专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种低温等离子处理高浓度污水的工艺和方法-CN201610295560.3在审
  • 魏星;方廷勇;苗春光;胡浙平;魏翰林;韦迪 - 魏星
  • 2016-05-06 - 2017-11-14 - C02F1/30
  • 本发明公开了一种低温等离子处理高浓度污水的工艺和方法,高浓度污水经过滤后送入污水存储池,高浓度污水经加压后送入雾化喷嘴由混合气雾化后喷入电极的放电区域,高压脉冲发生器发生的高压脉冲电压在电极处放电,使电子加速,形成无需屏蔽的高能自由电子,高能自由电子使高浓度污水中的水分子发生激发裂解和电离,生成羧基自由基·OH、O3、H2O2,羧基自由基·OH、O3、H2O2 轰击高浓度污水中有机物的C‑C键和不饱和键,使高浓度污水中的有机物断键和开环,使高浓度污水中有机物的大分子变成小分子,实现高浓度污水的净化。
  • 一种低温等离子处理浓度污水工艺方法
  • [发明专利]半导体设备及其制造方法-CN201110165559.6有效
  • 一条尚生;A.阿伯托;成濑一史 - 夏普株式会社
  • 2011-06-20 - 2011-12-21 - H01L29/861
  • 根据本发明的半导体设备包括:形成在半导体层上的第二传导类型的第一扩散区;形成在第一扩散区中的第一传导类型的第二扩散区;形成在第二扩散区中的第二传导类型的第一高浓度扩散区和第一传导类型的第二高浓度扩散区;第一扩散区中的与第二扩散区分隔开给定距离的第二传导类型的第三高浓度扩散区;以及形成在第一高浓度扩散区和第三高浓度扩散区上方并且处于二者之间的栅极电极,其间插入有栅极绝缘膜,其中所述栅极电极被形成为与第一高浓度扩散区重叠,并且所述栅极电极在相同电位下与第一高浓度扩散区和第二高浓度扩散区电连接。
  • 半导体设备及其制造方法
  • [实用新型]一种高浓度甲醛溶液的吸收塔-CN202223518461.7有效
  • 郭宪杰 - 濮阳市华昌石化机电设备有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-06-13 - B01D53/18
  • 本实用新型属于甲醛技术领域,尤其是一种高浓度甲醛溶液的吸收塔,针对现有的稳定性差,支撑面小的问题,现提出如下方案,其包括高浓度甲醛溶液吸收塔,所述高浓度甲醛溶液吸收塔的底部栓接有底箱;底箱内部顶端的两侧均转动套接有小齿轮,小齿轮的底部栓接有主锥形齿轮,主锥形齿轮的齿牙啮合有副锥形齿轮,副锥形齿轮侧面的轴心处栓接有蜗杆,维护人员登上扶手梯对高浓度甲醛溶液吸收塔顶部进行维护时,通过稳定架对高浓度甲醛溶液吸收塔进行支撑稳定,增强高浓度甲醛溶液吸收塔的稳定性,在遇到恶劣天气或高浓度甲醛溶液吸收塔重心不稳时,扶手梯反向转动落地,对高浓度甲醛溶液吸收塔进行支撑,增强稳定性。
  • 一种浓度甲醛溶液吸收塔
  • [发明专利]一种工业旋风除尘器-CN202111496058.6在审
  • 卢有荣 - 卢有荣
  • 2021-12-08 - 2022-03-22 - B04C5/103
  • 本发明公开了一种工业旋风除尘器,其结构包括除尘塔身、管道壳套、吊环、支脚、加强筋,除尘塔身侧边设有管道壳套并与其相互连通,本发明具有的效果:将经过螺旋蜗管降温后的粉尘进行集中并向底部的灰斗输送,通过热气流上升的原理在顶端位置设有出风蜗壳制成的管道并引导热气向上向外排出,避免了传统水冷方式与粉尘直接接触造成粉尘湿度增加的弊端产生,从而解决现有旋风除尘器处理高浓度或磨损性大的粉尘时,入口处和锥体部位都容易损坏且无法直接处理高温粉尘的问题。
  • 一种工业旋风除尘器
  • [发明专利]半导体装置-CN201480040051.5有效
  • 山下胜重;西村兼一;山本敦也;青木成刚 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2014-07-02 - 2019-02-19 - H01L29/78
  • 半导体装置具有:硅基板,具有包含第一导电型杂质的高浓度层;低浓度成,形成在高浓度层之上,包含第一导电型杂质;第一电极以及第二电极,形成在低浓度层之上;纵型半导体元件,在第二电极与高浓度层之间流过电流;以及第一沟槽部,使第一电极与高浓度层之间电导通。第一多晶硅形成为将低浓度层贯通并到达高浓度层,第一多晶硅和扩散层的第一导电型杂质浓度在从低浓度层至高浓度层的方向上是一定的。
  • 半导体装置
  • [发明专利]一种分流式双系统污泥减量膜生物反应器及其使用方法-CN201110126880.3有效
  • 李方 - 东华大学
  • 2011-05-17 - 2011-11-23 - C02F9/14
  • 本发明涉及一种分流式双系统污泥减量膜生物反应器及其使用方法,该反应器包括:高浓度系统和低浓度系统;其使用方法包括:将进水清浊分流得到高浓度进水和低浓度进水,然后使高浓度进水和低浓度进水分别进入高浓度系统和低浓度系统,其中高浓度系统利用水解酸化和好氧膜生物反应器处理高浓度进水,处理后可排放;低浓度系统利用厌氧膜生物反应器和曝气生物滤池处理低浓度废水,处理后可作为中水回用,或进一步制作纯净水。本发明利用清污分流避免废水中盐类对中水回用的影响,解决了低浓度系统因有机负荷过小而不能维持较高污泥浓度的矛盾,减小污泥处理费用,降低运行费用;本发明的工艺特别适用于染整、酿酒企业等工业污水处理和中水回用
  • 一种分流双系统污泥减量膜生物反应器及其使用方法
  • [发明专利]半导体集成装置-CN200510113528.0无效
  • 森下泰之 - 恩益禧电子股份有限公司
  • 2005-10-17 - 2006-04-26 - H01L27/04
  • 还有,在p型阱(12a)的表面上形成了高浓度n型区域(15a),在p型阱(12b)的表面上形成了高浓度n型区域(15b),分别接地。再有,与高浓度n型区域(15a)相对而在n型阱(11)的表面上形成了高浓度p型区域(14a),与高浓度n型区域(15b)相对而在n型阱(11)的表面上形成了高浓度p型区域(14b),分别与I/O焊盘连接并且,被高浓度p型区域(14a)和高浓度p型区域(14b)夹着而在n型阱(11)的表面上形成了高浓度n型区域(13),与触发元件连接。施加在I/O焊盘上的冲击通过左右的SCR构造而向接地端子释放。
  • 半导体集成装置

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