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[发明专利]基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法-CN201510507141.7有效
发明人：吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2015-08-18 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明公开一种基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本发明藉此可对具有三维形状的工件抛光。
基于牛顿流体抛光系统及其方法

[发明专利]一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠抛光方法及抛光系统-CN201811160460.5有效
发明人：黄向明;明阳;周志雄 -专利权人：湖南大学
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光方法，包括以下步骤：S1：将具有磁流变特性的非牛顿流体抛光液加入抛光液槽中，再通过一带驱动系统的夹持装置使抛光工件浸泡于上述非牛顿流体抛光液中，并开启磁场发生装置；S2：在上述驱动系统的作用下，夹持装置带动抛光工件转动使抛光工件与非牛顿流体抛光液发生相对运动，非牛顿流体抛光液中的磨粒对抛光工件表面进行切削，即完成抛光过程。本发明还相应提供一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光系统。本发明的耗材成本低、抛光效率高、抛光效果好、可以实现抛光工件的超精密抛光。
一种基于磁场辅助牛顿流体抛光方法系统

[实用新型]基于非牛顿流体的抛光系统-CN201520620731.6有效
发明人：吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2015-08-18 - 公布日： 2016-01-20 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于非牛顿流体的抛光系统。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本实用新型藉此可对具有三维形状的工件抛光。
基于牛顿流体抛光系统

[发明专利]一种用于非晶合金的抛光液以及一种非晶合金的抛光方法-CN201010519625.0有效
发明人：曹朝波 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种用于非晶合金的抛光液以及非晶合金的抛光方法，所述抛光液，包含：钠盐、铵盐以及光亮剂，所述光亮剂为硫酸铈。所述抛光方法包括对非晶合金进行等离子抛光，所述等离子抛光的方法包括：将非晶合金与阳极相连，并浸入容纳有所述的抛光液的电解槽中，以电解槽体为阴极，进行等离子抛光。采用本发明所提供的抛光液，并通过等离子抛光的抛光方法制备得到的非晶合金的表面光滑，表面反射率高。
一种用于合金抛光以及方法

[发明专利]全自动非晶制程抛光系统-CN201811348226.5在审
发明人：肖迪 -专利权人：江苏利泷半导体科技有限公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种全自动非晶制程抛光系统，本抛光系统包括：主控单元、与所述主控单元电性相连的非晶片厚度量测装置，以及抛光装置；其中所述非晶片厚度量测装置适于量测陶瓷盘上蜡贴的若干非晶片的厚度信息，并将所述厚度信息发送至所述主控单元，由所述主控单元控制所述抛光装置对非晶片进行抛光；本发明实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工量测、记录，对需抛光的非晶片进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率。
非晶片抛光抛光系统主控单元厚度量测装置厚度信息抛光装置非晶量测制程主控单元控制上蜡电性相连抛光效率传统的陶瓷盘自动化发送记录

[发明专利]一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法-CN201810723154.1在审
发明人：王成勇;何小琳;李乃涛;高宽;张涛;郑李娟 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2018-07-04 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种非晶合金的抛光方法，将非晶合金作为阳极与直流稳压电源的正极相连并浸入容纳有上述抛光液的抛光槽中，将导电材料作为阴极与直流稳压电源相连并浸入所述抛光槽内，接通直流稳压电源对非晶合金进行电浆抛光，其中，所述抛光液的温度为50℃～100℃，所述直流稳压电源的电压为100V～380V，所述直流稳压电源的电流密度为0.2A/cm2～1A/cm2。本发明采用直流电压对非晶合金进行抛光，电流密度较小，对非晶合金中的原子冲力小，不会对非晶合金造成晶化现象，既保证抛光质量，又不影响非晶合金的品质。
非晶合金直流稳压电源抛光抛光液浸入抛光槽冲力阴极正极导电材料电浆抛光直流电压阳极晶化接通容纳保证

[发明专利]一种眼镜镜片减薄方法以及系统-CN202110029885.8在审
发明人：王定亚;王玉政;肖祥贵;赵霹;王归颖;朱朝阳 -专利权人：江苏奢品汇创意科技有限公司
申请日： 2021-01-11 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本申请方法包括：对雏形镜片的待减薄的非光学区域进行去料减薄至目标厚度，雏形镜片为具有预设光学度数的半成品镜片，非光学区域与雏形镜片的光学区域之间形成有过渡区域；通过第一抛光磨具对去料减薄后的非光学区域以及过渡区域进行抛光打磨，第一抛光磨具上设置有用于进行打磨的第一抛光件以及第一模具；通过第二抛光磨具对非光学区域以及过渡区域的边缘处进行抛光打磨；第二抛光磨具上设置有用于进行打磨的第二抛光件以及第二模具；通过第三抛光磨具对非光学区域以及过渡区域进行精抛光，通过第四抛光磨具对非光学区域以及过渡区域进行抛光打磨。
一种眼镜镜片方法以及系统

[发明专利]全自动非晶制程抛光系统的工作方法-CN201811348184.5在审
发明人：肖迪 -专利权人：江苏利泷半导体科技有限公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种全自动非晶制程抛光系统的工作方法，本工作方法包括：测量陶瓷盘上蜡贴的非晶片的厚度信息；依据所述厚度信息以对非晶片进行抛光；本发明实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工测量、记录，对需抛光的非晶片进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率。
抛光非晶片厚度信息抛光系统非晶制程上蜡测量陶瓷抛光效率人工测量传统的自动化记录

[发明专利]化学机械抛光垫-CN200410090362.0有效
发明人：宫内裕之;志保浩司;川桥信夫 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2004-11-04 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种化学机械抛光垫，其具有用于抛光待抛光物体的一个表面、与该表面相对的一个非抛光表面以及用于连接上述表面的一个侧面，并且其包括凹入部分的图案，它在非抛光表面上形成并开口于非抛光表面而不是侧面。
化学机械抛光

[发明专利]一种可自适应非规则复杂曲面的超声辅助抛光加工装置-CN202211120698.1有效
发明人：姜胜强;王变芬;肖湘武;张玮;徐志强;梅鸣 -专利权人：湘潭大学
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种可自适应非规则复杂曲面的超声辅助抛光加工装置，涉及超精密加工技术领域，为解决现有技术在抛光非规则复杂曲面时，因工件表面凹凸不平而难以进行精密抛光加工工序的问题，本装置主要包括抛光头模块、超声辅助模块、多自由度机械手；工作时，抛光头经超声振动对工件进行旋转抛光，抛光头模块的软支撑体可以自适应不规则复杂曲面，抛光头的每一根刷毛为空心结构，在抛光头旋转的同时，抛光液可以从刷毛中流出，从而实现化学机械抛光非规则复杂曲面的工件，提高非规则复杂曲面的抛光效率。
一种自适应规则复杂曲面超声辅助抛光加工装置

[发明专利]一种非晶合金复合构件及其抛光方法-CN201911403123.9在审
发明人：梁广平;杨兴;董大伟;高宽 -专利权人：东莞市逸昊金属材料科技有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种非晶合金复合构件及其抛光方法，抛光方法包括如下步骤：在模具定模的底部置入不锈钢片；在所述模具定模内置入非晶母合金，压铸成型得到复合构件；对所述复合构件的不锈钢面进行抛光，得到复合构件成品本发明提供的非晶合金复合构件及其抛光方法，在压铸时即提前放入不锈钢片使其与非晶母合金一同压铸形成复合构件，从而在后续的抛光过程中能够采用已有的不锈钢抛光方法对不锈钢面进行抛光，既保留了非晶合金特性，又杜绝了非晶合金因抛光达不到要求导致的作为外观件时的不良缺陷
一种合金复合构件及其抛光方法

[发明专利]非规则碲锌镉晶片的抛光方法-CN202011190271.X有效
发明人：侯晓敏;李振兴;刘江高;张瑛侠;吴卿;刘铭;折伟林 -专利权人：中国电子科技集团公司第十一研究所
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种非规则碲锌镉晶片的抛光方法。抛光方法基于抛光设备实现，抛光设备包括：相对且间隔设置的上抛光盘和下抛光盘；至少一个游轮片，位于上抛光盘与下抛光盘之间，每个游轮片设有多个通孔，每个通孔适于容纳一个非规则碲锌镉晶片；驱动装置，用于控制游轮片运动；调节装置，用于调节上、下抛光盘对非规则碲锌镉晶片的压力；抛光方法包括：在上抛光盘朝向下抛光盘的一侧固定上抛光布，在下抛光盘朝向上抛光盘的一侧固定下抛光布；将经过研磨工艺后的多个待抛光非规则碲锌镉晶片依次放置于游轮片的通孔内；在上、下抛光布上喷洒抛光液，并设定调节装置的相关参数，启动驱动装置，以实现多片晶片上下表面同时抛光。
规则碲锌镉晶片抛光方法

[发明专利]化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法-CN200410064056.X有效
发明人：志保浩司;保坂幸生;长谷川亨;川桥信夫 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2004-07-16 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供了化学机械抛光垫。该垫含有水不溶性基质和分散于该水不溶性基质材料中的水溶性颗粒，并具有抛光表面和该抛光表面反面上的非抛光表面，该垫具有透光区域，它从抛光表面到非抛光表面是光学相通的。该透光区域的非抛光表面具有10μm或更小的表面粗糙度(Ra)。
化学机械抛光以及方法

[发明专利]一种非晶合金局部抛光工艺-CN201711384191.6在审
发明人：宋佳 -专利权人：深圳市锆安材料科技有限公司
申请日： 2017-12-20 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种非晶合金局部抛光工艺，包括：油墨遮蔽：将非晶合金产品表面清洁后利用喷涂或者丝印在其表面覆盖一层油墨，待油墨完全固化后进行下一步骤；机械加工：按照加工要求将经处理后的非晶合金产品表面进行机械加工，去除待抛光表面的遮蔽油墨；电化学抛光：将待处理的非晶合金产品作为阳极，以不锈钢或者石墨作为阴极在电化学抛光液中进行电化学抛光在电化学抛光开始之前即开启电源使抛光液带电，然后再将待处理非晶合金产品置于电化学抛光液中进行抛光本发明提供了一种对非晶合金产品指定的局部区域进行抛光，从而获得局部高光效果的方法，该方法简单易行、适用性广，在实际生产过程中可根据需要对任何形状的局部区域进行抛光。
非晶合金产品油墨电化学抛光抛光电化学抛光液非晶合金机械加工局部抛光局部区域遮蔽阴极待抛光表面阳极表面覆盖表面清洁高光效果生产过程完全固化抛光液石墨带电喷涂去除丝印不锈钢电源加工

[实用新型]一种非晶纳米晶带材生产用抛光机构-CN202321222181.3有效
发明人：徐厚嘉;钟列平;金立铖;张鑫 -专利权人：苏州威斯东山电子技术有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B29/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种非晶纳米晶带材生产用抛光机构，包括工作台，所述工作台的顶部固定连接有固定架，固定架的顶部内壁固定连接有气缸，气缸的一端固定连接有U型架，所述U型架内设有抛光辊，通过抛光辊的设置，将非晶纳米晶带材放置在抛光辊上，启动电机，电机带动插架转动，插架带动抛光辊转动，从而实现抛光辊均匀的对非晶纳米晶带材的抛光，避免了抛光辊单边偏磨的情况，提高了装置的使用寿命，通过抛光片的设置，当抛光片被磨损至需更换时，将抛光片与安装辊分离，然后粘贴新的抛光片，实现对抛光片的更换，降低了非晶纳米晶带材的生产成本。
一种纳米晶带材生产抛光机构

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