专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光伏电池-CN201310500099.7有效
  • 丛国芳 - 溧阳市东大技术转移中心有限公司
  • 2013-10-22 - 2014-02-19 - H01L31/075
  • 本发明公开了一种光伏电池,自下而上依次包括:基板、第一透明导电层、薄膜层、晶格P型半导体层、第一碳薄膜层、本征半导体层;N型半导体层;第二碳薄膜层、第二透明导电层以及电极。其中晶格P型半导体层由材料层与碳材料层在水平方向上相互间隔形成,所述材料层与碳材料层的宽度相等,厚度相同;薄膜层、晶格P型半导体层、第一碳薄膜层所组成的三明治结构用于提高光伏电池的电特性与产生空穴
  • 一种电池
  • [发明专利]一种织炭包覆的纳米复合粉体及其制备方法以及应用-CN202210175315.4在审
  • 于杰;艾顺;苑甫;王恩哥 - 松山湖材料实验室
  • 2022-02-25 - 2022-05-17 - H01M4/36
  • 本申请涉及锂离子电池技术领域,具体而言,涉及一种织炭包覆的纳米复合粉体及其制备方法以及应用。织炭包覆的纳米复合粉体包括内芯以及包覆于内芯表面的织炭包覆层;内芯包括纳米级粉;织炭包覆层包括热解碳和多个间隔分布的石墨烯纳米片;每个石墨烯纳米片均与纳米级粉表面连接且沿纳米级粉的径向延伸;热解碳填充于相邻两个石墨烯纳米片的间隙内。相比碳层包覆纳米级粉制备的复合粉体,本申请提供的织炭包覆的纳米复合粉体具有更高的强度和导电性;当其用于制备锂离子电池负极材料时,能够显著抑制纳米级粉的体积膨胀,具有较高的结构稳定性,可以提高负极材料的导电性以及电化学循环稳定性
  • 一种织构炭包覆纳米复合及其制备方法以及应用
  • [发明专利]一种浅结的制备方法-CN201710523885.7有效
  • 康晓旭 - 上海集成电路研发中心有限公司
  • 2017-06-30 - 2020-02-14 - H01L21/336
  • 本发明提供了一种浅结的制备方法,其包括:步骤01:提供一衬底;步骤02:在衬底表面生长氧化薄膜;步骤03:在氧化薄膜表面低温生长掺杂层;步骤04:采用释放工艺去除非层,层中的杂质成分保留在氧化薄膜表面;步骤05:高温退火,驱使氧化薄膜表面的杂质扩散进入衬底表层并在衬底表层被激活;步骤06:去除氧化薄膜和未进入衬底表层的杂质。本发明打破了现有的制备浅结需要低能量注入且均匀性较差的问题,可以在低温下制备掺杂介质,并不需要高温,从而避免高温下杂质在掺杂介质生长时扩散到衬底表层,导致浅结形成较难的问题。
  • 一种超浅结制备方法
  • [发明专利]准直透镜及设计方法、基于准直透镜的准直系统-CN202310881304.2在审
  • 刘爽;胡敬佩;杨增辉;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-07-18 - 2023-10-10 - G02B1/00
  • 准直透镜及设计方法、基于准直透镜的准直系统,其中,基于准直透镜的准直系统,包括:VCSEL阵列和准直透镜阵列;VCSEL阵列包括若干个VCSEL单元;准直透镜阵列包括若干个准直透镜,若干个准直透镜与若干个VCSEL单元一一对应设置,对VCSEL单元的发射光束进行准直;准直透镜由不同半径的圆柱排布组成,其中,各圆柱的半径根据准直透镜各位置的位置相位来确定,以使不同半径的圆柱根据准直透镜的位置相位分布来排布通过采用特定相位分布的准直透镜设计方法来突破传统曲率半径加工的限制,通过特定半径尺寸圆柱的排布代替传统光学凸透镜的曲面分布,基于高精度的微纳加工工艺,提高准直性能。
  • 准直超透镜设计方法基于系统
  • [发明专利]一种浅结均匀性的改善方法-CN201210544419.4在审
  • 李超波;邹志超;窦伟 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-14 - 2014-06-18 - H01L21/18
  • 本发明公开了一种浅结均匀性的改善方法,包含:将基片的表面进行预化;从被预化的表面对所述基片进行离子注入,得到P型基片或N型基片;修复所述基片表面由于所述预化造成的晶格损伤。本发明提供的浅结均匀性的改善方法,与直接用掺杂离子进行注入相比,预先用氦离子对基片的表面进行离子注入,破坏基片表面晶格结构以达到预化,然后再进行所需要的离子注入,最后进行退火处理恢复被破坏的表面晶格,形成浅结,故本发明可有效提高离子注入后,基片的注入离子剂量的均匀性,从而提高后续在基片上制备MOS器件的电学性能。
  • 一种超浅结均匀改善方法
  • [发明专利]异质接面太阳能电池及其电极-CN201210080696.4有效
  • 陈建勋;范佳铭;吴建良;萧睿中;吴德清;林景熙 - 财团法人工业技术研究院
  • 2012-03-20 - 2013-07-03 - H01L31/0224
  • 一种异质接面太阳能电池及其电极,该电池包括:一晶体基板,为第一导电型,具有彼此相对的一第一表面及一第二表面,该第一表面为一第一织表面;一掺杂层,共形地配置于该第一表面上,该掺杂层为第二导电型;一第一电极层,配置于该掺杂层上,具有一第二织表面,该第一电极层的材料为掺杂氧化锌,该第一电极层的X光绕射图形的最大绕射峰为(10-11)峰;一背面电场层为第一导电型,配置于该第二表面上;一第二电极层基板具有第一织表面,掺杂氧化锌层配置于基板的第一织表面上,具有第二织表面,且掺杂氧化锌层的X光绕射图形的最大绕射峰为(10-11)峰。
  • 异质接面太阳能电池及其电极

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