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[发明专利] 测量聚焦 的设备和方法 -CN97120515.9 无效
发明人：
中薮智康
- 专利权人：
索尼公司
申请日：
1997-08-30
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公布日：
1998-04-22
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主分类号：
H04N17/00 文献下载
摘要： 可以执行阴极射线管的聚焦 条件 的正确估算。在阴极射线管的屏幕的预定位置上显示一个预定的图象。在该图象的检测中当从一个参考位置到一个预定位置有一个距离的条件 下阴极射线管的聚焦 电压被改变。从传感器(15)的输出,按照刚好聚焦 条件 、欠聚焦 条件 、或过聚焦 条件 被确定一个条件 ,和从检测的亮线宽度计算光点直径。基于欠聚焦 条件 或过聚焦 条件 的判断和光点直径的计算值,得到聚焦 定量值。测量 聚焦 设备 方法
[发明专利] 一种自动聚焦 方法和自动对焦系统 -CN202011434865.0 有效
发明人：
王群 ;张强
- 专利权人：
烟台艾睿光电科技有限公司
申请日：
2020-12-10
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公布日：
2022-08-05
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主分类号：
H04N5/232 文献下载
摘要： 本发明公开了一种自动聚焦 方法和自动对焦系统，自动聚焦 方法包括：S1：获取镜头的电机的初始位置；S2：选择电机的初始移动方向，并使电机按照预设步长沿初始移动方向移动；S3：获取场景图像并进行聚焦 操作，并获取评价场景图像的清晰度评价函数，若清晰度评价函数呈先递增后递减趋势，且清晰度评价函数的增减次数满足预设条件 时，代表终止条件 达成，则终止聚焦 操作；若清晰度评价函数仅呈递减趋势，代表掉头条件 达成，则转换电机的移动方向继续移动，直到达成终止条件 或掉头条件 ，则终止聚焦 操作；S4：控制电机移动至清晰度评价函数的值最大位置。本方法可在整个镜头行程任意位置聚焦 ，有效缩短聚焦 时间，并可越过波动点和确保聚焦 位置最佳。一种 自动 聚焦 方法 对焦 系统
[发明专利] 图像处理设备 -CN201210479240.5 有效
发明人：
名越敬祐
- 专利权人：
株式会社其恩斯
申请日：
2012-11-22
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公布日：
2017-09-26
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主分类号：
H04N5/232 文献下载
摘要： 本发明提供了仅通过根据检查对象的种类切换程序就能够容易地进行聚焦 调节的图像处理设备。根据本发明的图像处理设备包括成像单元，用于对包括检查对象的区域进行成像；聚焦 调节机构；以及控制单元，用于控制所述聚焦 调节机构的操作。设置了多条检查条件 数据，该数据包括多个设置项，所述设置项包括聚焦 位置数据。当接收到从一个检查条件 数据切换到另一个检查条件 数据的切换指令时，基于切换后的所述另一检查条件 数据中包含的聚焦 位置数据来控制所述聚焦 调节机构的操作。图像 处理 设备
[发明专利] 质谱仪 -CN200710137065.0 有效
发明人：
西口克 ;山口真一 ;丰田岐聪
- 专利权人：
株式会社岛津制作所 ;国立大学法人大阪大学
申请日：
2007-07-19
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公布日：
2008-01-23
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主分类号：
H01J49/40 文献下载
摘要： 提供了一种用于形成环行轨道的离子光学系统，其充分确保诸如离子透过效率之类的所需性能，同时通过放宽空间聚焦 条件 以允许容易地设计该系统。实现离子光学系统的环行轨道，以满足作为时间聚焦 条件 的(t|x)＝(t|α)＝(t|δ)＝0、以及作为空间聚焦 条件 的－2＜(x|x)+(α|α)＜2和－2＜(y|y)+(β|β)＜2。相比于(x|x)、(α|α)、(y|y)和(β|β)中每一个均需要为±1的常规空间聚焦 条件 ，实质上放宽了上述条件 。因此，用于决定该离子光学系统配置所需的电极形状的参数具有更大自由度。质谱仪
[发明专利] 用于将光学组件重新聚焦 的方法 -CN201580076750.X 有效
发明人：
阿诺·德沃
- 专利权人：
国家科学研究中心 ;里尔第一大学 ;里尔高等电子与数字学院
申请日：
2015-12-22
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公布日：
2021-06-01
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主分类号：
G02B27/40 文献下载
摘要： 本发明涉及一种使用来源于短脉冲光源(2)的至少一个光束(fu )将光学机构重新聚焦 在目标表面(100)上的方法，所述光学机构包括用于将所述光束(fu )聚焦 在所述目标表面(100)上的至少一个光学器件(5)，其中所述重新聚焦 在知悉了所述光学机构被视为聚焦 的参考条件 (d1 )之后发生。根据方法：检测聚焦 信号，其表示由所述目标表面(100)反射的光束(fr )与不由所述目标表面(100)反射且从所述源(2)导出的参考光束(fref )之间的脉冲的时间叠加，所述光束中的一个由延迟线(14)延迟，基于所述参考条件 ，使得其上放置了所述延迟线(14)的所述光束的光学路径变化以导致所述聚焦 信号到达或超过预定义阈值，以及基于对在参考条件 (d1 )与所述聚焦 信号到达或超过所述预定义阈值的第二条件 (d2 )之间的光学路径的变化的知悉，重新调节所述聚焦 。用于 光学 组件 重新 聚焦 方法
