专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种废的回收再生方法-CN200810121060.3无效
  • 吴云才;刘伟;刘磊磊;刘文涛 - 浙江昱辉阳光能源有限公司
  • 2008-09-25 - 2010-03-31 - C01B33/02
  • 本发明涉及一种废回收再生方法,尤其涉及一种在切割晶片材产生的废回收再生方法。其特征在于所述方法包括以下步骤:切割棒产生的废进行离心分离,滤布孔径为800~1500目,获得粉料;将分离得到的粉料置于反应釜中,加入强氧化剂反应后,反应进行过滤,除去有机碳杂质,强氧化剂为浓硫酸、双氧水、硝酸的一种或其混合;将二次过滤所得粉料置于反应釜中,加入稀王水反应后,反应经过滤、干燥,除去金属和金属氧化物杂质;将三次过滤所得粉置于直拉单晶炉中,单晶炉在真空中于800℃~1000℃应用此法可回收废中大部分粉,经后续加工后可用于制造太阳能电池,不仅节约了资源,而且不产生环境污染。
  • 一种废硅液回收再生方法
  • [发明专利]一种面自动补偿方法-CN202111001722.5有效
  • 杨金海;徐永根;沈凯杰 - 浙江晶阳机电股份有限公司
  • 2021-08-30 - 2022-07-26 - C30B29/06
  • 本发明涉及单晶生产技术领域,涉及一种面自动补偿方法,本发明包括:S1:坩埚内盛装,所述坩埚的面上方设有水冷热屏,所述水冷热屏上方设有成像装置,所述坩埚下方设有升降装置;S2:所述成像装置发射光线经过水冷热屏屏口在面上形成观测点一,观测点一在面上形成观测线一,同时水冷热屏屏口在面镜面投影下形成投影点,投影点在面上形成观测线二,所述成像装置距离面距离为h,所述成像装置距离水冷热屏屏口距离为d,满足:d11/h11=d/(h+h11),d12/h11=d/(h‑h11);S3:根据S2步骤中公式求解口距h11的值。S4:将S3步骤中求解的口距h11与预设最佳面位置比较,根据比较结果通过升降装置升降补偿,调节精确且操作简单。
  • 一种液面自动补偿方法
  • [发明专利]中频熔炼回收打磨粉的方法-CN201610404441.7有效
  • 方明;李鹏廷;谭毅;姜大川;张磊 - 大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司
  • 2016-06-08 - 2018-02-06 - C01B33/037
  • 本发明涉及一种中频熔炼回收打磨粉的方法,以提纯的多晶铸锭或提纯锭产生的顶皮料打磨粉作为料,通过中频线圈感应加热使其熔化得到,加入吸附渣剂吸附中的硬质点,然后将富含硬质点的渣剂去除得到高纯,最后将高纯倒入冷却包得块。本发明解决富含硬质点的多晶高温难熔问题。在高温过程中,由于渣剂的保护作用,避免高温粉的氧化,从而获得去除硬质点的料,达到多晶铸锭/提纯产生顶皮再利用。本发明中获得的低硬质点料,在后续铸锭中,不会产生硬质点富集问题,有利于提高铸锭的产率。
  • 中频熔炼回收打磨方法
  • [发明专利]直接成形制备带的方法及硅片直接成形装置-CN201310008252.4有效
  • 钟云波;沈喆;黄靖文;龙琼;孙宗乾;吴秋芳;李甫;周鹏伟;董立城;郑天祥 - 上海大学
  • 2013-01-10 - 2013-04-24 - C30B15/36
  • 本发明公开了一种直接成形制备带的方法,在硅片和熔体的固界面区域施加交变磁场,在固界面前沿处的熔体中形成感生电流,通过交变磁场和感生电流的共同作用,在固界面处形成垂直固界面并指向熔体内部的电磁挤压力,调整电磁挤压力的大小,使电磁挤压力完全抵消硅片窄边固界面处向内的表面张力,从而使柔性的电磁力约束并稳定固界面的形状,使柔性的电磁力约束的熔体成形并持续凝固,然后将凝固的带状铸坯持续拉出,直接制备带本发明还公开了一种硅片直接成形装置,包括料熔化保温装置、加料装置、直拉引锭装置和带软接触成形装置,直接制备带,实现洁净生产,减少硅片缺陷,实现大规模直接生产带的工业应用。
  • 直接成形制备方法硅片装置
  • [实用新型]一种单晶炉泄露保护装置-CN201320887978.5有效
  • 郭胜州 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2013-12-31 - 2014-06-18 - C30B15/00
  • 本实用新型公开了一种单晶炉泄露保护装置,属熔融液提拉法的单晶生长的技术领域。一种单晶炉泄露保护装置,包括位于单晶炉反射盘的泄露通孔下面的盛接石墨槽,盛接石墨槽中设有用于电连接的悬空石墨棒,悬空石墨棒和盛接石墨槽分别与单晶炉加热器控制电路的两个电极连接。盛接石墨槽位于单晶炉加热器底盘上,在盛接石墨槽的上部侧壁设有溢流石墨瓦,溢流石墨瓦上端与盛接石墨槽相连通,溢流石墨瓦的下端位于单晶炉加热器底盘的中心孔内,在中心孔下面设有碳毡。本实用新型在泄露时,可使单晶炉保护装置启动并自动报警,避免烫穿炉底板,减少设备损失。
  • 一种单晶炉硅液泄露保护装置
  • [实用新型]除磷装置-CN201720285336.6有效
  • 王增林 - 宁夏金海金晶光电产业有限公司
  • 2017-03-22 - 2018-04-17 - C01B33/037
  • 本实用新型公开了一种除磷装置,密封盖与石墨坩埚能够形成密封空间,通过密封盖上的抽真空装置使得密封空间能够形成真空环境,便于工业提纯;搅拌桨能够在伸缩杆的带动下对进行移动搅拌,提高了的搅拌强度,使得熔融的在石墨坩埚内上下翻滚,使得内的磷能够蒸发达到的表面,显著降低多晶中磷杂质含量,磷杂质在0.5ppm以下。
  • 装置

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