专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]石墨包覆的碳材料的制备方法-CN202310086524.6在审
  • 蒋治亿;魏思伟;杨帆 - 江苏天合储能有限公司
  • 2023-02-08 - 2023-05-23 - C01B32/21
  • 本申请涉及石墨包覆的碳材料的制备方法,其包括:S1将可石墨化材料与碳材料混合,得到第一混合;S2将第一混合与粘结剂混合,得到第二混合;S3使所述第二混合进行石墨化处理,得到所述石墨包覆的碳材料本申请得到的石墨包覆碳材料,碳材料包覆一层石墨后,具有石墨层的保护作用,将改善该负极材料的首效,且在形成SEI的过程中,对活性锂的消耗降低;碳材料包覆一层石墨后,因碳在整个充放电区间内的层间距变化幅度较小,不易因嵌锂导致层间距变化,影响电芯寿命,即保留了碳的特性,又兼容了石墨的优势。
  • 石墨材料制备方法
  • [发明专利]浅沟槽隔离的制作方法-CN201110328075.9无效
  • 曹永峰 - 上海华力微电子有限公司
  • 2011-10-25 - 2012-02-15 - H01L21/762
  • 本发明涉及一种浅沟槽隔离的制作方法,在硅片上依次沉积衬垫氧化层、衬垫氮化层、氧化硬模和氮化膜;形成贯穿硅片上所述结构和部分硅片的浅沟槽;腐蚀氮化膜、氧化硬模和衬垫氮化层;在上述结构表面沉积氧化膜本发明采用氮化膜作为浅沟槽隔离刻蚀的掩膜,氧化硬模作为氮化膜的应力释放层以及腐蚀衬垫氮化层的牺牲层,从而减少衬垫氮化层的初始厚度、降低应力,进而减少衬垫氧化层的厚度,改善浅沟槽隔离凹坑的形貌
  • 沟槽隔离制作方法
  • [发明专利]涂层组合及使用涂层组合涂膜-CN201710353352.9在审
  • 李升祐 - 东友精细化工有限公司
  • 2017-05-18 - 2017-11-28 - C09D167/07
  • 本发明提供了一种涂层组合,一种使用涂层组合形成的涂膜,以及一种具有该涂膜的图像显示装置,所述涂层组合包括平均粒径为0.01μm至1μm的硅橡胶细粒、具有(甲基)丙烯酸酯端基的树状大分子化合、具有环己基的多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、具有乙二醇基的多官能(甲基)丙烯酸酯、光引发剂和溶剂;根据本发明的涂膜不仅具有高的抗冲击性和优异的硬度及柔性,而且具有优异的粘合性、卷曲性和抗裂性。
  • 涂层组合使用硬涂膜
  • [发明专利]涂层形成用组合和光学部件-CN201680074357.1有效
  • 盐田悟郎 - 株式会社尼康依视路
  • 2016-12-09 - 2020-04-24 - C09D183/06
  • 本发明提供能够形成耐划伤性和抗裂性优异的涂层的涂层形成用组合、以及光学部件。上述涂层形成用组合是用于在塑料基材上形成涂层的组合,其包含金属氧化颗粒、选自由特定化学式所表示的有机硅化合、其水解和其水解缩合组成的组中的至少一种成分X、以及选自由特定化学式所表示的有机硅化合、其水解和其水解缩合以及特定化学式所表示的甘脲交联剂、其水解和其水解缩合组成的组中的至少一种成分Y。
  • 涂层形成组合光学部件
  • [发明专利]膜剂组合和采用该组合的光信息介质-CN200480038353.5无效
  • 伊藤秀毅;米山健司;田中和志 - TDK株式会社
  • 2004-12-22 - 2007-01-17 - C09D4/02
  • 本发明涉及一种膜剂组合,其中含有含氟嵌段共聚(A1)、具有活性能量线反应性基团的含氟聚醚化合(A2)、和活性能量线固化性化合(B)。本发明还涉及在支持基体(20)上具有至少包括记录层(4)或反射层且由一层或数层构成的膜体的光信息介质,支持基体(20)侧表面及所述膜体侧表面中至少一个表面是利用含有所述膜剂组合的固化膜层(8)根据本发明可以提供一种用于在各种物体的表面上形成防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性和耐磨性也优良的膜层的膜剂组合,还可以提供一种采用了所述膜剂组合的光信息介质。
  • 硬膜剂组合采用信息介质

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