专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镜面像差计算方法及激光系统-CN202311115843.1在审
  • 罗先刚;刘洋;蒲明博;王茂宇;雷健 - 天府兴隆湖实验室
  • 2023-08-31 - 2023-10-20 - G01M11/02
  • 本申请提供一种镜面像差计算方法及激光系统,涉及激光技术领域。所述镜面像差计算方法包括:获取入射激光的参数及光学元件的参数;基于入射激光的参数及光学元件的参数,计算入射激光的光子点集数据及反射镜镜面热变形数据;基于光子点集数据,计算入射激光与反射镜镜面的虚拟交点;基于虚拟交点,计算入射激光的入射角;根据反射镜镜面热变形数据及入射角,计算镜面像差数据;通过镜面像差数据,计算全激光系统输出端的光强、光程差和相位分布,并根据计算得到的远场光束质量因子、斯特列尔比以及桶中功率比确定光束质量的评价结果
  • 镜面波像差计算方法激光系统
  • [发明专利]一种光刻机投影物镜像差的现场测量装置-CN200910089426.8有效
  • 刘克;李艳秋;刘丽辉;汪海 - 北京理工大学
  • 2009-07-20 - 2009-12-23 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种光刻机投影物镜像差的现场测量装置。该装置基于Shack-Hartmann测量原理,包括主机和标准镜两大组成部分。标准镜部分包括当标定主机的系统误差时用于折返光路的第一标准镜和当主机测量投影物镜像差时用于折返光路的第二标准镜。主机和第一标准镜集成在光刻机掩模台上,第二标准镜集成在硅片台上,测量时将掩模台和硅片台移动到测量位置,进行光刻机投影物镜全视场像差的测量和校正。本发明具有较高的绝对测量精度,适合光刻机投影物镜像差的现场测量,降低了装置的成本、体积和重量,便于集成。
  • 一种光刻投影物镜波像差现场测量装置
  • [发明专利]高空间分辨率子孔径拼接方法-CN201410032247.1无效
  • 杨飞;安其昌;赵宏超;苏燕芹;郭鹏 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2014-01-23 - 2014-05-14 - G01B11/24
  • 高空间分辨率子孔径拼接方法,涉及超高空间分辨率子孔径拼接方法,解决现有技术存在的问题,将干涉仪与高精度六维运动台固定,利用补偿镜头将干涉仪发出的平面变为待测表面对应的波形;驱动Stewart平台带动小孔径角的镜头围绕待测表面的零像差点进行转动,获得待测表面的子孔径位置以及像差数据;对子孔径位置及波前数据进行分析,实现待测表面的子孔径拼接;通过获得的子孔径的波前拟合待测表面整体波前的Zernike系数,实现去除子孔径的低阶像差;利用周期图法从子孔径得到整体待测表面的功率谱本发明突破现有CCD成像单元的限制,得到大口径光学表面的超高分辨率面形检测结果。
  • 空间分辨率孔径拼接方法
  • [实用新型]一种光刻投影物镜系统像差测量装置-CN201420224944.2有效
  • 卢增雄;齐月静;苏佳妮;丁功明;周翊;王宇 - 中国科学院光电研究院
  • 2014-05-04 - 2014-10-15 - G03F7/20
  • 一种光刻投影物镜系统像差测量装置,该装置主要由准分子激光器、扩束棱镜、匀光聚焦物镜系统、光纤耦合物镜、多模光纤、成像物镜、照明掩模板、准直物镜及夏克-哈特曼波前传感器组成;其中,从准分子激光器输出的狭长的矩形光斑经扩束棱镜扩束后得到方形光斑,方形光斑经过匀光聚焦物镜系统和光纤耦合物镜后被耦合入多模光纤中;由多模光纤出射的发散球面经成像物镜后成像到照明掩模板上产生多个球面,这些球面经过投影物镜系统后携带其像差信息,再经过准直物镜后成为平面,平面被夏克-哈特曼波前传感器的微透镜阵列分成多个子光束,这些子光束聚焦到夏克-哈特曼波前传感器的探测器上,测得投影物镜系统的像差信息。
  • 一种光刻投影物镜系统波像差测量装置

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