专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]圆浸泡-CN201910344800.8有效
  • 王静强;徐福兴;黄锡钦 - 昆山基侑电子科技有限公司
  • 2019-04-26 - 2023-07-25 - H01L21/67
  • 为了解决现有技术中圆浸泡时间长的技术问题,本发明提供了圆浸泡,槽体内设置有用于吊装舟或者提篮的拉杆组件;拉杆组件包括夹持件、连接件、外管件和内拉杆件,外管件套装在内拉杆件的外部,夹持件与外管件固连,连接件与内拉杆件铰接,夹持件和连接件均与舟或者提篮铰接;槽体外部设置有第一伺服滚珠丝杆副组件和第二伺服滚珠丝杆副组件,第一伺服滚珠丝杆副组件带动圆离开或者没入化学品中,第一伺服滚珠丝杆副组件通过提高或者降低内拉杆件的高度从而调整圆的倾斜的角度,第一伺服滚珠丝杆副组件不停反复运动实现了圆在浸泡槽内的反复晃动,被搅动的化学品不停冲击圆表面,加速了圆表面杂质的剥离速度。
  • 浸泡
  • [实用新型]圆清洗-CN202022781192.8有效
  • 刘佳鑫;童灿钊;赵冬冬;李迁;巫礼杰;仰瑞;高云峰 - 大族激光科技产业集团股份有限公司
  • 2020-11-25 - 2021-10-29 - B08B3/02
  • 本实用新型实施例公开了一种圆清洗,包括清洗池、转轴、圆载台和清洗喷头,圆载台和清洗喷头均设置在清洗池内,清洗池是由侧壁和底座围成的桶状结构,转轴设置在所述底座上,转轴的一端与所述圆载台连接从而带动圆载台转动,清洗喷头位于所述圆载台的上方,清洗喷头用于向圆载台喷淋清洗液,侧壁的内表面对应所述圆载台的位置设有缓冲层。清洗时被甩出的清洗液和圆碎屑以高速撞击到清洗池侧壁时,先撞击到缓冲层上,基于缓冲层的缓冲作用,有效防止清洗液和圆碎屑反弹,提高了圆的清洗质量,也避免了圆和零件被刮伤。
  • 清洗
  • [发明专利]一种用于LED圆制程的载盘-CN202010807837.2在审
  • 林志园;洪金居;陈火宾;肖遥;程伟 - 厦门乾照半导体科技有限公司
  • 2020-08-12 - 2020-11-13 - C23C14/50
  • 本发明提供了一种用于LED圆制程的载盘,包括载盘;载盘上设有一圆放置面,圆放置面上设有圆放置圆放置包括中心圆放置和若干外围圆放置;各外围圆放置以中心圆放置为中心环绕设置;各外围圆放置设置有一挡板,且挡板位于外围圆放置与载盘的平边处;本发明设置与载盘边缘相连的各外围圆放,增加圆放的数量,提升了产能;同时,相邻两个外围圆放置相互紧挨,且与载盘边缘形成一间隙斜面,倾斜面可改善载盘边缘区域的温场及流场,提高沉积混合气体的效率,改善外围圆均匀性差的问题。
  • 一种用于led晶圆制程
  • [实用新型]一种用于LED圆制程的载盘-CN202021673369.6有效
  • 林志园;洪金居;陈火宾;肖遥;程伟 - 厦门乾照半导体科技有限公司
  • 2020-08-12 - 2021-01-29 - C23C14/50
  • 本实用新型提供了一种用于LED圆制程的载盘,包括载盘;载盘上设有一圆放置面,圆放置面上设有圆放置圆放置包括中心圆放置和若干外围圆放置;各外围圆放置以中心圆放置为中心环绕设置;各外围圆放置设置有一挡板,且挡板位于外围圆放置与载盘的平边处;本实用新型设置与载盘边缘相连的各外围圆放,增加圆放的数量,提升了产能;同时,相邻两个外围圆放置相互紧挨,且与载盘边缘形成一间隙斜面,倾斜面可改善载盘边缘区域的温场及流场,提高沉积混合气体的效率,改善外围圆均匀性差的问题。
  • 一种用于led晶圆制程
  • [实用新型]圆托盘及圆片溅镀设备-CN202220644073.4有效
  • 洪俊 - 颀中科技(苏州)有限公司;合肥颀中科技股份有限公司
  • 2022-03-22 - 2022-09-20 - C23C14/50
  • 本实用新型公开了圆托盘及圆片溅镀设备,其中,圆托盘包括:托盘本体,具有朝上开口设置并用于定位圆的圆定位;内防反溅,设置在所述圆定位槽内并向所述圆定位暴露,所述内防反溅呈弧形设置在所述圆定位的边缘,并在所述圆定位的中心相对形成用于支撑圆的圆支撑台。本实用新型在圆定位的边缘设置内防反溅,能够有效的避免边缘部上沉淀形成的金属薄膜在等离子体作用下对圆表面的飞溅,有效的避免了圆定位槽内沉积的离子溅镀到圆上表面的发生,从而提升了镀膜的品质。
  • 托盘晶圆片溅镀设备

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