专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]富锂锰钴氧化物(LR-NMC)-CN202110650523.0在审
  • L.贝克;K.杜 - 昆腾斯科普电池公司
  • 2015-12-22 - 2021-09-14 - H01M4/505
  • 本发明涉及正极活性材料组合物,例如富锂锰钴氧化物。本发明所述的富锂锰钴氧化物,其特征为,在一些实例,扩大的晶胞,其在所述晶体氧化物中使过渡金属的均匀分布最大化。本发明还涉及包括富锂锰钴氧化物材料的正极薄膜。本发明公开了制备和使用用于锂充电电池的富锂锰钴氧化物材料的新颖和具备创造性的方法。本发明还公开了引入这些材料的新型电化学装置。
  • 富锂镍锰钴氧化物lrnmc
  • [发明专利]富锂锰钴氧化物(LR-NMC)-CN201580070377.7有效
  • L.贝克;K.杜 - 昆腾斯科普电池公司
  • 2015-12-22 - 2021-06-08 - H01M4/02
  • 本发明涉及正极活性材料组合物,例如富锂锰钴氧化物。本发明所述的富锂锰钴氧化物,其特征为,在一些实例,扩大的晶胞,其在所述晶体氧化物中使过渡金属的均匀分布最大化。本发明还涉及包括富锂锰钴氧化物材料的正极薄膜。本发明公开了制备和使用用于锂充电电池的富锂锰钴氧化物材料的新颖和具备创造性的方法。本发明还公开了引入这些材料的新型电化学装置。
  • 富锂镍锰钴氧化物lrnmc
  • [发明专利]一种可用于高速光电探测的Bi(Fe,Zn)O3-CN202110288347.0有效
  • 董立峰;夏丰金;马帅;沙震宗 - 青岛科技大学
  • 2021-03-18 - 2022-07-12 - H01L31/032
  • 本发明提供一种基于锌掺杂铁酸铋/氧化镍材料的全氧化薄膜异质结,属于半导体器件技术领域。本发明公开了一种精确制备锌掺杂铁酸铋/氧化薄膜异质结的方法,所述的异质结采用溶胶凝胶技术,可精确控制各层元素化学计量比、同时保证各层薄膜良好的结晶性及均匀致密的形貌,可控性强、工艺简单、制备效率高。本发明实现了锌掺杂铁酸铋与氧化的良好匹配、耦合形成异质结结构,利用铁酸铋极化电场和异质结内建电场相结合促进光生载流子输运,获得可见光范围内高速光电响应特性,可用于制作相关半导体光电探测器件,对氧化物钙钛矿薄膜在半导体器件领域的实用化具有重要意义
  • 一种用于高速光电探测bifeznbasesub
  • [发明专利]一种硫化/石墨烯复合薄膜及其制备方法和应用-CN201910905473.9有效
  • 刘俊;张魏魏;魏爱香;招瑜;肖志明;杨伟锋 - 广东工业大学
  • 2019-09-24 - 2021-10-19 - H01G9/20
  • 本发明属于复合薄膜材料领域,公开了一种硫化/石墨烯复合薄膜及其制备方法和应用。该复合薄膜采用印刷法将石墨烯浆料印在预处理FTO导电玻璃的表面上并在100~150℃热处理,在100~150℃进行固化,再在300~400℃下退火,然后将制得附有石墨烯薄膜的FTO玻璃垂直浸入前驱液中,在搅拌下加入氨水在15~20℃反应,取出FTO玻璃洗涤后在300~400℃下退火,然后将制得的氧化/石墨烯复合薄膜和硫化钠溶液在70~100℃进行水热反应,经洗涤和干燥后,在石墨烯薄膜表面上合成硫化制得本发明的硫化/石墨烯复合薄膜物相均匀,纯度较高且具有优异的催化性能,可应用于染料敏化太阳能电池的对电极中。
  • 一种硫化石墨复合薄膜及其制备方法应用
  • [发明专利]掺铜氧化导电透明薄膜及其制备方法-CN200910200573.8无效
  • 杨铭;张群;施展 - 复旦大学
  • 2009-12-23 - 2011-06-29 - H01B5/14
  • 本发明属于透明电子学研究领域,具体涉及一种p型导电透明掺铜氧化薄膜及其制备方法。本发明提供了一种p型导电透明氧化物半导体薄膜,该薄膜是化学配比为Ni1-xCuxO的掺铜氧化薄膜,0<x≤0.3。所制备的薄膜具有高电导率、可见光范围内高透射率等优良的光电性能。同时,其制备方法具有操作简便,设备价格相对低廉的优越性。因此,本发明所获得的新型薄膜材料及制备方法,在半导体光电子领域具有一定的应用潜力。
  • 氧化导电透明薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种硅基异质结电池片金属叠层的制作方法-CN201410100967.7无效
  • 林朝晖;王树林 - 泉州市博泰半导体科技有限公司
  • 2014-03-19 - 2015-09-23 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种硅基异质结电池片金属叠层的制作方法,包括:提供正面已沉积P-型非晶硅薄膜层,反面已沉积N-型非晶硅薄膜层的硅片;在所述硅片正反两面上沉积导电氧化物层;在所述导电氧化物层上沉积沉积结合层,其中结合层为铜合金层;在所述铜合金层上覆光阻材料层,通过掩模曝光,显影后形成金属栅线的图案;在所述金属栅线的图案的铜镍合金层上电镀电镀层;刻蚀掉未经电镀层覆盖的光阻材料层、铜合金层,形成金属叠层。本发明的目的在于要通过在电镀铜层前先在导电氧化物层上沉积一层铜合金层作为过渡结合层,用以增加导电氧化物层与电镀铜层的结合力,并避免电镀铜层在导电氧化物层上的扩散。
  • 一种硅基异质结电池金属制作方法

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