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- [实用新型]介电质膜高反射镜-CN202222874482.6有效
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吴茂;杨建文
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伯恩光学（惠州）有限公司
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2022-10-28
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2023-03-24
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G02B5/08
- 本实用新型涉及光学薄膜技术领域，具体公开了一种介电质膜高反射镜，包括基底及堆叠设置在基底上并包括交替堆叠设置的若干全介电质低折射率膜层和若干全介电质高折射率膜层的反射膜，全介电质低折射率膜层的折射率小于1.55，全介电质高折射率膜层的折射率大于2，单个全介电质低折射率膜层和单个全介电质高折射率膜层的厚度分别为2‑200nm，反射膜的厚度为1300‑3000nm。上述介电质膜高反射镜采用介电质低折射率膜层和介电质高折射率膜层交替堆叠设置，光束在各膜层界面反射回前表层的光产生相长干涉，反射率提高；各膜层均由全介电质材料成型，不含单质金属层，避免了氧化和受潮问题，延长了介电质膜高反射镜的使用寿命
- 质膜反射
- [发明专利]高K介电膜-CN200480033499.0有效
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拉温德拉纳特·德鲁帕德
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飞思卡尔半导体公司
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2004-10-22
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2007-03-14
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H01L29/49
- 一种介电层(14，22，24，32)，由两个导体或导体(14，20，34)和衬底(12，26，30)之间形成的镧、镥和氧构成。在一个实施例中，介电层形成在衬底上，不需要额外的界面层。在另一个实施例中，介电层(22，42，46)渐次变化镧或镥的含量，或者还包括铝的含量。在另一个实施例中，绝缘层形成在导体或衬底和介电层之间，或者形成在导体和衬底以及介电层之间。介电层优选的由分子束外延来形成，但是也可以由原子层化学气相淀积、物理气相淀积、有机金属化学气相淀积或脉冲激光淀积来形成。
- 介电膜
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