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[实用新型]一种多功能床垫-CN201320409845.7有效
发明人：刘晓光 -专利权人：刘晓光
申请日： 2013-07-10 - 公布日： 2013-10-16 - 主分类号： A47C27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多功能床垫，包括硬质框架，及设置在硬质框架中部的置物板，并通过该置物板将硬质框架分为上、下两腔，所述硬质框架顶面设置有软垫，所述硬质框架底面设置有硬垫，所述软垫和硬垫的外表面均设置有按摩磁石，所述软垫和硬垫内部均设置有放置槽，所述放置槽内设置有加热片，所述上腔内设置有连接加热片的蓄电池，所述下腔内设置有储物格，所述硬垫包括固定硬垫和活动硬垫，通过所设的按摩磁石，可以舒缓使用者的身体，通过所设的加热片，可以在冬天的时候提供一定的热量，保证使用者的正常睡眠需求，通过活动硬垫和固定硬垫组合而成的硬垫，使得本装置内可以存储一定的物品，使用较为方便。
一种多功能床垫

[实用新型]微创手术标本取样器-CN201620218549.2有效
发明人：聂新法;焦亚桂;李洪瑞;张雪英;顾冠球;焦大勇 -专利权人：聂新法;焦亚桂
申请日： 2016-03-21 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： A61B10/04 文献下载
摘要：包括可缩放的下伞式网状盛物器，下伞式网状盛物器上倒扣有可缩放的上伞式带筋撑开器，上伞式带筋撑开器和下伞式网状盛物器之间通过第一硬筋、第二硬筋和第三硬筋相连接，第一硬筋和第二硬筋之间形成与开口相连通的第一通口，第二硬筋和第三硬筋之间形成与开口相连通的第二通口，第一硬筋和第三硬筋之间形成与开口相连通的第三通口，第一通口的弧形长度分别大于第二通口和第三通口的弧形长度，上伞式带筋撑开器与手持撑开推进杆相连接，且当手持撑开推进杆相对于上伞式带筋撑开器推进时下伞式网状盛物器撑开
手术标本取样

[发明专利]粘接硬组织的方法-CN92115008.3无效
发明人： S·M·阿森;F·A·尤贝尔;J·D·奥克斯曼;S·B·迈特;J·W·芬丁斯兰德 -专利权人：明尼苏达州采矿制造公司
申请日： 1992-12-31 - 公布日： 1993-07-14 - 主分类号： A61K6/02 文献下载
摘要：本发明提供一种预处理方法和直接用于硬组织的底胶。特别适用于粘结或涂覆硬化牙质和颈釉质或用于在高湿环境中粘结或涂覆硬组织、底胶时牙质形成极强的粘结。本发明含有(a)把粘合有效量的酸和含有一种聚合物的水分散性成膜剂用于硬组织，和(b)硬化该成模剂。本发明方法提供了底胶组合物的应用，该组合物在硬化前含有一种酸和含有聚合物的成膜剂的混合物，该混合物以膜的形式位于硬组织之处。
粘接硬组织方法

[发明专利]用于减少EUV图案化缺陷的多层硬掩模-CN202180017694.8在审
发明人：巴斯卡·纳加布海拉瓦;菲利普·弗里德尔;埃基米尼·阿努贾·德席尔瓦;詹尼弗·丘奇;多米尼克·梅茨勒;内尔松·菲力克斯 -专利权人：朗姆研究公司;国际商业机器公司
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明的各种实施方案涉及在使用极紫外光致抗蚀剂对半导体衬底进行图案化的背景下利用多层硬掩模的方法、装置和系统。多层硬掩模包括(1)包括含金属材料，例如金属氧化物、金属氮化物或金属氧氮化物的上层，和(2)包含无机介电含硅材料的下层。多层硬掩模的这些层共同提供了优异的蚀刻选择性并减少了诸如微桥和断线之类的缺陷的形成。某些实施方案涉及多层硬掩模的沉积。其他实施方案涉及多层硬掩模的蚀刻。一些实施方案涉及多层硬掩模的沉积和蚀刻。
用于减少 euv 图案缺陷多层硬掩模

[发明专利]硬表面处理组合物-CN201180026526.1有效
发明人： S.K.巴尼;K.K.纳亚克;A.佩林切里;M.T.萨吉 -专利权人：荷兰联合利华有限公司
申请日： 2011-05-17 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： C11D3/00 文献下载
摘要：本发明在硬表面清洁领域内，尤其在具有抗微生物效果的硬表面清洁组合物领域内。仍然需要制备甚至在更长时间后用低剂量抗微生物香精油仍具有高抗微生物效果的硬表面清洁组合物。因此本发明的一个目的在于提供硬表面处理组合物，其在低香精油含量下具有良好的抗微生物性质。已经令人惊讶地发现，包含低量香精油与季铵抗微生物剂和聚合复合物的组合物提供改进的抗微生物功效。
表面处理组合

[实用新型]一种护栏抗软、硬物撞击性能试验装置-CN201921032490.8有效
发明人：李猛;马伟成;刘颖波;伍敬恒;伍志铭 -专利权人：佛山市顺德区建设工程质量安全监督检测中心
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G01N3/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种护栏抗软、硬物撞击性能试验装置，包括悬挂绳、软物、硬物、位移测量装置、钢架、连接杆、定滑轮、动滑轮、限位杆、连接绳，软物、硬物分别悬挂在悬挂绳上，位移测量装置设置在软物、硬物与待测护栏间本实用新型可在同一个装置上同时测量护栏抗软物、硬物撞击的性能。
一种护栏撞击性能试验装置

[发明专利]半导体结构的形成方法-CN202010288709.1在审
发明人：吴庭玮;杨政达;周信宏 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L27/11529 文献下载
摘要：本发明为半导体结构的形成方法，包含：形成目标层于基板上；将第一硬遮罩层以及第二硬遮罩层形成目标层上；图案化第二硬遮罩层以形成多个图案化第二硬遮罩，并且此些图案化第二硬遮罩包括第二宽遮罩及第二窄遮罩；形成多个间隙物于第二宽遮罩及第二窄遮罩的侧壁；形成光阻层以覆盖第二宽遮罩的顶面，且光阻层覆盖位于第二宽遮罩的侧壁的一对间隙物的侧表面，并执行刻蚀工艺来移除位于此些间隙物之间的第二窄遮罩；以及移除光阻层，接着通过此些间隙物与第二宽遮罩作为刻蚀遮罩来刻蚀第一硬遮罩层，以形成多个图案化第一硬遮罩于目标层上，其中此些间隙物用以定义第一线宽，第二宽遮罩与形成在第二宽遮罩的侧壁的一对间隙物共同用以定义第二线宽。
半导体结构形成方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202010765884.5在审
发明人：潘增耀;尤建祥;陈宏生;王景擁;韦承宏 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2020-08-03 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L27/11529 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体结构及其形成方法，包含：形成主动层于基板上，基板具有相邻的字线预定区和选择栅极预定区；形成包含第三硬遮罩层的硬遮罩堆叠于主动层上；图案化第三硬遮罩层，形成第三硬遮罩，在字线预定区最靠近选择栅极预定区的两个紧临的第三硬遮罩之间具有第一间距，第一间距小于任何其他两个之间的第二间距；形成间隔物于第三硬遮罩的侧壁上，在两个紧临的第三硬遮罩的相对的侧壁上的两个间隔物合并成组合间隔物；形成图案化遮罩结构于选择栅极预定区中；将间隔物与图案化遮罩结构的图案转移到主动层将间隔物的图案转移到主动层的步骤包含将组合间隔物的图案转移到主动层，在最靠近选择栅极处形成第一字线。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]半导体器件的制造方法-CN201711086263.9有效
发明人：张海洋;纪世良 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体器件的制造方法，在第一金属硬掩膜层上方形成具有第一开口的第二金属硬掩膜层，所述第二金属硬掩膜层的主要成分为金属氧化物，能够改善光刻胶层的第一开口图案直接向第一金属硬掩膜层转移时的形貌偏差、开口坍塌以及开口中有大量聚合物残留等问题，且以具有第一开口的第二金属硬掩膜层为掩膜来刻蚀下方相应叠层形成目标开口时，第二金属硬掩膜层既能够改善形成的目标开口的侧壁形貌，又易于去除以减小目标开口中的刻蚀残留物的产生；进一步利用自组装工艺在第二金属硬掩膜层上方的图案化光刻层中形成二嵌段共聚物层，利用嵌段共聚物层中互不相溶的第一嵌段和第二嵌段来缩小光掩模图案的线宽。
半导体器件制造方法

[发明专利]一种硬掩膜组合物及其制备方法、形成图案的方法-CN202111287837.5在审
发明人：王静;毛鸿超;宋里千 -专利权人：厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供了一种硬掩膜组合物及其制备方法、形成图案的方法，本发明中提供的硬掩膜组合物中包含聚合物，所述聚合物由高碳含量的芘衍生物与具有醛或酮的化合物缩合得到，且聚合物中所含氮原子经炔基而非氢原子取代。所述聚合物是一种自交联高分子材料，在高温条件下，无需与高分子形成交联结构的交联剂，能够通过炔基的交联反应，进一步提高硬掩膜的交联密度，进而提高硬掩膜的耐热性能和耐刻蚀性能。
一种硬掩膜组合及其制备方法形成图案

[发明专利]用于硬胶囊壳的成膜组合物以及由其获得的硬胶囊壳-CN201880010790.8有效
发明人： A·陈;Y·苗;B·波拉 -专利权人：罗盖特公司
申请日： 2018-02-07 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： A61K9/48 文献下载
摘要：本发明涉及适用于制造硬胶囊壳的成膜组合物，所述组合物基于含淀粉材料。本发明还涉及由本发明的成膜组合物制成的硬胶囊壳。
用于胶囊组合以及获得

[发明专利]半导体器件的制造方法-CN201711086262.4有效
发明人：张海洋;纪世良 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体器件的制造方法，在第一金属硬掩膜层的上方先旋涂一层主要由金属氧化物形成的第二金属硬掩膜层，并在第二金属硬掩膜层上再覆盖一层盖硬掩膜层，通过盖硬掩膜层来形成多个第一开口，由此可以获得较大且形貌较好的工艺窗口，避免光刻图形直接向第二金属硬掩膜和/或第一金属硬掩膜层转移时产生的工艺窗口小、开口形貌欠佳、堆叠对准偏差、开口坍塌以及开口中有大量聚合物残留等问题，且以具有第一开口的盖硬掩膜层为掩膜来刻蚀下方相应叠层形成目标开口时，第二金属硬掩膜层的耐刻蚀性能够改善形成的目标开口的侧壁形貌，而且在目标开口形成后第二金属硬掩膜层又易于去除，能够减小所述目标开口中的刻蚀残留物的产生。
半导体器件制造方法

[发明专利]硬涂层形成用组合物、硬涂膜的制备方法及利用该方法制备的硬涂膜-CN201910725098.X有效
发明人：安钟南;高秉瑄;张太硕;朴尽秀;尹浩哲 -专利权人： SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本发明的实施例提供一种硬涂层形成用组合物，所述硬涂层形成用组合物包含环氧硅氧烷树脂、交联剂、热引发剂及光引发剂，所述交联剂包含具有脂环族环氧基的化合物，所述热引发剂包含由化学式2表示的化合物，从而能够减少硬涂膜的卷曲并增加硬度
涂层形成组合硬涂膜制备方法利用

[发明专利]硬罩幕组成物与形成图案的方法-CN201880073203.X有效
发明人：尹星莉;朴惟廷;林相学 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明揭示一种硬罩幕组成物及一种使用所述硬罩幕组成物形成图案的方法，所述硬罩幕组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；以及溶剂。
硬罩幕组成形成图案方法

[发明专利]用于处理表面的方法和组合物-CN201180018766.7无效
发明人： S.达斯;K.杜塔;A.普拉马尼克;S.G.拉曼;M.T.萨杰 -专利权人：荷兰联合利华有限公司
申请日： 2011-04-07 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： C11D9/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理硬表面的方法和组合物。其特别涉及用于处理表面以提供水性污垢拒斥性的方法和组合物。一个目的是提供为表面提供拒污性和/或拒水性的硬表面清洁组合物。已经发现，将包含三价金属离子、饱和脂肪酸盐和硅油的组合物施加到硬表面上使得所述表面拒水。
用于处理表面方法组合