专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]制造多晶的装置和方法-CN200910176775.3无效
  • 朴斗镇 - TSTI技术株式会社
  • 2009-09-21 - 2010-10-06 - C01B33/029
  • 本发明公开了一种制造多晶的装置和方法,其能够通过采用激光束对硅烷气体进行热分解来沉积多晶颗粒,缩短制造多晶所需要的时间段,并且能够通过直接地沉积多晶颗粒并熔化多晶颗粒来制造铸块,而不需要使用额外的晶体种子,其中,所述装置还包括反应室;气体供应器,用于将硅烷气体供应给所述反应室;激光照射器,用于通过将激光束照射到从所述气体供应器供应的硅烷气体来对所述硅烷气体进行热分解,生成多晶颗粒;以及多晶颗粒接收器,用于接收并储存多晶颗粒
  • 制造多晶装置方法
  • [发明专利]一种多晶颗粒制备系统及制备方法-CN201310086173.5有效
  • 李波;宫有圣;汤川·理查德 - 浙江精功新材料技术有限公司
  • 2013-03-19 - 2013-07-24 - C01B33/021
  • 本发明公开了一种多晶颗粒制备系统,解决了现有技术的多晶颗粒易在流化床反应器内壁沉积,制得的多晶颗粒粒径不均匀,多晶晶种利用率低,多晶细粉损失率大的问题,其包括倾斜设置的旋转式流化床、一级旋风分离器、二级旋风分离器、载气过滤器、物料预热储罐及尾气缓冲罐,旋转式流化床中间的反应筒体部分可相对两端的封头转动,且旋转式流化床中设置有折流挡板,本发明能有效抑制多晶颗粒易在流化床反应器内壁沉积,提高多晶晶种利用率,降低多晶细粉损失率。本发明还公开了一种多晶颗粒制备方法,该制备方法工艺过程稳定,操作连续性好,多晶晶种利用率高,多晶生产效率高,且得到的多晶颗粒粒径均匀。
  • 一种多晶颗粒制备系统方法
  • [发明专利]多晶炉料制备熔熔料的方法-CN96110663.8无效
  • 约翰·D·霍尔德 - MEMC电子材料有限公司
  • 1996-07-24 - 2002-04-10 - C30B15/00
  • 公开了一种用多晶制备熔熔料的工艺,该熔熔料用于通过切克劳斯基方法生产单晶。初始向坩埚中填充多晶并加以熔化,形成包含熔和未熔化多晶的特殊熔化炉料。熔具有一个上表面,未熔化多晶部分暴露于该上表面之上。以一种方式向暴露的未熔化多晶上添加颗粒多晶,该方式足以使颗粒多晶在停留于暴露的未熔化多晶的表面期间和在逐渐沉入熔之前实现脱氢。然后颗粒多晶和未熔化的多晶全部熔化形成熔熔料。该方法使生产单晶晶锭时的零缺陷成品率、产量和平均热循环时间均得到改善。$#!
  • 多晶炉料制备熔硅熔料方法
  • [发明专利]一种流化床制备高纯度多晶颗粒的方法及流化床反应器-CN200810116150.3有效
  • 王铁峰;魏飞;王金福;朱杰 - 清华大学
  • 2008-07-04 - 2008-12-10 - C01B33/03
  • 一种流化床制备高纯度多晶颗粒的方法及流化床反应器,所述流化床反应器加热区和反应区在结构上相互隔开,该方法包含以下步骤:a)在反应器的加热区,通入不含流化气体使加热区的多晶颗粒处于流化状态,通过加热装置将多晶颗粒加热;b)加热后的多晶颗粒输送到反应区,在反应区通入含气体,含气体在多晶颗粒表面发生热分解或还原,产生单质并沉积在颗粒表面;c)在反应器下部将部分粒径为0.1~10mm的多晶颗粒作为产品取出;d)在反应区上部,加入作为晶种的直径为0.01~1.0mm的多晶颗粒以维持反应器内多晶颗粒的量。本发明技术具有反应器器壁沉积少、反应器连续操作且运行周期长、能耗低等优点。
  • 一种流化床制备纯度多晶颗粒方法反应器
  • [发明专利]一种具有定向凝固组织多晶锭的制备方法-CN201010609932.8无效
  • 陈瑞润;丁宏升;黄锋;郭景杰;苏彦庆;李新中;傅恒志 - 哈尔滨工业大学
  • 2010-12-28 - 2011-04-20 - C30B11/00
  • 一种具有定向凝固组织多晶锭的制备方法,它涉及一种多晶锭生产方法,以解决现有多晶锭的制备主要是在陶瓷或石墨套筒中进行,套筒内壁对多晶产生污染,导致多晶锭的纯度低的问题。方法:一、先漏入石墨底座上25g颗粒;二、抽真空;三、向真空室充入氩气;四、利用感应线圈使冷坩埚内的颗粒熔化;五、向冷坩埚内加入颗粒,形成颗粒熔体驼峰后,停止步进电机,保温8min;六、驱动拉杆向下运动,启动步进电机,使石墨管中的颗粒向冷坩埚内加料,冷却器为熔化的颗粒提供强冷,使熔化的颗粒形成具有定向凝固组织的柱状晶;七、将柱状晶锭的多晶层加工去除后即为具有定向凝固组织多晶锭。本发明用于制备多晶锭。
  • 一种具有定向凝固组织多晶制备方法
  • [发明专利]缓研磨去除多晶表面凸块缺陷的方法及半导体工艺方法-CN201711480652.X有效
  • 蔡长益 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2017-12-29 - 2021-02-05 - B24B37/10
  • 本发明提供一种缓研磨去除多晶表面凸块缺陷的方法及半导体工艺方法,包含以下步骤:1)将包含多晶层的半导体结构置于化学机械研磨设备中,多晶层的表面形成有凸块缺陷;2)使用包含二氧化铈研磨颗粒的研磨缓冲液对多晶层进行化学机械研磨,以去除多晶层表面的凸块缺陷,研磨缓冲液呈弱酸性,以防止多晶层的多晶在化学机械研磨过程中被氧化而形成二氧化硅。本发明通过使用包含二氧化铈研磨颗粒的酸性研磨缓冲液对多晶层进行化学机械研磨,由于在酸性环境下所述二氧化铈研磨颗粒去除所述多晶的速率非常慢,在去除位于多晶层表面的凸块缺陷的同时,可以有效控制去除的多晶层的厚度,从而减少多晶层的损耗。
  • 研磨去除多晶表面缺陷方法半导体工艺

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