专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]钙钛矿碱土矾酸盐薄膜异质结构及其制备方法-CN202210124482.6在审
  • 郑明;关朋飞 - 中国矿业大学
  • 2022-02-10 - 2022-05-27 - H01L43/08
  • 本发明公开了钙钛矿碱土矾酸盐薄膜异质结构及其制备方法,异质结构包含单晶衬底和在衬底上外延生长的钙钛矿碱土矾酸盐薄膜;制备方法,包括以下步骤:步骤1:选取钙钛矿碱土矾酸盐陶瓷块体为靶材;步骤2:采用脉冲激光沉积技术,在单晶衬底上沉积一层外延的钙钛矿碱土矾酸盐薄膜。本发明将碱土钒酸盐薄膜外延生长在单晶衬底上,通过控制纵向施加的直流电场强度,使单晶衬底产生逆压电效应,引入面内应变,从而实现对碱土矾酸盐薄膜电阻的调控,呈现出致电阻效应,这对于关联金属材料在新一代电场可调的低功耗非易失性电子器件中的应用具有重要的指导意义
  • 钙钛矿型碱土矾酸盐薄膜铁电异质结构及其制备方法
  • [发明专利]一种三方相弛豫单晶退极化抑制方法-CN202111199232.0有效
  • 张双捷;宋丕麒 - 哈尔滨工程大学
  • 2021-10-14 - 2022-08-02 - C30B29/22
  • 一种三方相弛豫单晶退极化抑制方法。本发明属于压电材料领域。本发明的目的是为了解决三方相弛豫单晶由于矫顽场较低,在大驱动电场的作用下容易退极化的技术问题。本发明根据晶体畴结构和各向异性特征选择晶体切、极化方向和应力施加方向,以确保所选三方相弛豫单晶的自发极化方向向极化方向旋转,从而确定极化方向和应力施加方向,并通过施加合适的应力对单晶退极化场强展开调控,从而增大退极化场强,抑制驰豫单晶退极化。本发明的方法无需使用复杂的直流偏置装置或额外电子元件,不增加整体系统的复杂度,操作简单,易于实现,可提高三方相弛豫单晶所能承受的驱动电场强度,有效提高换能器最大声源级和输出功率。
  • 一种三方相弛豫铁电单晶退极化抑制方法
  • [发明专利]一种USB连接器的壳与胶芯自动化组装设备-CN202111446072.5在审
  • 韩林;黄磊;王钰;王拥军 - 广东联基精密工业有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-03-11 - B23P21/00
  • 本发明公开一种USB连接器的壳与胶芯自动化组装设备,包括本体上料工位、壳上料工位、底盖上料工位、底盖组装工位、底盖入工位、本体组装工位、本体入工位、壳后盖铆工位、壳侧面铆工位、组装品平移取出工位、壳整形工位、测工位以及测后排不良工位;底盖上料工位、壳上料工位分别衔接于底盖组装工位,本体上料工位衔接于本体组装工位,底盖组装工位、底盖入工位、本体组装工位、本体入工位、壳后盖铆工位、壳侧面铆工位、组装品平移取出工位、壳整形工位、测工位以及测后排不良工位依次设置。
  • 一种usb连接器自动化组装设备
  • [发明专利]电门器件-CN200710139132.2无效
  • 丰田健治;大塚隆 - 松下电器产业株式会社
  • 2003-07-15 - 2008-01-09 - G11C11/22
  • 元件,具有:电容器、与所述电容器串联连接的开关元件、输入端子和接地端子,开关元件由N场效应晶体管、和P场效应晶体管构成,N和P场效应晶体管的源极均与输入端子连接,N和P场效应晶体管的漏极均与电容器的一端连接,N和P场效应晶体管的栅极、以及电容器的另一端与接地端子连接,在输入端子上施加电压时,如果在电容器上施加电容器具有的铁电体的矫顽电压以上的电压时,则开关元件作为电阻工作,在输入端子上施加电压时,如果在电容器上施加比矫顽电压小的电压时,开关元件作为电容器工作。
  • 电门器件
  • [发明专利]具有应力限制层的位移超晶格薄膜材料及其制备方法-CN200510020476.2无效
  • 李燕;邓宏;姜斌;郝兰众;张鹰 - 电子科技大学
  • 2005-03-08 - 2006-09-13 - C23C14/04
  • 本发明提出了一种具有应力限制层的位移超晶格薄膜材料及其制备方法,该种材料结构上包括基片、缓冲层、位移超晶格薄膜和金属电极,与现有技术不同的是,该种材料在位移超晶格薄膜和金属电极之间还有一层应力限制层,应力限制层选用与位移超晶格薄膜具有类似晶格结构的、单晶格常数小于位移超晶格薄膜晶格常数的材料来制作。加入应力限制层之后的位移超晶格薄膜材料大大减小了位移超晶格薄膜的介损耗,其损耗比同样厚度、同样工艺生长的BaTiO3/SrTiO3超晶格以及单层薄膜BaTiO3都小一个数量级,并且超晶格薄膜的剩余极化强度增加近四十倍。本发明所采用的制备方法主要是利用激光束外延生长技术依次生长缓冲层、位移超晶格薄膜和应力限制层,利用真空蒸发技术蒸镀金属电极。
  • 具有应力限制位移型铁电超晶格薄膜材料及其制备方法
  • [发明专利]一种氧化铪基薄膜电容的性能优化方法-CN202310104007.7在审
  • 廖敏;罗梓綦;曾斌建;郑帅至;彭强祥 - 湘潭大学
  • 2023-02-11 - 2023-05-12 - H01G7/06
  • 本发明属于薄膜电容技术领域。本发明提供了一种氧化铪基薄膜电容的性能优化方法,在衬底一面顺次沉积第一金属层、氧化铪基薄膜、第二金属层,得到金属‑‑金属结构的电容;对金属‑‑金属结构的电容进行热处理后,顺次进行刻蚀第二金属层、在氧化铪基薄膜上沉积能够对氧化铪基薄膜施加面内应力的第三电极层,得到金属‑‑金属结构的氧化铪基薄膜电容。本发明氧化铪基薄膜电容的性能优化方法相较于传统的金属后退火(PMA)处理,通过沉积能够对氧化铪基薄膜施加面内应力的第三电极层可进一步提高氧化铪基薄膜电容的极化强度,进一步优化氧化铪基薄膜的铁电性能
  • 一种氧化铪基铁电薄膜电容性能优化方法
  • [实用新型]一种通用-CN202120606947.2有效
  • 杨红兵;王耀 - 无锡蠡湖增压技术股份有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-11-16 - B22C9/08
  • 本实用新型公开了一种通用,包括本体和浇口杯本体,所述本体的上半段中心竖向设置有进铝口,且本体的下半段内部竖向设置有内圆,所述本体的底端端面嵌入安装有密封圈,所述浇口杯本体安置在本体的下方该通用可以实现铁通用,降低制作成本,也避免了换型时匹配的麻烦,操作过程中方便简单且能避免漏液的问题,通过保证内圆直径小于浇口杯内圆直径,且密封圈外圆直径大于浇口杯外圆直径,可以实现铁通用,即使内圆产生磨损,也不会出现漏液情况,操作人员使用时只需要保证密封圈罩在浇口杯壁上即可,操作方便。
  • 一种通用型

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