专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种多晶硅破碎台-CN201711426744.X在审
  • 何振贤 - 登封市绿奥农林科技有限公司
  • 2017-12-26 - 2018-03-27 - B02C23/00
  • 本发明属于单晶硅制备领域,尤其涉及一种多晶硅破碎台,包括与支腿连接的台板,所述台板顶部设有三侧围板和一侧铰接门,铰接门沿台板宽度方向设置,三侧围板与铰接门之间的台板上用于放置紧密排列的多晶,台板上设有漏料孔,漏料孔位于多晶的间隙处,台板底部设有卸料装置,卸料装置与台板转动连接。本发明结构简单,设计合理,能够提高多晶的破碎合格率,同时便于对破碎后的多晶硅碎块卸料,提高生产效率。
  • 一种多晶破碎
  • [发明专利]多晶硅生产工艺-CN201610092668.2有效
  • 齐林喜;郭金强 - 巴彦淖尔聚光硅业有限公司
  • 2016-02-19 - 2021-11-02 - C01B33/03
  • 一种多晶硅生产工艺,包括如下步骤:硅初步生长步骤:在还原炉里通入氢气和二氯二氢硅,在硅芯表面生成多晶硅使硅生长到预定尺寸;硅完整生长步骤:通入三氯氢硅、二氯二氢硅和氢气的混合气体,完成硅生长;开炉步骤:待硅生长完成后,打开还原炉,取出硅。本发明的多晶硅生产工艺,采用两段生长的方式,开始采用二氯二氢硅和氢气反应的方式,比常规氢气还原三氯氢硅的方式生长速度快,一般倒的事故多发生在晶生长的前期,这就减少倒发生的可能,本发明的多晶硅生产工艺,能够减少倒率,降低生产成本。硅完整生长阶段,加入有部分二氯二氢硅,可以有效地增加硅的生成率,提高原料的转化效率10%到15%。
  • 多晶生产工艺
  • [发明专利]一种减少位错缺陷及多晶占比的铸造晶硅制备方法-CN202011154191.9在审
  • 许志 - 福建新峰二维材料科技有限公司
  • 2020-10-26 - 2022-05-13 - C30B29/06
  • 本发明公开了一种减少位错缺陷及多晶占比的铸造晶硅制备方法,方法如下:直拉单晶圆去除边皮后得到无圆角的单晶方;垂直晶硅生长方向将单晶方切割成大籽晶块;所述单晶方或边皮切割成小籽晶块;将所述大、小籽晶块铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;在籽晶层上放置原生多晶硅料、单晶边皮及头尾边等循环料;将装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;将硅锭进行开方,开方后得到小方锭;将小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片本发明使小、大籽晶块接缝处形成功能晶界阻止坩埚四周的多晶晶粒往内部生长,能够显著改善铸造单晶硅片的位错缺陷及多晶占比,从而改善铸造单晶硅片质量。
  • 一种减少缺陷多晶铸造制备方法
  • [发明专利]一种减少位错缺陷及多晶占比的铸造晶硅制备方法-CN202011363122.9在审
  • 许志 - 福建新峰二维材料科技有限公司
  • 2020-11-27 - 2022-05-27 - C30B29/06
  • 本发明公开了一种减少位错缺陷及多晶占比的铸造晶硅制备方法,方法如下:直拉单晶圆去除边皮后得到无圆角的单晶方;垂直晶硅生长方向将单晶方切割成大籽晶块;所述单晶方或边皮切割成小籽晶块;将所述大、小籽晶块铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;在籽晶层上放置原生多晶硅料、单晶边皮及头尾边等循环料;将装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;将硅锭进行开方,开方后得到小方锭;将小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片本发明小籽晶块与大籽晶块接缝处形成的功能晶界阻止坩埚四周的多晶晶粒往内部生长,降低多晶占比,将大籽晶块设计成长条形,减少籽晶接缝,减少了硅片的位错缺陷。
  • 一种减少缺陷多晶铸造制备方法
  • [发明专利]多晶硅热处理装置以及利用其对多晶硅热处理的方法-CN202310133856.5在审
  • 闫家强;张天雨;吴鹏;田新 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2023-02-17 - 2023-05-30 - C30B33/02
  • 本发明提供了晶硅热处理装置以及利用其对多晶硅热处理的方法。该装置包括:多晶硅放置架包括第一底座、主体骨架和套环,主体骨架固定在第一底座的上,主体骨架具有沿第一方向延伸的固定架和隔板,隔板上具有至少一个穿孔,多晶穿设在穿孔中;套环在多个隔板的中间穿设,套环的一端勾设在第一底座上;加热炉具有加热空间,多晶放置架放置在加热空间内,炉壁设置在第二底座上,炉壁上具有进气口和出气口,加热管设置在所述炉壁上,冷冻水盘管设置在炉壁上,其具有进水口和出水口,封盖用于密封加热空间。利用上述装置对多晶硅热处理,之后再对多晶进行快速降温,后续通过敲击、挤压破碎手段处理多晶时,产生粉料会很少。
  • 多晶热处理装置以及利用方法
  • [实用新型]直径检测装置及48对还原炉-CN201720826233.6有效
  • 王生红;唐国强;屈武;李超军;邓华;蔡延国;宗冰 - 亚洲硅业(青海)有限公司
  • 2017-07-07 - 2018-01-09 - G01B21/08
  • 本实用新型涉及多晶硅生产技术领域,解决现有技术中的炉内硅直径增长采用人工估计存在偏差,对沉积效率的优化带来困难的问题,提供一种硅直径检测装置及48对还原炉。本实用新型提供的硅直径检测结构,距离传感器用于检测距离传感器与多晶外周面的距离,控制装置根据距离传感器获取的距离多晶硅外周面的多次距离,计算出多晶硅的直径,并将该数据传递给显示装置,显示装置实时显示还原炉内硅直径的变化情况由于48对还原炉包括上述的硅直径检测结构,因此也具有准确控制原料气以及电流加入量,进而使物料、电流匹配达到最佳效果,优化沉积效率的有益效果。
  • 直径检测装置48还原

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