专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]光学复合结构-CN201520803162.9有效
  • 刘修铭;张裕洋;董志宏 - 位元奈米科技股份有限公司
  • 2015-10-15 - 2016-05-04 - B32B9/04
  • 一种光学复合结构,该光学复合结构包括一基板、一无机金属氧化导电及一有机导电涂料无机金属氧化导电设置于基板的一侧。有机导电涂料设置于无机金属氧化导电的一侧,其中无机金属氧化导电与有机导电涂料的面电阻的差异在50%以内。藉以提供一种光学复合结构,其具有良好的透光性,足够低的面电阻,且有良好的韧性。
  • 光学复合结构
  • [实用新型]一种新型压印结构-CN202222988549.9有效
  • 申建雷;李凡月;沈宝良;黄伟 - 拾斛科技(南京)有限公司
  • 2022-11-10 - 2023-04-25 - G03F7/00
  • 本实用新型公开了一种新型压印结构,包括基底层以及布置在基底层之上的压印,基底层与压印之间布置用于促进基底层与压印之间结合力的增强,增强包含无机透明氧化薄膜。该压印结构采用无机透明氧化薄膜作为压印与基底层之间的增强,利用无机透明氧化薄膜表面含有大量活性的羟基,可以有效提高压印与基底层结合力,无机透明氧化薄膜的工艺成熟,操作无污染,透光性能好,成本低
  • 一种新型压印结构
  • [发明专利]基于复合材料膜的图形化衬底、制备方法及LED外延片-CN202310175665.5在审
  • 曾广艺;王子荣;卢建航 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2023-02-27 - 2023-05-30 - H01L33/00
  • 本发明实施例公开了一种基于复合材料膜的图形化衬底、制备方法及LED外延片,该基于复合材料膜的图形化衬底的制备方法包括:提供一平片蓝宝石衬底;通过第一等离子体增强化学气相沉积工艺,在平片蓝宝石衬底上形成第一无机氧化;通过第二等离子体增强化学气相沉积工艺,在第一无机氧化上形成第二无机氧化,其中,第二无机氧化的氧含量小于第一无机氧化的氧含量。利用上述方法,有助于提高第二无机氧化对于光刻胶的粘附性,以提升光刻胶膜的匀胶良率,减少膜的表面改性增粘处理的步骤,降低匀胶过程中受时限性的限制,避免图形化衬底的脱胶缺陷,提高图形化衬底的制备效率
  • 基于复合材料图形衬底制备方法led外延

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