专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅片加工装置及方法-CN201310432624.6在审
  • 王坚;贾照伟;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2013-09-22 - 2015-03-25 - B24B37/04
  • 本发明揭示了一种硅片加工装置,包括机台,该机台内配置有两套或两套以上电化抛光装置,每套电化抛光装置包括:抛光槽,抛光槽储存抛光;及抛光腔室,抛光腔室内设置有喷嘴,喷嘴与抛光槽之间经由抛光供应管道连接;各套电化抛光装置的抛光槽内储存相同或不同的抛光。本发明还揭示了一种硅片加工方法,包括使硅片依次在机台的各电化抛光装置内进行电化抛光处理,其中各电化抛光装置内配置相同或不同的抛光。本发明根据加工需求,在机台内配置数套电化抛光装置,提高了机台加工效率。
  • 硅片加工装置方法
  • [发明专利]镁合金电化抛光及其对镁合金处理的方法-CN201310023958.8无效
  • 杨升攀 - 汉达精密电子(昆山)有限公司
  • 2013-01-23 - 2014-07-23 - C25F3/18
  • 一种镁合金电化抛光,按重量百分比计算,其包括多元醇55~80%;有机酸1~10%;磷酸1~5%;纯水15~35%。另外,还提供一种镁合金电化抛光对镁合金处理的方法,其包括如下步骤:对镁合金进行脱脂处理;在20~25℃,电压6~20V的条件下,将上述镁合金放入所述镁合金电化抛光中进行电化抛光处理2~30min;将电化抛光处理后的镁合金进行烘烤。本发明具有以下优点:镁合金进行电化抛光之前无需预处理;经电化抛光后的镁合金具有较高的光泽度;且可以控制抛光时间的长短来获得不同光泽度的镁合金产品;该电化抛光的废水处理简单,且经过过滤处理后可以重复使用
  • 镁合金电化学抛光及其处理方法
  • [发明专利]一种失效电化抛光的活化方法-CN201710833692.1在审
  • 夏金成;陆玲;胡宗林;庄维伟;陈慧娟 - 苏州新材料研究所有限公司
  • 2017-09-15 - 2018-01-23 - C25F7/02
  • 本发明提供了一种失效电化抛光的活化方法,包括对所述失效电化抛光进行电解;所述电解的温度为30~90℃;所述电解的电流为30~120A。本发明提供的方法,通过所限定温度和电流强度条件的电解过程,实现失效电化抛光中水分的有效去除,解决由于抛光自身的吸水性所导致的抛光失效问题。本发明在电解除水的基础上,通过酸沉和成分平衡处理,能够有效去除失效电化抛光中的金属离子,并且抛光中成分得以均衡,满足抛光再使用的要求,解决由于抛光过程逐渐增多的金属离子导致的抛光的失效问题。
  • 一种失效电化学抛光活化方法

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