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[发明专利]硬掩模组合物、硬掩模层和形成图案的方法-CN202211012008.0在审
发明人：金惠廷;金修熙;金有那;朴亨锡;尹熙灿;李在哲;李种和;郑瑟基;蔡闰珠;黄元宗 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： C08G61/10 文献下载
摘要：本发明提供一种硬掩模组合物、由硬掩模组合物制造的硬掩模层、以及由硬掩模组合物形成图案的方法，硬掩模组合物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元和由化学式2表示的结构单元，以及溶剂：其中化学式1和化学式2的定义如说明书中所描述。[化学式1][化学式2]
模组硬掩模层形成图案方法

[发明专利]有机层组成物及图案形成方法-CN201680087729.4有效
发明人：南沇希;姜善惠;金瑆焕;郑瑟基;金旼秀;文秀贤 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2016-10-18 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基及腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。本发明因包含预定聚合物及预定添加剂而在以旋涂方法进行涂布的同时具有提高的耐蚀刻性的有机层组成物。由有机层组成物制造的有机层具有提高的膜密度及膜平坦度。
有机组成图案形成方法

[发明专利]产生层结构的方法和形成图案的方法-CN201610860457.9有效
发明人： 郑瑟基;金旼秀;金瑆焕;宋炫知;姜善惠;金永珉;金有那;金眞亨;南沇希;白载烈;尹星莉;李忠宪;洪承希;黄善民 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2016-09-28 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
产生结构方法形成图案

[发明专利]有机层组成物以及形成图案的方法-CN201610182871.9有效
发明人：金旼秀;南沇希;白载烈;宋炫知;尹星莉;郑瑟基;洪承希;黄善民 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2016-03-28 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
有机组成以及形成图案方法

[发明专利]聚合物、有机层组合物及形成图案的方法-CN201611079474.5有效
发明人：南沇希;金瑆焕;金旼秀;朴惟廷;郑瑟基 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2016-11-30 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元：其中Ar¹及Ar²独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，A¹及A²独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A¹及A²中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A¹的氢可键结官能基的数量与A²的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，L为二价有机基，且^＊为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。
聚合物官能基键结苯环芳环耐热性有机层组合物二价有机基机械特征耐蚀刻性限制条件连接点稠合图案

[发明专利]层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置-CN201510426921.9有效
发明人：金旼秀;宋炫知;姜善惠;金成旻;金瑆焕;金永珉;金润俊;金惠廷;南沇希;白载烈;尹星莉;尹龙云;李忠宪;郑瑟基;赵妍熹;洪承希;黄善民;黄元宗;李松世;金命九;刘奈莉 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2015-07-20 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
结构制造方法形成图案以及半导体装置

[发明专利]单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法-CN201510725055.3有效
发明人：南沇希;权孝英;金瑆焕;金昇炫;南宫烂;豆米尼阿·拉特维;文秀贤;郑瑟基;郑铉日;许柳美 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C07C43/23 文献下载
摘要：本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。
单体聚合物有机组成形成图案方法