CN200680017294.2有效
发明人： 水谷刚之;奥村正彦;河野博高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-07-11 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。
曝光装置元件制造方法

[发明专利]衬底处理方法、曝光装置及器件制造方法-CN200580035989.9有效
发明人：中野胜志;奥村正彦;杉原太郎;水谷刚之;藤原朋春 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
衬底处理方法曝光装置器件制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法-CN200580031061.3有效
发明人： 水谷刚之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件(70)，具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，根据衬底(P)的位置或姿势调整喷嘴构件(70)的位置以及倾斜中的至少任意一者。曝光装置在衬底(P)上形成液体(LQ)的浸液区域，隔着浸液区域的液体(LQ)对衬底(P)进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。
曝光装置方法以及器件制造

[发明专利]曝光用基板、曝光方法及元件制造方法-CN200580030201.5无效
发明人： 水谷刚之 -专利权人：尼康股份有限公司
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光用基板，可防止在装载于基板保持具时与基板保持具产生干涉，且能防止在装载后液体渗入其背面侧。所述基板(P)是透过液体照射曝光用光来曝光的曝光用基板，其外径(LP)的尺寸公差(DP)在±0.02mm以下。
曝光用基板方法元件制造

[发明专利]曝光方法和装置以及器件制造方法-CN200480039841.8无效
发明人： 水谷刚之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-12-22 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法，使用具有保持带有在相互不同的方向延伸的光轴的光学系统的多个部分镜筒的反射折射投影光学系统将掩模上的图案转印到衬底上，其中，测量上述反射折射投影光学系统绕与上述掩模及上述衬底的至少一方交叉的光轴的旋转量，并且基于上述旋转量的测量结果，调整上述掩模及上述衬底的至少一方的、姿势和扫描方向中的至少一种。通过以抵消起因于投影光学系统的旋转的衬底上的投影像的旋转的方式对掩模及衬底的至少一方的姿势和扫描方向中的至少一种进行调整来曝光衬底，就可获得良好的曝光精度。
曝光方法装置以及器件制造

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