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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]成膜装置、成膜单元和成膜方法-CN202080106929.6在审
发明人：饭塚贵嗣 -专利权人：饭塚贵嗣
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开内容的主题是提供被配置成改善涂覆形成在基底中的孔的内周表面的膜的粘附性的成膜装置、成膜单元和成膜方法。成膜装置(1)包括：待容纳基底(2)的室(3)；设置在室(3)中的支撑体(4)，所述支撑体(4)被配置成支撑具有在垂直方向上开放的基底(2)的孔(20)的基底(2)；和设置在室(3)中的蒸发源(5)，所述蒸发源
装置单元方法

[发明专利]成膜装置、成膜方法及蒸发源单元-CN202210710546.0在审
发明人：风间良秋;山田美悠 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供抑制成膜装置的大型化的成膜装置、成膜方法及蒸发源单元。成膜装置具备对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜的成膜单元。成膜单元包括：多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并放出蒸镀物质；以及多个监视部件，分别监视来自多个蒸发源的蒸镀物质的放出状态。
装置方法蒸发单元

[发明专利]成膜装置、成膜方法及蒸发源单元-CN202210710881.0在审
发明人：风间良秋;山田美悠 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供有效地进行监视装置对蒸发源的监视的成膜装置、成膜方法及蒸发源单元。成膜装置具备对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜的成膜单元。成膜单元包括：多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并包括放出蒸镀物质的第一蒸发源及第二蒸发源；多个监视部件，包括监视来自第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态的第一监视部件及监视来自第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态的第二监视部件
装置方法蒸发单元

[发明专利]蒸发源单元、成膜装置以及成膜方法-CN202310073900.8在审
发明人：风间良秋;山田尚人;菅原由季;山田美悠 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及蒸发源单元、成膜装置以及成膜方法。抑制从蒸发源放出的蒸镀物质的放出状态的监视精度降低。蒸发源单元对在移动方向上相对移动的基板进行成膜。多个蒸发源包括在蒸发源单元相对于基板的相对移动方向上排列配置的第一蒸发源和第二蒸发源。
蒸发单元装置以及方法

[发明专利]成膜装置、成膜方法及蒸发源单元-CN202210801643.0在审
发明人：田村博之;风间良秋;原雄太郎;高桥龙也;松本行生 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2023-02-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种容易从罩取出蒸发源的成膜装置、成膜方法及蒸发源单元。成膜装置使蒸镀物质气化而在基板上进行成膜。容器形成内部空间，该内部空间包括收容蒸镀物质的收容空间及供气化的蒸镀物质扩散的扩散空间。
装置方法蒸发单元

[发明专利]电极电路、成膜装置、电极单元以及成膜方法-CN200980143808.2无效
发明人：松本浩一;依田英德;冈山智彦;森冈和;矢岛太郎 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2009-11-12 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： C23C16/509 文献下载
摘要：本发明的电极电路为等离子体CVD用电极电路，包括：交流电源；匹配电路，连接于该交流电源；以及平行平板电极，由阳极电极与阴极电极组成的对构成，以所述阳极电极与所述阴极电极的电极面相对的方式配置所述阳极电极与所述阴极电极，所述匹配电路、所述平行平板电极、以及由所述平行平板电极生成的等离子体构成平衡电路。
电极电路装置单元以及方法

[发明专利]CVD成膜装置-CN201080049046.2无效
发明人：濑川利规;冲本忠雄;玉垣浩 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2010-10-18 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明的CVD成膜装置(1)，其中包括：多个成膜室单元(6)，分别具有与等离子体电源连接的成膜辊(2，2)及收纳该成膜辊(2，2)的成膜用单元室(60)，且各成膜辊(2，2)配置成沿水平方向排成一列；以及连接室单元(7)，具有与成膜室单元(6)的成膜用单元室(60)连结的连接用单元室(70)，且该连接室单元介于邻接的成膜室单元(6)之间并连接成膜室单元(6)彼此。基材(W)以缠挂在各成膜室单元(6)的各成膜辊(2，2)的状态被输送，各成膜室单元(6)各自通过等离子体来分解原料气体，该等离子体是通过向成膜辊(2，2)施加电压而在该成膜辊(2，2)附近生成，在成膜辊(2，2)上对所述基材实施成膜处理。
cvd 装置

[发明专利]溅射装置用成膜单元-CN201780041260.5有效
发明人：斋藤修司 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-06-21 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种溅射装置用成膜单元，其不会损害靶相对于磁铁单元自由相对移动的功能，结构简单且维护性良好。本发明的溅射装置用成膜单元(FU)，其中在支撑板(1)上设置有与背板(3)接合的靶(2)；磁铁单元(5)；以及使靶相对磁铁单元沿支撑板进行往返移动的驱动装置(8)。
溅射装置用成膜单元

[发明专利]成膜装置以及脚手架单元-CN202111373132.5在审
发明人：涩谷孝史;加势翔也;佐藤功康 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供提高维护时的作业效率的成膜装置以及脚手架单元。一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置具备：搬送单元，搬送基板；以及成膜源单元，包括成膜源，且能够在搬送单元的下方的第一位置与相对于第一位置在横向上位移了的第二位置之间移动。成膜装置具备脚手架单元，该脚手架单元能够与成膜源单元一起移动，且包括用于访问成膜源单元的脚手架。在成膜源单元位于第二位置的状态下，脚手架能够在收纳于成膜源单元的收纳状态与从成膜源单元展开的展开状态之间位移。
装置以及脚手架单元

[发明专利]成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法-CN202110347231.X在审
发明人：岩崎达哉;安川英宏;锅岛健;松本行生;绪方俊宏;渡部新;菅原洋纪 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法。在多个群集型单元连结的结构的成膜装置中，提供一种用于实现高精度的膜厚控制和高生产性的技术。成膜装置具备：具有对基板成膜出第一层的第一成膜室的群集型的第一单元；具有与第一层重叠地成膜出第二层的第二成膜室的群集型的第二单元；配设在第一单元与第二单元之间并将相邻的群集型的单元连结的连结室；至少一部分设置于连结室包含的通路室内，测定在通路室收容的基板上成膜的膜的膜厚的膜厚测定部；以及基于通过膜厚测定部测定的膜厚，控制第一成膜室的成膜条件及第二成膜室的成膜条件中的至少一方的控制部。
装置方法电子器件制造

[发明专利]彩膜层成膜装置和彩膜层成膜方法-CN201510115209.7有效
发明人：沈武林;林俊仪;方金钢 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-03-16 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜层成膜装置和成膜方法。该彩膜层成膜装置，包括用于对加工膜旋转成型的旋转单元和控制单元，还包括与所述控制单元电连接的色度监测单元，所述色度监测单元用于对所述加工膜的色度进行检测，以及比较所述加工膜的色度与预设色度的差值，进而利用该差值，通过所述控制单元调节所述旋转单元的速度来控制所述加工膜的厚度。该彩膜层成膜装置和彩膜层成膜方法，可以实时监控有色加工膜的色度，从而得到设定的加工膜厚度，从而有效提高有色膜成膜的生产效率，降低有色膜材料的损耗。
装置方法

[发明专利]成膜装置及脚手架单元-CN202111417147.7有效
发明人：涩谷孝史;加势翔也;佐藤功康;泷田裕一 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种提高维护时的作业效率的成膜装置及脚手架单元。一边输送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置具备：输送单元，其对基板进行输送；以及成膜源单元，其包括成膜源，能够在输送单元的下方的第1位置和相对于第1位置在横向上位移的第2位置之间移动。成膜装置具备脚手架单元，所述脚手架单元随着成膜源单元从第1位置向第2位置移动，在输送单元的下方展开脚手架。
装置脚手架单元

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN202210710422.2在审
发明人：菅原由季;原雄太郎;山田尚人 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供对相对地移动的基板均匀地成膜的成膜装置和成膜方法。成膜装置具备：成膜单元，对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜；以及调整部件，调整基板与掩模的位置关系。成膜单元包括分别包含放出蒸镀物质的至少一个蒸发源的第一单元以及第二单元。在通过调整部件使掩模与基板的第一区域重合的第一状态和通过调整部件使掩模与基板的第二区域重合的第二状态中的任一状态下，进行基于第一单元的成膜以及基于第二单元的成膜。
装置方法

[发明专利]一种大视场轻量化头戴显示装置-CN202310867779.6在审
发明人：夏傑;陈朋波;杜晖;江超群 -专利权人：杭州灵伴科技有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种大视场轻量化头戴显示装置，包括：显示像源，出光侧设有线偏振膜；第一成像棱镜单元，包括膜系单元和第一棱镜，膜系单元包括偏振反射单元并贴附于第一棱镜上远离第一成像透镜单元的一侧；第二成像棱镜单元，包括第二棱镜，并靠近膜系单元设置；第一成像透镜单元，远离第一成像棱镜单元的一侧贴附有半透半反膜；偏振转换单元，位于第一成像棱镜单元和第一成像透镜单元之间，或位于偏振反射单元和第二成像棱镜单元之间；并合理设置线偏振膜、膜系单元、偏振转换单元、半透半反膜的厚度。
一种视场量化显示装置

[发明专利]连续成膜装置-CN200980133523.0无效
发明人：玉垣浩;濑川利规 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2009-08-21 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种送出单元、卷取单元的更换作业较容易的连续成膜装置。该连续成膜装置具备真空腔室(1)、成膜辊(2)、对卷挂在其上的被成膜材从侧方供给成膜物质的蒸发源(7L1、7L2、7R)、和将上述被成膜材对上述成膜辊(2)供给的送出单元(3)及将成膜后的被成膜材卷取的卷取单元真空腔室(1)具有用于蒸发源的送入及送出的蒸发源用开口、将其开闭的蒸发源用门部(16L、16R)、与上述蒸发源用开口另外地设置的用于送出单元(3)及卷取单元(4)的送出及送入的被成膜材用开口、和将其开闭的被成膜材用门部
连续装置

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