专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]防反射膜-CN202080054543.5在审
  • 松本裕伸 - 东山薄膜株式会社
  • 2020-07-30 - 2022-03-11 - G02B1/11
  • 防反射膜(10)具有:基材膜(12);硬涂层(16),其形成在基材膜(12)的面上;以及低折射率(14),其形成在硬涂层(16)的面上,低折射率(14)含有:无机氧化颗粒(18),其在低折射率(14)的表面形成凸部;空心二氧化硅颗粒(22),其平均粒径比低折射率(14)的平均厚度小;含氟化合;以及粘结剂树脂,相对于低折射率(14)的固体成分100质量%,无机氧化颗粒(18)的含量为0.1质量%以上、4.0质量%以下,无机氧化颗粒(18)与空心二氧化硅颗粒(22)的总量为10质量%以上、50质量%以下,无机氧化颗粒(18)的平均粒径r与低折射率(14)的平均厚度d的差(r‑d)为10nm
  • 反射
  • [发明专利]阻隔膜及其制作方法-CN201410386722.5在审
  • 于甄;胡坤 - 张家港康得新光电材料有限公司
  • 2014-08-07 - 2014-11-12 - H01L51/52
  • 该阻隔膜包括:柔性基体;设置于柔性基体上的第一无机氧化薄膜;设置于第一无机氧化薄膜上的第二无机氧化薄膜;以及设置于第二无机氧化薄膜上的保护膜,其中,第一无机氧化薄膜由溅射或蒸发工艺制备而成,第二无机氧化薄膜由化学气相沉积工艺制备而成该制作方法包括:提供柔性基体;通过溅射或蒸发工艺在柔性基体上形成第一无机氧化薄膜;通过化学气相沉积工艺在第一无机氧化薄膜上形成第二无机氧化薄膜;以及在第二无机氧化薄膜上形成保护膜。
  • 阻隔及其制作方法
  • [发明专利]一种有机/无机复合膜的制备方法-CN200810117178.9有效
  • 杨万泰;甘胜华;刘莲英;胡进;白华栋 - 北京化工大学
  • 2008-07-25 - 2008-12-17 - C08J7/04
  • 本发明在羟基化基材表面直接引入单层的各种功能性基团、在羟基化基材表面制备不同厚度的SiO2,在聚合基材/SiO2复合膜表面引入各种功能性基团、在聚合基材/SiO2复合膜表面引入另一种功能性无机氧化。前期的亲水性表面的基团参与了与无机氧化反应,从而提高了有机与无机的相容性,因而提高了无机氧化在有机透明膜表面的附着力。进一步在聚合基材/SiO2复合膜表面制备一具有特殊功能的无机金属氧化和反应一具有功能性的基团,使其能在电子器件、生物等广阔的领域进行运用。本发明室温下即可进行,条件温和,而且可用于制备透明的无机厚度从纳米到微米级进行控制。
  • 一种有机无机复合制备方法

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