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[发明专利]靶材组件及其制造方法-CN201510728688.X在审
发明人：姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;段高林 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B23K1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材组件及其制造方法，包括提供氧化铟锡靶材、背板和焊料，所述氧化铟锡靶材用于焊接的面为第一焊接面，所述背板用于焊接的面为第二焊接面，所述焊料为铟焊料；通过所述铟焊料对所述氧化铟锡靶材的第一焊接面和背板的第二焊接面进行焊接，以形成靶材组件。其中，通过铟焊料对氧化铟锡靶材和背板进行焊接，铟焊料能够很好地浸润氧化铟锡靶材。因此能够提高靶材组件的焊接强度。此外，铟焊料的熔点较低，焊接温度较低，从而焊接过程中氧化铟锡靶材内部组织结构不容易发生变化，且氧化铟锡靶材的第一焊接面不容易被氧化，进而能够使氧化铟锡靶材与背板结合更紧密，因此能够提高靶材组件的焊接强度
组件及其制造方法

[发明专利]氧化铟靶材和氧化铟靶材制备方法-CN202010756012.2在审
发明人：雷雨;许积文;周志宏;肖世洪;周昭宇;杨永添 -专利权人：广州市尤特新材料有限公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种氧化铟靶材和氧化铟靶材制备方法，其中，氧化铟靶材的原料组分包括：氧化铈；氧化铟；其中，氧化铈的质量百分比为2至5。氧化铟靶材制备方法包括：按照氧化铟靶材的原料组分配比获取靶材原料；将靶材原料通过球磨研磨，获取一段研磨浆料；对一段研磨浆料进行砂磨研磨，获取二段研磨浆料；对二段研磨浆料进行造粒，获取粒料；对粒料进行冷等静压，获取素坯；对素坯进行烧结，获取靶材。本发明提供了的氧化铟靶材制备氧化铟靶材的原料组分包括氧化铈和氧化铟，氧化铈的质量百分比为2至5。通过该材料组分的选取及配比，使得制备获取的氧化铟靶材密度高、成分分布均匀性好，使得使用该靶材制备的导电氧化物薄膜性能得到提高。
氧化铟靶材制备方法

[发明专利]一种铟锡合金靶材的制备方法-CN202011233264.3在审
发明人：黄永香 -专利权人：湖南七点钟文化科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种氧化铟锡合金靶材的制备方法，包括以下步骤：A)将铟粉和锡粉置于真空滚动混料机中混合，得到混合物；B)将所述混合物采用滚动加热熔炼工艺制备铟锡合金靶材生坯，将所述铟锡合金靶材生坯进行热压烧结，得到铟锡合金靶材粗品；C)将所述铟锡合金靶材粗品进行退火，得到铟锡合金靶材。本申请制备了具有组织均匀晶粒细小、高耐热冲击性能的铟锡合金靶材，该种合金靶材作为旋转靶真空镀膜，可得到高电阻、抗电磁干扰、防静电、抗磨损的优质薄膜，可增加膜层的均匀性，提高靶材的利用率。
一种合金制备方法

[发明专利]透明导电铟掺杂氧化锡-CN201580028918.X在审
发明人： K·K·乌普雷蒂;K·H·拉克达瓦拉;R·谢伦伯格;M·A·艾利 -专利权人： PPG工业俄亥俄公司
申请日： 2015-03-12 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：一种制备氧化铟锡的方法，包括从靶材溅射铟和锡至衬底上，所述溅射包括在所述衬底上方沿着一个路径移动所述靶材。所述氧化铟锡可具有小于0.5Ω/□的薄层电阻。一种铟膜，包括：第一移动靶材溅射氧化铟锡层；在所述第一移动靶材溅射氧化铟锡层上的第二移动靶材溅射氧化铟锡层；以及在所述第二移动靶材溅射氧化铟锡层上的第三移动靶材溅射氧化铟锡层。一种透明体，包括氧化铟锡，以及一种飞行器，包括所述透明体。
透明导电掺杂氧化

[发明专利]一种氧化铟锌靶材及其制备方法-CN202211626314.3在审
发明人：张兴宇;邵学亮;王奇峰 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明属于IZO靶材技术领域，公开了一种氧化铟锌靶材及其制备方法，所述氧化铟锌靶材由氧化铟和氧化锌组成，所述靶材中Zn与In的原子比为Zn/(Zn+In)＝0.1％～4％，其中氧化铟由大粒径氧化铟和小粒径氧化铟的粉末组成，所述大粒径氧化铟的颗粒粒径D50为1‑2μm、D90为1‑1.8μm，所述小粒径氧化铟的颗粒粒径D50为0.1‑0.3μm、D90为0.1‑0.2μm。该氧化铟锌靶材，具有较低电阻率，较高导电率，并提高IZO靶材成膜特性；该制备方法能够有效降低IZO靶材的电阻率，并且提高了靶材的相对密度，使得靶材的综合性能进一步提高。
一种氧化铟锌靶材及其制备方法

[发明专利]氧化铟锡薄膜及其制备方法、含其的阵列基板、显示装置-CN201610545577.X有效
发明人：张启平;孙文波;钱叶甲 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示光源有限公司
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：一种氧化铟锡薄膜及其制备方法、包含该氧化铟锡薄膜的阵列基板和显示装置。其中该氧化铟锡薄膜的制备方法包括：步骤A：制备分立的氧化铟靶材和锡靶材；以及步骤B：在同一沉积腔室中，由所述氧化铟靶材和锡靶材分别产生氧化铟粒子和锡粒子，该氧化铟粒子和锡粒子在基体上共同形成氧化铟锡薄膜本发明的制备方法通过制备分立的氧化铟靶材和锡靶材，避免靶材重复制备，溅射工艺不用重新开始(如中途不用重新打开真空腔)；相比于传统制备方法的研磨、烧结制备不同锡含量靶材的单靶材镀膜的方式，有效缩短了开发周期
氧化薄膜及其制备方法阵列显示装置

[发明专利]靶材组件的制造方法-CN201410588843.8在审
发明人：姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;李健成;周伟君 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2014-10-28 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： B23K1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材组件的制造方法，包括：利用铟焊料对背板的焊接面进行表面浸润处理；在靶材的焊接面涂布铟焊料，采用钢丝毛刷对靶材的焊接面进行摩擦，以进行表面浸润处理；将完成表面浸润处理后的所述靶材的焊接面与所述背板的焊接面焊接在一起通过采用钢丝毛刷摩擦所述靶材的焊接面的步骤，能够去除靶材的焊接面上的金属氧化物，并使得靶材的焊接面粗糙度增大，进而铟焊料与靶材的焊接面能够充分浸润，在将靶材与背板的焊接面焊接之后，靶材与背板的焊接面结合性较强，不容易产生缺陷靶材与背板均采用铟焊料浸润，铟焊料与铟焊料的结合性能较强，铟焊料的总使用量较现有技术更少，并提高了铟焊料的回收纯度。
组件制造方法

[发明专利]一种银钯铟靶材及其制备方法-CN202211219575.3在审
发明人：沈文兴;白平平;童培云;黄成建 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B22F9/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种银钯铟靶材及其制备方法，属于靶材制备技术领域。本发明通过三步法制备银钯铟靶材，第一步采用气雾化制备银钯铟合金粉体，所得银钯铟合金粉体具有组分均匀、粒径小、氧含量低的优点；第二步通过控制背板的移动方向，采用冷喷涂的方法制备银钯铟靶坯；第三步通过机械加工得到银钯铟靶材，所制备的银钯铟靶材具有密度高达到99％以上、组分均匀、氧含量低于100ppm等优点；解决了熔炼浇注法制备银钯铟靶材偏析、组分不均和工序繁多且复杂等系列问题。同时也能制备大尺寸的平面银钯铟靶材。
一种银钯铟靶材及其制备方法

[发明专利]一种保证铟层厚度均匀性的装置及方法-CN201810578346.8在审
发明人：何凌男;陈江伟 -专利权人：苏州精美科光电材料有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： B32B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了保证铟层厚度均匀性的装置及方法，该装置包括平面工作台、靶材基板、压条、铜丝、平面靶材、压板、压块和G字型夹具，靶材基板放置在平面工作台上，铜丝放置在靶材基板上，压条压住铜丝，铜丝长度延伸至压条外沿，平面靶材放置在铜丝上，平面靶材上设有压板，压板上设有压块，压条通过G字型夹具进行固定。该方法将铜丝分布在靶材基板上，并用压条和G字型夹具将铜丝固定在平面工作台上；在靶材基板上倒入溶化的铟，再将平面靶材贴合在铟上，然后在平面靶材上面放置压板和压块，利用重力将平面靶材与靶材基板之间多余的铟挤压出来本发明能够确保靶材贴合过程中铟层的厚度均匀性，防止平面靶材的弯曲、变形、开裂。
铜丝平面靶材靶材压条基板压板夹具厚度均匀性压块铟层贴合平面工作台长度延伸基板放置溶化外沿压住变形挤压并用保证

[发明专利]一种铟靶材及其制备方法-CN202110818282.6有效
发明人：梁振耀;黄宇彬;阿南.辛格.迪欧达特;余飞;童培云;朱刘 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种铟靶材及其制备方法。所述方法包括如下步骤：S1：将背板安装在模具中，然后预热模具；S2：在背板表面涂布铟靶材熔液，然后将铟靶材熔液浇铸入模具；S3：将装有铟靶材熔液的模具自中部向两端分区域冷却，得到凝固的靶材；S4：将凝固的靶材放入水中淬火，得到所述铟靶材。本发明采取分区域冷却和淬火结合的方式，一方面，本发明将铟靶材熔液自中间区域向两端冷却，保证在冷却的过程中将锁孔往两端排挤，确保靶材内部无缩孔影响靶材的质量。另一方面，提高了靶材的晶粒尺寸的均匀性，保证靶材溅射沉积厚度的均匀性。采用本发明所述靶材的制备方法制备的靶材纯度高，晶粒尺寸分布均匀，且靶材内部无缩孔。
一种铟靶材及其制备方法

[发明专利]一种铜铟镓硒靶材的制备及应用方法-CN201310414057.1有效
发明人：牙文飞;陈涛;马康;彭侃;顾玉涵;王玉晓 -专利权人：汉能新材料科技有限公司
申请日： 2013-09-12 - 公布日： 2017-02-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜铟镓硒靶材的制备及应用方法，通过先将铟、镓、硒三种原料进行三元混炼，经再加工得到铟镓硒三元合金靶材，然后再与高纯铜板绑定得到铜铟镓硒靶材，高纯铜板既作为铜铟镓硒靶材的原料又作为靶材背板，有效避免了将熔点较高的铜与铟、镓、硒一起共同熔炼而造成的靶材组分难以控制的问题。在本发明所得的铜铟镓硒靶材的应用过程中，先通过溅射在衬底上形成铟镓硒和铜的混合薄膜，再通过退火使得铜扩散进入铟镓硒中形成铜铟镓硒薄膜，该应用方法简便，且所得铜铟镓硒薄膜质量高，具有广阔的应用前景。
一种铜铟镓硒靶材制备应用方法

[发明专利]一种氧化铟锡合金靶材的制备方法-CN202011233273.2在审
发明人：黄永香 -专利权人：湖南七点钟文化科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C04B35/457 文献下载
摘要：本发明提供了一种氧化铟锡合金靶材的制备方法，包括以下步骤：A)将氧化铟和氧化锡置于真空滚动混料机中混合，得到混合物；B)将所述混合物抽真空后冷等静压，得到粗坯，将所述粗坯进行二次压制，得到合金靶材生坯；C)将合金靶材生坯进行真空热压烧结，得到氧化铟锡合金靶材粗品；D)将所述氧化铟锡合金靶材粗品进行退火，将步骤A)的混合物等离子喷涂至退火后的氧化铟锡合金靶材粗品表面，得到氧化铟锡合金靶材。本申请制备了具有组织均匀晶粒细小、高耐热冲击性能的氧化铟锡合金靶材，该种合金靶材作为旋转靶真空镀膜，可得到高电阻、抗电磁干扰、防静电、抗磨损的优质薄膜，可增加膜层的均匀性，提高靶材的利用率。
一种氧化合金制备方法

[发明专利]一种旋转靶材绑定方法-CN202010682853.3有效
发明人：阿南·辛格·迪欧达特;朱刘;黄宇彬;童培云;文崇斌 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明揭示了一种旋转靶材绑定方法，包括以下步骤：将待绑定旋转靶材加热，根据靶材加热后的膨胀量以及材料力学相关理论计算出需要加热的特定温度；将旋转靶材和背衬管分别进行粗化处理；将旋转靶材加热至特定温度使旋转靶材处于膨胀状态，然后在指定时间内把旋转靶材套装在背衬管外侧，使旋转靶材与背衬管之间形成一个缝隙空间；将旋转靶材冷却至室温。本发明提供一种旋转靶材绑定方法，无须采用铟为焊料做绑定，可以节省对应铟的消耗，降低了生产成本，能有效解决现有技术中采用铟为焊料做绑定后导致的铟脱落以及铟污染的技术问题，且能有效解决采用铟为焊料做绑定的靶材在溅射过程中还会把铟作为溅射源带入薄膜造成薄膜性能偏差等技术问题
一种旋转绑定方法

[实用新型]氧化铟锡溅射设备的成膜装置和氧化铟锡溅射设备-CN201922462669.3有效
发明人：张洁;朱成顺;蒋雷 -专利权人：成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种氧化铟锡溅射设备的成膜装置和氧化铟锡溅射设备，氧化铟锡溅射设备的成膜装置包括氧化铟锡靶材以及安装在氧化铟锡靶材底部的驱动单元上的防着板，还包括围设在氧化铟锡靶材回镀区外围的遮蔽结构，且遮蔽结构与氧化铟锡靶材的外表面之间具有间隙，遮蔽结构与防着板连接，遮蔽结构用于对氧化铟锡靶材的回镀区进行遮挡，以防止镀膜时产生的杂质沉积在氧化铟锡靶材的回镀区，从而提高了防着板的使用寿命，降低了清洗成本，提高了设备的稼动率。
氧化溅射设备装置

[实用新型]一种曲面靶材涂铟工具-CN201521123031.2有效
发明人：梁国雄 -专利权人：广州市番禺科进超声波设备厂
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种曲面靶材涂铟工具，包括手柄及与该手柄连接的工作端，手柄内设有用于产生超声波的换能器，工作端呈弧形且该工作端的端口表面为倾斜面。所述曲面靶材涂铟是指将铟金属融化后涂布在曲面靶材的内表面上，工作时本曲面靶材涂铟工具的工作端发出超声波，超声波促进铟金属原子的扩散，使形成的铟金属膜与靶材牢固的贴合，改善了以往涂铟尝试电镀、浸泡、手刮等一些方法涂铟贴合不牢而导致的掉靶现象
一种曲面靶材涂铟工具

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