专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种具有核/壳结构的CdS/CdSe异质结量子点及其制备方法-CN202110744642.2有效
  • 訾由;黄卫春;黄庆秋;董晴;王梦可;朱君 - 南通大学
  • 2021-07-01 - 2022-03-15 - C09K11/88
  • 本发明公开一种具有核/壳结构的CdS/CdSe异质结量子点及其制备方法,包括核层CdS量子点的制备和壳层CdSe结构的生长两步。首先,在有机膦和氧化镉的混合溶液中,加入硫醚和有机膦的混合溶液,在氮气保护下得到CdS量子点;然后以CdS量子点作为核层结构,加入硒单质和氧化镉,在有机磷溶液中进一步通过溶剂热法生长CdSe壳层结构,最终得到具有核/壳结构的CdS/CdSe异质结量子点。本发明中制备的CdS/CdSe量子点,尺寸分布均一,并且可通过调节反应条件,实现CdS/CdSe异质结中核层CdS量子点的直径和壳层CdSe厚度的精确控制。与目前常用的CdSe/CdS核壳结构量子点相比,本发明中制备的CdS/CdSe核/壳结构量子点充分利用了CdSe优异的光电性能,在光致发光、电致发光和光电二极管领域中具有广泛的应用前景。
  • 一种具有结构cdscdse异质结量子及其制备方法
  • [发明专利]CdSe量子点的硅树脂基复合材料及制法和用途-CN200910089218.8有效
  • 付绍云;杨洋 - 中国科学院理化技术研究所
  • 2009-07-09 - 2011-01-12 - C08L83/00
  • 本发明涉及的含CdSe量子点的硅树脂复合材料由无色透明的硅树脂和均匀分散于该硅树脂之内的CdSe量子点颗粒构成的纳米复合材料;该复合材料中的CdSe量子点与硅树脂的质量比为0.1-10;其制备步骤是将不同粒径的CdSe量子点颗粒溶于有机溶剂中,得CdSe量子点溶液;同时将硅树脂溶于合适的溶液中得硅树脂溶液;然后按复合材料中CdSe含量取相应的CdSe量子点溶液与硅树脂溶液均匀混合,真空使溶剂挥发完全,然后置于烘箱,固化成型,得到含CdSe量子点的硅树脂复合材料;该复合材料具一定的透明性和良好的发光性能,适用于光电器件、LED固体照明器件或户外霓虹灯的表面封装。
  • cdse量子硅树脂复合材料制法用途
  • [发明专利]一种常温下制备CdSe/CdS核壳半导体量子点的方法-CN201510636880.6在审
  • 董安钢;杨东;刘丽敏;汲丽;胡建华;汪碧微 - 复旦大学
  • 2015-09-29 - 2015-12-16 - C09K11/88
  • 本发明属于无机材料技术领域,具体为一种常温下制备CdSe/CdS核壳半导体量子点的方法。本发明在常温下用硫化铵或硫化钾的甲酰胺溶液处理CdSe纳米粒子,得到CdSe/CdS核壳半导体纳米粒子,同时S2-取代掉CdSe纳米粒子表面的有机长碳链配体,使纳米粒子溶于甲酰胺等极性溶剂(NH4)2S处理2nm CdSe纳米粒子可使其量子产率增加到39.8%,3nm CdSe纳米粒子可增加到9.4%。K2S处理2nm CdSe纳米粒子可使其量子产率增加到26.1%,3nm CdSe纳米粒子可增加到3.3%。本发明方法简单、反应条件温和,制得的CdSe/CdS核壳半导体量子点可溶于极性溶剂、高量子产率。在光电二极管、荧光标记等领域具有广泛的应用前景。
  • 一种常温制备cdsecds半导体量子方法
  • [发明专利]一种用于胶体CdSe纳米晶体的蚀刻剂及方法-CN201510290806.3有效
  • 杨伯平;段文勇;杨晓冬 - 盐城工学院
  • 2015-05-29 - 2016-11-23 - C01B19/04
  • 本发明公开了一种用于胶体CdSe纳米晶体的蚀刻剂,所述的蚀刻剂包含醋酸铜、硬脂酸锌和硒粉,其中,醋酸铜、硬脂酸锌和硒粉的摩尔比为1∶(10~15)∶(10~15)。本发明同时提出了用上述蚀刻剂蚀刻CdSe纳米晶体的方法。利用本发明的方法可以使CdSe纳米晶体由最初的5.6nm刻蚀到2.6nm。本发明的蚀刻剂原料简单,成本低廉,利用本发明的蚀刻剂对CdSe纳米晶体进行蚀刻,可以方便地实现CdSe纳米晶体尺寸的裁剪,可以实现对CdSe纳米晶体的发光峰从红光到蓝光的宽范围刻蚀,且荧光光谱半高宽较窄,同时,刻蚀过程中CdSe纳米晶体形貌和组成元素不发生改变,且无任何附加产物,可控性强,重复性好。
  • 一种用于胶体cdse纳米晶体蚀刻方法

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