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[发明专利]一种宽幅靶材矫平装置-CN202310600027.3在审
发明人：单鹏;李德华;王淑辉 -专利权人：洛阳汇晶新材料科技有限公司
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： B21D1/02 文献下载
摘要：一种宽幅靶材矫平装置，包括上机座、下机座和回转架，其中，在上机座上设置有多根上矫平辊，各上矫平辊在第一电机的驱动下同向自转；在下机座上固定有第二电机和第三电机，在上机座与下机座之间设置有下压机构；沿回转架的径向均布设置有多根下矫平辊，沿回转架的周向设有齿圈，齿圈与固定在第三电机上的齿轮啮合连接；各下矫平辊在第二电机的驱动下同向自转，在第三电机的驱动下绕回转架的轴线公转。本矫平装置通过旋转的方式对宽幅靶材进行反复矫平，这种旋转矫平的方式能够不停地改变上矫平辊和下矫平辊对宽幅靶材的施压位置和角度，消除了宽幅靶材在矫平时的各向异性，提高了宽幅靶材的平整度。
一种宽幅靶材矫平装

[实用新型]大面积靶材矫平后翘曲度测量装置-CN201721650658.2有效
发明人：张学文;胡清熊;祝永华;黄岩 -专利权人：常州苏晶电子材料有限公司
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G01B5/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及测量装置技术领域，尤其是一种大面积靶材矫平后翘曲度测量装置，具有支架和安装在所述支架上的平台，平台的对称侧边边缘处设有等高块，等高块上设有平尺，平尺上套设有在其上移动的游标卡尺，所述平台的台面上设有靶材，装置简单，使用方便，易实现，以大理石平台为基准，对大面积靶材的任意点进行测量，避免了以往靶材中间区域测量不到的情况；同时由于平尺与靶材表面不接触，避免摩擦造成的划伤。
大面积靶材测量装置平尺等高块翘曲度矫平支架本实用新型大理石平台靶材表面靶材中间对称侧边区域测量游标卡尺边缘处不接触任意点上移动靶材划伤上套摩擦测量

[发明专利]一种铜镓靶材及其制备方法-CN201910574761.0在审
发明人：蔡新志;朱刘;童培云;黄宇彬;冉成义;阿南·辛格·迪欧达特 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及靶材制备技术领域，尤其涉及一种铜镓靶材及其制备方法。冷却后，得到铸锭；C)将所述铸锭进行热轧：将所述铸锭加热至700～850℃，并保温1～3h后，按照每道次减少0.25～1mm，轧制1～4道后，重新加热10～15min，得到板坯；D)将步骤C)中的板坯进行矫平，冷却后，得到的板坯经机加工后，得到铜镓靶材。本发明通过熔炼‑轧制的方法可以得到低氧含量、组分均匀、晶粒细化和强度较高的高纯铜镓靶材。实验表明，本发明制备的铜镓靶材晶粒尺寸较小，致密度较高。
靶材制备板坯铸锭轧制混合物料高纯铜加热冷却制备技术领域熔化晶粒晶粒细化高纯镓机加工熔炼低氧矫平热轧保温浇铸精炼

[发明专利]一种铝钪靶材样品的制备方法-CN202110640369.9在审
发明人：冉成义;蔡新志;苏紫珊;童培云;朱刘 -专利权人：先导薄膜材料有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种铝钪靶材样品的制备方法，涉及半导体靶材技术领域。本发明提供的制备方法包括以下步骤：(1)在铝钪靶坯上标记待取样区；(2)将所述待取样区剪切后，进行矫平得到样品A；(3)采用金相研磨机研磨所述样品A；(4)保留研磨后的光亮区域，得到样品B；(5)将所述样品本发明技术方案通过对铝钪靶坯经标记后取样，待取样区部分被剪切后，再经过研磨、筛选、剪碎、筛选、超声清洗、无水乙醇漂洗、干燥后得到铝钪靶材样品能够更加真实客观的反应铝钪合金靶材的理化参数，从而节约了因样品复测而耗费的时间
一种铝钪靶材样品制备方法

[发明专利]一种大尺寸高纯铝靶材的制备方法-CN201710263927.8有效
发明人：冉继龙;李谢华;黄瑞银;林欣;刘华春;石亚雨 -专利权人：中铝瑞闽股份有限公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C22F1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种大尺寸高纯铝靶材的制备方法，1）将高纯铝铸锭进行表面铣削去除表面的氧化层；2）将铸锭放入加热至230～400℃；3）在热粗轧机上进行轧制；保证单道次压下量在20～60mm，将板坯厚度轧制至40～80mm，将板坯剪切为宽幅靶材所需的长度，如700mm长，自然冷却；4）将冷却后的板坯再次加热，加热温度200～350℃，保温时间1h；5）在可逆式轧机上进行横向轧制，进行1道次轧至成品厚度；6）对板材进行200～350℃，保温时间1～2h的退火；7）板材矫平后铣削加工，获得晶粒在70～120um的高纯铝靶材；本发明可提高铸锭通用性，可减少了靶材对进口的依赖。
一种尺寸高纯铝靶材制备方法

[发明专利]一种超高纯铝靶材的制备方法-CN201610846416.4有效
发明人：冉继龙;李谢华;黄瑞银;徐始祥;罗筱雄;陈国生;詹开严;刘华春 -专利权人：中铝瑞闽股份有限公司
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种超高纯铝靶材的制备方法，包括以下步骤：（1）将纯度大于99.999wt%的超高纯铝铸锭进行表面铣削，去除表面的氧化层；（2）将铸锭加热至230～400℃；（3）将加热后的铸锭进行10~20道次的热轧，单道次压下量控制在20~60mm，控制最后道次的终轧温度在350℃以下；（4）对完成热轧的铝板进行温度为200～300℃，保温时间为1～2h的退火处理；（5）对板材矫平后进行铣削加工，获得平均晶粒在80～150um的超高纯铝靶材。本发明可制备出纯度高，晶粒细小且均匀的靶材，织构取向一致，满足PVD的使用要求；同时工艺简单，易于操作，便于大规模工业化生产，有效的减小了能耗，降低了成本。
超高纯铝靶材铸锭制备加热热轧大规模工业化生产单道次压下量晶粒平均晶粒退火处理铣削加工织构取向氧化层减小矫平铝板铣削终轧去除保温能耗

[发明专利]一种蚀刻型散热合金带材的表面平整度改善方法-CN202310617163.3在审
发明人：华称文;申真;巢国辉;项燕龙;种腾飞;昌芬 -专利权人：宁波金田铜业（集团）股份有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C21D1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻型散热合金带材的表面平整度改善方法，包括：对蚀刻型散热合金带材依次进行第一矫平处理以及第二矫平处理；其中，第一矫平处理包括：将若干蚀刻型散热合金带材堆叠为蚀刻型散热合金带材群后，于100℃‑400℃的退火温度下，向蚀刻型散热合金带材群施加20kg‑500kg的压应力，保持1h‑5h，以对蚀刻型散热合金带材进行第一矫平处理；第二矫平处理包括：使经第一矫平处理后的蚀刻型散热合金带材以5m/min‑30m/min的速度穿过矫平装置若干次，以对蚀刻型散热合金带材进行第二矫平处理；矫平装置包括：若干对矫平辊。本发明的表面平整度改善方法通过第一矫平处理以及第二矫平处理，能够充分满足蚀刻型散热合金带材平整度的指标要求与稳定性要求。
一种蚀刻散热合金表面平整改善方法

[发明专利]镁合金挤压材矫直方法及所用的张力拉矫机-CN200610167475.5无效
发明人：李必胜;尚守亮;乔维昌;鲜光才;张冬丽 -专利权人：重庆镁业科技股份有限公司
申请日： 2006-12-20 - 公布日： 2007-05-30 - 主分类号： B21D3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁合金挤压材矫直方法，该方法包括如下过程：将待矫直的镁合金挤压材固定到张力拉矫机上；将待矫直挤压材两端与电极连接向镁合金挤压材通电，使其发热并升温到矫直所需温度；利用张力拉矫机进行拉矫；拉矫完后强制冷却至常温。还公开了一种镁合金挤压材张力拉矫机。这种方法和设备能够提高镁合金挤压材的工作效率和产品质量，更加安全可靠。
镁合金挤压矫直方法所用张力拉矫机

[实用新型]一种用于金属带材的侧边矫平机-CN202020071529.3有效
发明人：冯卫军 -专利权人：苏州君驰联动机械有限公司
申请日： 2020-01-14 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： B21D1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于金属带材的侧边矫平机，包括机架、进料机构、整平机构、出料机构及传动部件，所述进料机构、整平机构及出料机构设置于所述机架上，所述传动部件设置于所述机架内部；所述机架上还设置侧边矫平机构和侧边矫平补偿机构，所述侧边矫平机构位于进料机构和整平机构之间，所述侧边矫平补偿机构位于整平机构和出料机构之间。该矫平机通过整平机构对金属带材上下两面矫平，设置侧边矫平和补偿机构对金属带材的侧面进行快速精确矫平，矫平工作效率高，矫平质量佳，满足特殊金属零件须用到四个面都要具备较高的平面度和直线度窄带材进行加工的特殊要求
一种用于金属侧边矫平机

[发明专利]一种超薄带材矫平治具及矫平方法-CN202310955510.3在审
发明人：韩洋洋;陶克文;罗雄科 -专利权人：上海泽丰半导体科技有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B21D1/00 文献下载
摘要：本申请提供一种超薄带材矫平治具及方法，涉及半导体材料制备技术领域，该超薄带材矫平治具的所述第一螺杆和所述第一钳口位于所述第一位移平台上，所述第一螺杆可带动所述第一钳口固定待矫平带材的第一端，所述第一微分头可带动第一位移平台位移使得所述第一钳口向所述待矫平带材的第一端施加张力；所述第二位移平台位于所述动滑台上，所述第二螺杆和所述第二钳口位于所述第二位移平台上，所述第二螺杆可带动所述第二钳口固定待矫平带材的第二端，所述第二微分头可带动所述第二位移平台位移使得所述第二钳口向所述待矫平带材的第二端施加张力，提高了超薄带材的矫平效率，节约了工艺成本。
一种超薄带材矫平治具平方

[实用新型]一种可提高靶材利用率的靶座-CN201520217063.2有效
发明人：刘林;檀玉珩 -专利权人：山东禹城汉能薄膜太阳能有限公司
申请日： 2015-04-13 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种可提高靶材利用率的靶座。一种可提高靶材利用率的靶座，包括：靶材；导电膜层，位于靶材下方；靶材背板，其上表面设置导电膜层；靶材冷却层，设于靶材背板下方；靶材磁场层，设于靶材冷却层下方；靶材基座，设于靶材磁场层下方；陶瓷组件，包括陶瓷组件正极、陶瓷组件负极和陶瓷密封焊接件，所述陶瓷组件正极和陶瓷组件负极贯穿靶材背板、靶材冷却层、靶材磁场层、靶材基座设置，所述导电膜层和靶材背板通过陶瓷密封焊接件连接。本一种可提高靶材利用率的靶座，可提高该靶材的使用寿命，当该靶材使用寿命耗尽的时候，靶材上所剩的材料也不是太多，从而避免了靶材材料的浪费，节约了成本，实现靶材利用的最大值。
一种提高利用率

[发明专利]一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极-CN202111108818.1在审
发明人：汪建;杜寅昌;李成;刘风光;吴鹏;赵巍胜 -专利权人：北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明的一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极，包括靶材、磁体、磁轭及靶座，还包括运动机构；靶材安装在靶座上方，磁体安装在磁轭上，位于靶座下方；磁轭和靶座连接到运动机构上，运动机构可以牵引靶座及上方的靶材上下移动，从而改变靶材与磁体的间距。当靶材为磁性材料时，通过运动机构调节靶材和磁体间距变小；当靶材换成非磁性材料时，通过运动机构，靶材与磁体间距变大。本发明可以根据靶材的性质，合理调整靶材与磁体的间距，使得靶材表面磁场的平行分量分别适用于磁性靶材和非磁性靶材，磁性靶材和非磁性靶材兼容在同一个磁控溅射阴极上使用。
一种兼容磁性磁控溅射阴极

[发明专利]一种监控靶材消耗状况的装置及方法-CN201710285979.5有效
发明人：刘思洋 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种监控靶材消耗状况的装置，一种监控靶材消耗状况的装置，包括:靶材背板；靶材，所述靶材通过粘合层粘接到所述靶材背板上；回路组件，当所述靶材未消耗至指定程度时，所述回路组件能够与所述靶材构成完整的回路，当所述靶材消耗至指定程度时，所述回路组件无法与所述靶材构成完整的回路。可以实时监控靶材消耗状况，最大程度利用靶材，避免靶材击穿问题发生，提高产品良率和靶材使用效率。
靶材消耗回路组件靶材背板监控产品良率实时监控使用效率粘合层击穿

[实用新型]一种拼接靶材-CN201721749467.1有效
发明人：黄勇彪;林文宝;刘海燕;李宝英 -专利权人：深圳市众诚达应用材料科技有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及拼接靶材，包括背板、设置在所述背板上的靶材组合件；所述靶材组合件包括若干靶材单元；所述若干靶材单元相互拼接形成所述靶材组合件；所述靶材组合四周边缘高度高于所述靶材组合件的中间高度。该拼接靶材通过在背板上设置由若干靶材单元相互拼接形成的靶材组合件，可以满足溅射或者半导体生成过程中对靶材尺寸的要求，另外，该靶材组合件四周边缘的高度高于该靶材组合件的中间高度，形成中间凹陷的结构，使得，溅射过程中，避免溅射粒子向靶材区域外溅射，从而提高了靶材的利用率，避免靶材资源浪费。
靶材组合件拼接靶材背板四周边缘溅射拼接本实用新型靶材区域溅射粒子中间凹陷对靶外溅半导体

[实用新型]脉冲激光沉积系统的靶材装载装置及系统-CN201821635929.1有效
发明人：朱新华;李炳坤;张晓军;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本实用新型涉及薄膜制造技术领域，公开了一种脉冲激光沉积系统的靶材装载装置及系统。所述脉冲激光沉积系统的靶材装载装置包括靶材转盘、至少一个靶座、靶座自转齿轮、靶座自转驱动齿轮、靶材挡板、靶材挡板单向轴承、靶材挡板单向轴承座、公转主轴、靶材转盘自转齿轮、靶材转盘单向轴承和驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述公转主轴转动以带动所述靶材转盘转动、驱动所述公转主轴转动带动靶材挡板单向转动以使所述靶材转盘上的靶座可正对所述靶材挡板的靶材孔、以及驱动所述靶座自转驱动齿轮带动所述靶座自转齿轮转动以使所述靶座自转。通过控制旋转靶材挡板就方便快捷地实现了靶材的快速切换，提升了薄膜制造的工作效率。
靶材靶座挡板脉冲激光沉积系统转盘公转主轴装载装置自转齿轮转动自转驱动齿轮单向轴承驱动机构驱动薄膜制造技术本实用新型薄膜制造单向转动工作效率控制旋转快速切换转盘转动轴承座正对自转

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